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光纖接頭、光分路器的制作方法

文檔序號:40553980發(fā)布日期:2025-01-03 11:13閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種光纖接頭,其特征在于,所述光纖接頭包括:殼體和并行排布的多根光纖;

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光纖接頭,其特征在于,所述殼體包括:相對設(shè)置的第一結(jié)構(gòu)和第二結(jié)構(gòu),所述多根光纖位于所述第一結(jié)構(gòu)和所述第二結(jié)構(gòu)之間;

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光纖接頭,其特征在于,所述殼體內(nèi)部具有所述多根光纖中m根光纖各自對應(yīng)的空腔,m≥1,對于所述m根光纖中的一根光纖對應(yīng)的所述空腔和所述限位槽:

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光纖接頭,其特征在于,所述m根光纖包括:第一光纖,所述第一光纖中被所述殼體包裹的部分具有第一光柵,所述第一光柵中的至少部分區(qū)域連接所述第一光纖對應(yīng)的第一空腔。

5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的光纖接頭,其特征在于,所述m根光纖包括:第二光纖,所述第二光纖中被所述殼體包裹的部分具有第二光柵,所述第二光柵與所述第二光纖對應(yīng)的第二空腔隔離。

6.根據(jù)權(quán)利要求3至5任一所述的光纖接頭,其特征在于,所述m根光纖對應(yīng)的空腔包括:環(huán)狀空腔和條狀空腔中的至少一種空腔,所述條狀空腔的長度方向垂直于所述光纖的長度方向。

7.根據(jù)權(quán)利要求3至6任一所述的光纖接頭,其特征在于,所述第一結(jié)構(gòu)和所述第二結(jié)構(gòu)中的至少一個結(jié)構(gòu)靠近所述多根光纖的表面具有用于形成所述空腔的空槽。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光纖接頭,其特征在于,所述m根光纖對應(yīng)的空腔包括:由所述第一結(jié)構(gòu)中的第一空槽和所述第二結(jié)構(gòu)中的第二空槽連通而成的空腔。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光纖接頭,其特征在于,所述第一空槽在參考平面上的正投影與所述第二空槽在所述參考平面上的正投影重合,所述參考平面垂直于所述第一結(jié)構(gòu)和所述第二結(jié)構(gòu)的排布方向。

10.根據(jù)權(quán)利要求1至9任一所述的光纖接頭,其特征在于,所述光纖的兩端的端面包括:第一類端面和第二類端面中的至少一類端面,所述第一類端面凸出于所述殼體的表面,所述第二類端面與所述殼體的表面齊平。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光纖接頭,其特征在于,所述殼體包括:相對設(shè)置的第一結(jié)構(gòu)和第二結(jié)構(gòu),所述多根光纖位于所述第一結(jié)構(gòu)和所述第二結(jié)構(gòu)之間;所述第一結(jié)構(gòu)和所述第二結(jié)構(gòu)中的至少一個結(jié)構(gòu)靠近所述多根光纖的表面具有與所述多根光纖一一對應(yīng)的多個限位槽,所述光纖位于對應(yīng)的限位槽內(nèi);

12.根據(jù)權(quán)利要求1至11任一所述的光纖接頭,其特征在于,所述殼體包括:相對設(shè)置的第一結(jié)構(gòu)和第二結(jié)構(gòu),所述多根光纖位于所述第一結(jié)構(gòu)和所述第二結(jié)構(gòu)之間;所述第一結(jié)構(gòu)和所述第二結(jié)構(gòu)中的至少一個結(jié)構(gòu)靠近所述多根光纖的表面具有與所述多根光纖一一對應(yīng)的多個限位槽,所述光纖位于對應(yīng)的限位槽內(nèi);

13.一種光分路器,其特征在于,包括:權(quán)利要求1至11任一所述的光纖接頭,以及光波導(dǎo)器件;


技術(shù)總結(jié)
一種光纖接頭、光分路器,屬于光通信技術(shù)領(lǐng)域。該光纖接頭包括:殼體和并行排布的多根光纖。殼體包裹多根光纖,且光纖的兩端的端面均裸露在殼體外。多根光纖中的至少一根光纖中被殼體包裹的部分具有光柵,在至少一根光纖包括至少兩根光纖時,該至少兩根光纖上的光柵互不相同。本申請將至少一根光纖上的光柵設(shè)置在光纖中被光纖接頭包裹的部分中,在制備光纖接頭時,本身就需要執(zhí)行剝纖和用殼體封裝接頭的流程,因此,可以在制備光纖接頭的過程中完成在光纖上設(shè)置光柵的操作。從而避免了在制備光纖接頭之外的工序中制備光柵和封裝光柵所帶來的效率較低的問題。

技術(shù)研發(fā)人員:李鋒,高新霞
受保護(hù)的技術(shù)使用者:華為技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/1/2
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