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用于生成線寬優(yōu)化圖案的方法和系統(tǒng)與流程

文檔序號:40532452發(fā)布日期:2024-12-31 13:48閱讀:28來源:國知局
用于生成線寬優(yōu)化圖案的方法和系統(tǒng)與流程

本技術(shù)涉及圖案印刷及其設(shè)備,并且具體地涉及用于獲得用于工件圖案形成設(shè)備的補償圖案的方法、用于校準(zhǔn)印刷數(shù)據(jù)的方法、用于印刷圖案的方法及其設(shè)備。


背景技術(shù):

1、在當(dāng)今的半導(dǎo)體工業(yè)中,由基于激光的掩模寫入器產(chǎn)生的掩模通常用于制造不同種類的高級芯片和成像設(shè)備。用于例如電子封裝的直接寫入器如今也是標(biāo)準(zhǔn)的。在過去幾年中,更大和更精確的顯示器的生產(chǎn)也大大增加。因此,要求例如微平版印刷工藝更快、更精確和更便宜。

2、在微平版印刷工藝領(lǐng)域中,掩模寫入器或直接寫入器可以基于提供一個或多個精確激束的印刷頭。通過移動印刷頭或基板或兩者,印刷頭和要對其執(zhí)行寫入的基板可相對于彼此移動。通過改變與相對運動相協(xié)調(diào)的激束的功率,可以將曝光圖案寫到基板上。

3、印刷的精度是至關(guān)重要的。與預(yù)期圖案的偏差,例如臨界尺寸(cd)、臨界尺寸線性(critical?dimension?linearity,cdl)或定位誤差,即使在幾納米到幾百納米的范圍內(nèi)也可能對最終結(jié)果有害或降級。這種印刷誤差通常是由印刷頭的機械和/或光學(xué)性質(zhì)的缺陷引起的。

4、在公開的美國專利us?7,919,218?b2中,公開了一種用于多曝光束光刻工具的方法。本發(fā)明描述了一種通過同時使用多個曝光束對覆蓋有對電磁輻射敏感的層的工件進行圖案形成的方法。確定是否有任何束相對于參考束具有與其預(yù)期位置不同的實際位置。如果所述束被印刷在特征的邊緣處,則對錯誤定位的束執(zhí)行曝光劑量的調(diào)整。

5、這樣的校正被設(shè)計為校正束位置誤差,但是與預(yù)期圖案的偏差也可以取決于許多其他原因,這些原因不能通過這樣的曝光調(diào)整來補償。

6、在公開的國際專利申請wo?2021/254726?a1中,公開了一種用于獲得用于工件圖案形成設(shè)備的補償圖案的方法。根據(jù)具有多個邊緣的校準(zhǔn)圖案印刷數(shù)據(jù),用沿第二方向可掃掠(sweepable)的多個同時操作的曝光束印刷校準(zhǔn)圖案。測量邊緣的位置。計算測量位置相對校準(zhǔn)圖案的偏差。每個偏差與所使用的曝光束、掃掠位置和柵格分數(shù)位置相關(guān)聯(lián)。計算邊緣補償數(shù)據(jù),用于在印刷之前適配圖案印刷數(shù)據(jù)的邊緣表示,以補償所計算的偏差。邊緣補償數(shù)據(jù)取決于所使用的曝光束、掃掠位置和柵格分數(shù)位置。

7、這樣的校正被設(shè)計為校正cd誤差,但是cdl偏差可能仍然存在。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本技術(shù)的一般目的是改善臨界尺寸線性。

2、上述目的通過根據(jù)獨立權(quán)利要求的方法和設(shè)備來實現(xiàn)。

3、在從屬權(quán)利要求中限定了優(yōu)選實施例。

4、一般而言,在第一方面,一種用于獲得用于工件圖案形成設(shè)備的線寬補償數(shù)據(jù)的方法包括用在掃掠方向上可掃掠的曝光束來印刷校準(zhǔn)圖案。根據(jù)校準(zhǔn)圖案印刷數(shù)據(jù)執(zhí)行印刷。校準(zhǔn)圖案具有在掃掠方向上延伸的多條曝光線和未曝光線,多條曝光線和未曝光線具有不同的線寬和到相鄰線的不同距離。在印刷的校準(zhǔn)圖案中在垂直于掃掠方向的掃描方向上測量線的線寬。根據(jù)校準(zhǔn)圖案印刷數(shù)據(jù)來計算線的所測量的線寬相對于線的預(yù)期線寬的偏差?;谒嬎愕钠顏碛嬎憔€寬補償數(shù)據(jù)。線寬補償數(shù)據(jù)旨在用于在印刷之前適配圖案印刷數(shù)據(jù)的線寬以補償所計算的偏差。線寬補償數(shù)據(jù)至少與預(yù)期線寬和關(guān)于該線是曝光線還是未曝光線的信息相關(guān)聯(lián)。

5、在第二方面,一種用于獲得線寬補償?shù)挠∷?shù)據(jù)的方法包括獲得待印刷的圖案的印刷數(shù)據(jù)。識別待印刷的圖案中掃掠方向上的線。確定線的線屬性。線屬性至少包括線寬和關(guān)于線是未曝光線還是曝光線的信息。從線寬補償數(shù)據(jù)推導(dǎo)用于每條識別的線的線寬調(diào)整值?;诖_定的線寬和關(guān)于線是未曝光線還是曝光線的信息,通過根據(jù)第一方面的方法獲得線寬補償數(shù)據(jù)。根據(jù)線寬調(diào)整值將定義所識別的線的印刷數(shù)據(jù)適配為線寬補償?shù)挠∷?shù)據(jù)。

6、在第三方面,一種用于印刷圖案的方法包括獲得線寬補償?shù)挠∷?shù)據(jù)。線寬補償?shù)挠∷?shù)據(jù)通過根據(jù)第二方面的方法獲得,與待印刷的圖案相關(guān)?;诰€寬校正的印刷數(shù)據(jù)來控制至少部分地覆蓋有對電磁輻射或電子輻射敏感的層的工件的印刷過程。

7、在第四方面,一種用于獲得用于工件圖案形成設(shè)備的線寬補償數(shù)據(jù)的系統(tǒng)包括印刷設(shè)備、測量設(shè)備和處理設(shè)備。印刷設(shè)備被配置用于用在掃掠方向上可掃掠的曝光束來創(chuàng)建校準(zhǔn)圖案。印刷設(shè)備被配置為根據(jù)校準(zhǔn)圖案印刷數(shù)據(jù)執(zhí)行印刷。校準(zhǔn)圖案具有在掃掠方向上延伸的多條曝光線和未曝光線,多條曝光線和未曝光線具有不同的線寬和到相鄰線的不同距離。測量設(shè)備被布置成用于在印刷的校準(zhǔn)圖案中在垂直于掃掠方向的掃描方向上測量線的線寬。處理設(shè)備被配置用于根據(jù)校準(zhǔn)圖案印刷數(shù)據(jù)來計算線的測量的線寬相對于線的預(yù)期線寬的偏差。所述處理設(shè)備還被配置用于基于所計算的偏差來計算線寬補償數(shù)據(jù),所述線寬補償數(shù)據(jù)用于在印刷之前適配圖案印刷數(shù)據(jù)的線寬以補償所計算的偏差。線寬補償數(shù)據(jù)至少與預(yù)期線寬和關(guān)于該線是曝光線還是未曝光線的信息相關(guān)聯(lián)。

8、在第五方面,一種用于處理定義待印刷的圖案的印刷數(shù)據(jù)的設(shè)備包括處理電路和存儲器。存儲器包括可由處理電路執(zhí)行的指令。由此,處理電路可操作以獲得用于待印刷的圖案的印刷數(shù)據(jù)。處理電路還可操作以識別待印刷的圖案中掃掠方向上的線。處理電路還可操作以確定線的線屬性。線屬性至少包括線寬和關(guān)于線是未曝光線還是曝光線的信息。處理電路還可操作以基于所確定的線寬和關(guān)于該線是未曝光線還是曝光線的信息,從通過根據(jù)第一方面的方法獲得的線寬補償數(shù)據(jù)推導(dǎo)用于每條識別的線的線寬調(diào)整值。處理電路還可操作以根據(jù)所述線寬調(diào)整值將定義所識別的線的印刷數(shù)據(jù)適配為線寬補償?shù)挠∷?shù)據(jù)。

9、在第六方面,印刷設(shè)備包括用于處理線寬補償?shù)挠∷?shù)據(jù)的設(shè)備、印刷頭和控制單元。線寬補償?shù)挠∷?shù)據(jù)是通過根據(jù)第五方面的用于處理印刷數(shù)據(jù)的設(shè)備獲得的。印刷設(shè)備是第四方面的用于獲得用于工件圖案形成設(shè)備的補償圖案的系統(tǒng)的印刷設(shè)備。印刷頭具有在沿掃掠方向上可掃掠的曝光束??刂茊卧徊贾脼榛诰€寬補償?shù)挠∷?shù)據(jù)來控制印刷頭的操作和相對運動。

10、所提出的技術(shù)的一個優(yōu)點是數(shù)據(jù)中的補償變得非??芍貜?fù),并且可以通過線性測量來校準(zhǔn)。因此,它可以根據(jù)所有條件和系統(tǒng)類型進行調(diào)整??梢酝ㄟ^新的測量來執(zhí)行重新校準(zhǔn)。



技術(shù)特征:

1.一種用于獲得用于工件圖案形成設(shè)備的線寬補償數(shù)據(jù)的方法,包括以下步驟:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于還包括以下步驟:

3.一種用于獲得線寬補償?shù)挠∷?shù)據(jù)的方法,包括以下步驟:

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,

5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的方法,其特征在于,

6.根據(jù)權(quán)利要求3至5中任一項所述的方法,其特征在于,

7.一種用于印刷圖案的方法,包括以下步驟:

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,控制(s22)所述印刷過程的步驟包括控制同時操作的曝光束(34),以在掃掠方向(y)上提供微掃掠,同時在垂直于所述掃掠方向(y)的掃描方向(x)上被掃描,從而創(chuàng)建掃描條帶。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其特征在于,控制(s22)所述印刷過程的步驟還包括創(chuàng)建在所述掃掠方向上移位的多個所述掃描條帶。

10.一種用于獲得用于工件圖案形成設(shè)備的線寬補償數(shù)據(jù)的系統(tǒng)(70),包括:

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的系統(tǒng),其特征在于,

12.一種用于處理定義待印刷的圖案的印刷數(shù)據(jù)的設(shè)備(80),包括:

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的設(shè)備,其中,

14.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的設(shè)備,其特征在于,

15.一種印刷設(shè)備(1),包括:


技術(shù)總結(jié)
一種用于獲得用于工件圖案形成設(shè)備的線寬補償數(shù)據(jù)的方法,包括用在沿掃掠方向上可掃掠的曝光束印刷(S2)校準(zhǔn)圖案。校準(zhǔn)圖案具有在掃掠方向上延伸的多條曝光線和未曝光線,多條曝光線和未曝光線具有不同的線寬和到相鄰線的不同距離。測量線寬(S4)。計算所測量的線寬的偏差(S6)?;谒嬎愕钠睿嬎憔€寬補償數(shù)據(jù)(S8),用于在印刷之前適配圖案印刷數(shù)據(jù)的線寬以補償所計算的偏差。線寬補償數(shù)據(jù)至少與預(yù)期線寬和關(guān)于該線是曝光線還是未曝光線的信息相關(guān)聯(lián)。還公開了用于校準(zhǔn)印刷數(shù)據(jù)的方法和用于基于其印刷圖案的方法以及用于校準(zhǔn)印刷數(shù)據(jù)的系統(tǒng)。

技術(shù)研發(fā)人員:F·伊仁
受保護的技術(shù)使用者:邁康尼股份公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2024/12/30
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