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帶相位差層的偏振片的制造方法與流程

文檔序號(hào):40557921發(fā)布日期:2025-01-03 11:17閱讀:10來源:國(guó)知局
帶相位差層的偏振片的制造方法與流程

本發(fā)明涉及帶相位差層的偏振片的制造方法。


背景技術(shù):

1、以液晶顯示裝置及電致發(fā)光(el)顯示裝置(例如,有機(jī)el顯示裝置、無(wú)機(jī)el顯示裝置)為代表的圖像顯示裝置正在迅速普及。在圖像顯示裝置中,為了實(shí)現(xiàn)圖像顯示、和/或提高該圖像顯示的性能,已廣泛使用了包含偏振片和相位差膜(相位差層)的帶相位差層的偏振片。另一方面,近年來開發(fā)了圖像顯示裝置的新用途。作為這樣的用途的一例,可舉出虛擬現(xiàn)實(shí)(vr)護(hù)目鏡。在vr護(hù)目鏡中適用帶相位差層的偏振片的情況下,其尺寸與以往的用途相比顯著變小。其結(jié)果是,在以往的用途中未成為問題的起偏鏡的吸收軸和/或相位差層的慢軸的軸偏移成為了實(shí)質(zhì)性的問題。

2、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

3、專利文獻(xiàn)

4、專利文獻(xiàn)1:日本特開2013-182162號(hào)公報(bào)


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、發(fā)明所要解決的問題

2、本發(fā)明是為了解決上述問題而完成的,其主要目的在于提供能夠有效地制造起偏鏡的吸收軸方向及相位差層的慢軸方向得到了極為精密的控制的帶相位差層的偏振片的方法。

3、解決問題的方法

4、本發(fā)明的實(shí)施方式的帶相位差層的偏振片的制造方法包括:對(duì)于在長(zhǎng)度方向上具有慢軸的相位差膜的原膜卷,一邊對(duì)在該原膜卷的寬度方向上該慢軸相對(duì)于長(zhǎng)度方向的偏移進(jìn)行修正一邊將其沖裁成給定尺寸,得到在長(zhǎng)邊方向上具有慢軸的單片的相位差層中間體;將在長(zhǎng)度方向上具有吸收軸的偏振片的原膜卷沖裁成與該相位差層中間體相同的尺寸,得到在相對(duì)于長(zhǎng)邊方向45°方向上具有吸收軸的單片的偏振片中間體;將該相位差層中間體與該偏振片中間體以使外緣一致的方式貼合,得到偏振片的吸收軸與相位差層的慢軸所成的角度為45°的帶相位差層的偏振片中間體;以及,對(duì)該帶相位差層的偏振片中間體進(jìn)行沖裁,得到在長(zhǎng)邊方向上具有吸收軸的給定尺寸的帶相位差層的偏振片片材。

5、在一個(gè)實(shí)施方式中,上述制造方法包括:由上述相位差膜的原膜卷在寬度方向上得到3片~16片上述相位差層中間體。

6、在一個(gè)實(shí)施方式中,上述相位差層中間體及上述偏振片中間體為短邊75mm~310mm的矩形。

7、在一個(gè)實(shí)施方式中,上述帶相位差層的偏振片片材為長(zhǎng)邊10mm~70mm及短邊10mm~70mm的矩形。

8、發(fā)明的效果

9、根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式,能夠?qū)崿F(xiàn)可有效地制造起偏鏡的吸收軸方向及相位差層的慢軸方向得到了極為精密的控制的帶相位差層的偏振片的方法。



技術(shù)特征:

1.一種帶相位差層的偏振片的制造方法,該方法包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法,該方法包括:

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制造方法,其中,

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制造方法,其中,


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供能夠有效地制造起偏鏡的吸收軸方向及相位差層的慢軸方向得到了極為精密的控制的帶相位差層的偏振片的方法。本發(fā)明的實(shí)施方式的帶相位差層的偏振片的制造方法包括:對(duì)于在長(zhǎng)度方向上具有慢軸的相位差膜的原膜卷,一邊對(duì)在該原膜卷的寬度方向上慢軸相對(duì)于長(zhǎng)度方向的偏移進(jìn)行修正一邊將其沖裁成給定尺寸,得到在長(zhǎng)邊方向上具有慢軸的單片的相位差層中間體;將在長(zhǎng)度方向上具有吸收軸的偏振片的原膜卷沖裁成與相位差層中間體相同的尺寸,得到在相對(duì)于長(zhǎng)邊方向45°方向上具有吸收軸的單片的偏振片中間體;將相位差層中間體與偏振片中間體以使外緣一致的方式貼合,得到偏振片的吸收軸與相位差層的慢軸所成的角度為45°的帶相位差層的偏振片中間體;以及對(duì)帶相位差層的偏振片中間體進(jìn)行沖裁,得到在長(zhǎng)邊方向上具有吸收軸的給定尺寸的帶相位差層的偏振片片材。

技術(shù)研發(fā)人員:田中卓哉,麻野井祥明,伊崎章典
受保護(hù)的技術(shù)使用者:日東電工株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/1/2
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