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透鏡的制作方法

文檔序號:40567605發(fā)布日期:2025-01-03 11:28閱讀:9來源:國知局
透鏡的制作方法

下面的描述涉及透鏡。


背景技術(shù):

1、與汽車電氣組件相關(guān)的技術(shù)(諸如高級駕駛輔助系統(tǒng)(adas)、自動駕駛等)以及電子相機(jī)模塊和光學(xué)傳感器正在不斷發(fā)展。

2、具體地,針對使用透鏡的相機(jī)模塊的市場正在快速增長。在車輛中使用的相機(jī)也已經(jīng)在諸如前部/后部/側(cè)部的各種位置被采用。

3、然而,對于用于車輛的相機(jī),由于相機(jī)大部分時(shí)間暴露在外部,因此可能經(jīng)常會因外部環(huán)境而出現(xiàn)異物吸附、透鏡表面污染和劃痕等缺陷,這些缺陷可能會影響相機(jī)模塊的性能。

4、用于電子組件的透鏡中的最外面透鏡可以在多層堆疊結(jié)構(gòu)中實(shí)現(xiàn)抗反射特性,并且通常使用的材料可以包括基于氧化物的材料,諸如tio2、sio2等。

5、以上信息作為背景信息呈現(xiàn),僅用以幫助理解本公開。關(guān)于以上內(nèi)容中的任何內(nèi)容是否可以作為關(guān)于本公開的現(xiàn)有技術(shù)應(yīng)用,沒有作出確定,并且沒有作出斷言。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、提供本
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
是為了以簡化的形式介紹對構(gòu)思的選擇,而在以下具體實(shí)施方式中進(jìn)一步描述這些構(gòu)思。本發(fā)明內(nèi)容不旨在標(biāo)識所要求保護(hù)的主題的關(guān)鍵特征或必要特征,也不旨在用于幫助確定所要求保護(hù)的主題的范圍。

2、在一個(gè)一般方面,透鏡包括:透鏡部分;多層抗反射(ar)涂層,包括低折射率層和高折射率層中的一個(gè)或兩個(gè),并且設(shè)置在透鏡部分的一個(gè)表面上;以及防水層,包括防水劑,并且設(shè)置在多層ar涂層的一個(gè)表面上。低折射率層和高折射率層中的一個(gè)或兩個(gè)由帶隙大于3.1ev的基于氮化物的材料形成。

3、低折射率層可以包括由sio2形成的第一層,以及高折射率層包括由tio2形成的第二層。

4、低折射率層可以包括由基于氮化物的材料形成的第四層,以及高折射率層可以包括由基于氮化物的材料形成的第三層。

5、第四層可以由tin形成,以及第三層可以由si3n4或aln形成。

6、第四層的厚度可以為50nm或更小。

7、低折射率層可以包括由sio2形成的第一層和由基于氮化物的材料形成的第四層,并且高折射率層可以包括由tio2形成的第二層和由基于氮化物的材料形成的第三層。

8、在多層ar涂層中,第一層和第二層可以交替地堆疊,并且多層ar涂層的最上部分可以是第三層或第四層。

9、低折射率層可以包括由sio2形成的第一層,以及高折射率層可以包括由基于氮化物的材料形成的第三層。

10、在多層ar涂層的最上端的第一層上,還可以設(shè)置第三層和第四層中的一個(gè)或兩個(gè)作為一個(gè)或多個(gè)層,第四層是由基于氮化物的材料形成的低折射率層。

11、低折射率層可以包括由基于氮化物的材料形成的第四層,以及高折射率層可以包括由tio2形成的第二層。

12、在多層ar涂層的最上端的第二層上,還可以設(shè)置第四層和第三層中的一個(gè)或兩個(gè)作為一個(gè)或多個(gè)層,第三層是由基于氮化物的材料形成的高折射率層。

13、在多層ar涂層中,第一層和第二層可以交替地堆疊,并且由基于氮化物的材料形成的具有高折射率的第三層或具有低折射率的第四層可以設(shè)置在其中間部分中。

14、第三層或第四層可以形成為比第一層和第二層更厚。

15、第三層和第四層中的一個(gè)或兩個(gè)還可以設(shè)置在多層ar涂層的最上端處作為一個(gè)或多個(gè)層。

16、透鏡還可以包括功能性涂層,該功能性涂層包括uv改進(jìn)添加劑,并且設(shè)置在多層ar涂層和防水層之間。

17、根據(jù)以下具體實(shí)施方式、附圖和權(quán)利要求書,其它特征和方面將是顯而易見的。



技術(shù)特征:

1.一種透鏡,包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透鏡,其中,所述低折射率層包括由sio2形成的第一層,以及

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透鏡,其中,所述低折射率層包括由基于氮化物的材料形成的第四層,以及

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的透鏡,其中,所述第四層由tin形成,以及所述第三層由si3n4或aln形成。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的透鏡,其中,所述第四層的厚度為50nm或更小。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透鏡,其中,所述低折射率層包括由sio2形成的第一層和由基于氮化物的材料形成的第四層,以及

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的透鏡,其中,在所述多層抗反射涂層中,所述第一層和所述第二層交替地堆疊,并且所述多層抗反射涂層的最上部分為所述第三層或所述第四層。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透鏡,其中,所述低折射率層包括由sio2形成的第一層,以及

9.根據(jù)權(quán)利要求8的透鏡,其中,在所述多層抗反射涂層的最上端的所述第一層上,還設(shè)置有所述第三層和第四層中的一個(gè)或兩個(gè)作為一個(gè)或多個(gè)層,所述第四層是由基于氮化物的材料形成的低折射率層。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透鏡,其中,所述低折射率層包括由基于氮化物的材料形成的第四層,以及

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的透鏡,其中,在所述多層抗反射涂層的最上端的所述第二層上,還設(shè)置有所述第四層和第三層中的一個(gè)或兩個(gè)作為一個(gè)或多個(gè)層,所述第三層是由基于氮化物的材料形成的高折射率層。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透鏡,其中,在所述多層抗反射涂層中,第一層和第二層交替地堆疊,并且由基于氮化物的材料形成的具有高折射率的第三層或具有低折射率的第四層設(shè)置在所述多層抗反射涂層的中間部分中。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的透鏡,其中,所述第三層或所述第四層形成為比所述第一層和所述第二層更厚。

14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的透鏡,其中,所述第三層和所述第四層中的一個(gè)或兩個(gè)還設(shè)置在所述多層抗反射涂層的最上端處作為一個(gè)或多個(gè)層。

15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透鏡,還包括:


技術(shù)總結(jié)
本公開涉及透鏡,該透鏡包括:透鏡部分;多層抗反射(AR)涂層,包括低折射率層和高折射率層中的一個(gè)或兩個(gè),并且設(shè)置在透鏡部分的一個(gè)表面上;以及防水層,包括防水劑,并且設(shè)置在多層AR涂層的一個(gè)表面上。低折射率層和高折射率層中的一個(gè)或兩個(gè)由帶隙大于3.1eV的基于氮化物的材料形成。

技術(shù)研發(fā)人員:李泰京,慶濟(jì)弘,金龍石,金正訓(xùn),金秉柱,李政昊,姜奈易
受保護(hù)的技術(shù)使用者:三星電機(jī)株式會社
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/1/2
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