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圖像形成裝置的制作方法

文檔序號:40563266發(fā)布日期:2025-01-03 11:23閱讀:10來源:國知局
圖像形成裝置的制作方法

本發(fā)明涉及圖像形成裝置。


背景技術(shù):

1、現(xiàn)有的圖像形成裝置具備相對于裝置主體可裝卸的處理單元。處理單元包含用于使調(diào)色劑像顯影的顯影盒等。

2、將處理單元安裝到裝置主體時,需要將處理單元與裝置主體電連接。因此,在裝置主體上設(shè)置主體側(cè)接點,在處理單元上設(shè)置單元側(cè)接點。通過主體側(cè)接點與單元側(cè)接點接觸,使處理單元與裝置主體電連接。

3、分別設(shè)置多個主體側(cè)接點和單元側(cè)接點。例如,多個主體側(cè)接點(即,多個單元側(cè)接點)排列在將處理單元從裝置主體拆卸時的處理單元的抽出方向上。在這種結(jié)構(gòu)中,將處理單元從裝置主體拆卸時,主體側(cè)接點與單元側(cè)接點存在碰撞的可能性。若主體側(cè)接點與單元側(cè)接點碰撞,則存在主體側(cè)接點和單元側(cè)接點的至少一方發(fā)生故障的可能性。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、為解決上述問題,本發(fā)明的目的是提供圖像形成裝置,在具備相對于裝置主體可裝卸的處理單元的結(jié)構(gòu)中,可安全拆卸處理單元。

2、為達(dá)到上述目的,本發(fā)明一個方式的圖像形成裝置包括:具有安裝區(qū)域的主體框架;處理單元,相對于安裝區(qū)域以可裝卸的方式安裝,通過從安裝在安裝區(qū)域中的狀態(tài)向與上下方向垂直的第一方向的一方側(cè)抽出,能從主體框架拆卸,所述處理單元執(zhí)行將靜電潛影顯影為調(diào)色劑像的顯影處理;多個主體側(cè)接點,配置在主體框架上,向安裝區(qū)域且向與第一方向水平垂直的第二方向突出,在第一方向上彼此分開間隔排列;以及多個單元側(cè)接點,配置在處理單元上,分別分配給多個主體側(cè)接點,在處理單元安裝在安裝區(qū)域中的狀態(tài)下,所述單元側(cè)接點與被分配的主體側(cè)接點接觸。主體框架具有在第一方向上延伸的引導(dǎo)面。處理單元具有滾輪,在所述處理單元相對于安裝區(qū)域裝卸時所述滾輪在引導(dǎo)面上行進。引導(dǎo)面具有傾斜面,所述傾斜面從在處理單元從安裝區(qū)域抽出時的抽出方向的上游側(cè)向下游側(cè),向上下方向中的任一方傾斜。處理單元從安裝區(qū)域抽出時,通過滾輪在傾斜面上行進,單元側(cè)接點的上下方向的位置位移到與位于抽出方向的下游側(cè)的主體側(cè)接點不碰撞的回避位置。

3、按照本發(fā)明,在具備相對于裝置主體可裝卸的處理單元的結(jié)構(gòu)中,可以安全地拆卸處理單元。



技術(shù)特征:

1.一種圖像形成裝置,其特征在于包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像形成裝置,其特征在于,所述傾斜面設(shè)置在所述引導(dǎo)面中所述處理單元從所述安裝區(qū)域抽出時所述主體側(cè)接點與所述單元側(cè)接點的接觸被解除之后與所述滾輪接觸的部分。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的圖像形成裝置,其特征在于,所述處理單元從所述安裝區(qū)域抽出時,直至所述主體側(cè)接點與所述單元側(cè)接點的接觸被解除為止,所述主體框架以使所述單元側(cè)接點的上下方向的位置不位移的狀態(tài),支撐所述處理單元。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的圖像形成裝置,其特征在于,所述處理單元從所述安裝區(qū)域抽出時,所述單元側(cè)接點在到達(dá)位于比被分配的所述主體側(cè)接點靠所述抽出方向的下游側(cè)附近的所述主體側(cè)接點之前,使上下方向的位置位移到所述回避位置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的圖像形成裝置,其特征在于,

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像形成裝置,其特征在于,


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種圖像形成裝置,其具備:主體框架;處理單元,通過向第一方向的一方側(cè)抽出,能從主體框架拆卸;多個主體側(cè)接點,向第二方向突出,在第一方向上彼此分開間隔排列;以及多個單元側(cè)接點,主體框架具有在第一方向上延伸的引導(dǎo)面,處理單元具有滾輪,引導(dǎo)面具有傾斜面,所述傾斜面從抽出方向的上游側(cè)向下游側(cè),向上下方向中的任一方傾斜,處理單元抽出時,通過滾輪在傾斜面上行進,單元側(cè)接點的上下方向的位置位移到與位于抽出方向的下游側(cè)的主體側(cè)接點不碰撞的回避位置。

技術(shù)研發(fā)人員:森下浩樹
受保護的技術(shù)使用者:京瓷辦公信息系統(tǒng)株式會社
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/1/2
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