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定影裝置的制作方法

文檔序號(hào):40563297發(fā)布日期:2025-01-03 11:23閱讀:10來源:國(guó)知局
定影裝置的制作方法

本發(fā)明涉及在諸如電子照相復(fù)印機(jī)或電子照相打印機(jī)這樣的圖像形成設(shè)備中所包括的定影裝置。


背景技術(shù):

1、作為安裝在電子照相打印機(jī)等中的定影裝置的一種模式,日本專利申請(qǐng)?zhí)亻_第2014-26267號(hào)討論了一種定影裝置,其中使用具有導(dǎo)電層的圓筒狀膜(也稱為帶)并且電流流向?qū)щ妼右允鼓ぎa(chǎn)生焦耳熱。

2、使用膜的定影裝置包括限制膜在膜的縱向方向上的移動(dòng)(偏移運(yùn)動(dòng))的限制構(gòu)件。

3、在采用由限制構(gòu)件限制偏移運(yùn)動(dòng)的構(gòu)造的情況下,如果在限制構(gòu)件承接膜的端面的狀態(tài)下膜的偏移力變強(qiáng),則膜可能會(huì)受損。在電流流入膜并且膜產(chǎn)生熱量的定影裝置中,如果膜在電流流過的位置處受損,則電阻可能會(huì)增加,從而導(dǎo)致發(fā)熱不良或者異常發(fā)熱。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的在于提供一種定影裝置,所述定影裝置能夠抑制其中的導(dǎo)電層的電阻增加。

2、根據(jù)本發(fā)明,提供了一種將形成在記錄介質(zhì)上的調(diào)色劑圖像定影至記錄介質(zhì)的定影裝置,其包括:圓筒狀膜,所述膜包括基層和電阻低于所述基層的導(dǎo)電層;滑接構(gòu)件,所述滑接構(gòu)件布置在所述膜的內(nèi)部空間中并且旋轉(zhuǎn)的膜與所述滑接構(gòu)件滑動(dòng)接觸;接觸所述膜的外周表面的加壓構(gòu)件,所述加壓構(gòu)件與所述滑接構(gòu)件一起夾持所述膜以在所述膜和所述加壓構(gòu)件之間形成定影夾持部;以及限制構(gòu)件,所述限制構(gòu)件具有限制表面,所述限制表面構(gòu)造成當(dāng)所述膜沿著膜的縱向方向移動(dòng)時(shí)限制所述膜在所述縱向方向上的移動(dòng),其中在所述定影裝置中,電流沿環(huán)繞方向流向所述導(dǎo)電層以使所述導(dǎo)電層產(chǎn)生焦耳熱,并且利用焦耳熱來加熱由所述定影夾持部夾持和傳送的記錄介質(zhì),由此將形成在記錄介質(zhì)上的調(diào)色劑圖像定影至記錄介質(zhì),其中所述限制構(gòu)件布置在沿所述縱向方向面向所述膜的端面的位置處,其中,相對(duì)于所述縱向方向,電流沿所述環(huán)繞方向流入的導(dǎo)電層不設(shè)置在所述膜的端部的區(qū)域中,而是設(shè)置在所述端部的區(qū)域之間的區(qū)域中,并且其中,相對(duì)于所述縱向方向,滿足關(guān)系d>r+c–f,其中f是所述膜的寬度,c是所述導(dǎo)電層的寬度,r是兩個(gè)限制表面之間的距離,并且d是所述加壓構(gòu)件的寬度。

3、根據(jù)以下參照附圖對(duì)示例性實(shí)施例的描述,本發(fā)明的更多特征將變得顯而易見。



技術(shù)特征:

1.一種將形成在記錄介質(zhì)上的調(diào)色劑圖像定影至記錄介質(zhì)的定影裝置,所述定影裝置包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的定影裝置,其中,相對(duì)于所述縱向方向,滿足關(guān)系t<c+f–r,其中t是形成在記錄介質(zhì)上的調(diào)色劑圖像的最大寬度。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的定影裝置,其中滿足關(guān)系d<f×2–r。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的定影裝置,其中,所述定影裝置還包括:

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的定影裝置,其中所述感應(yīng)電流沿著所述膜的旋轉(zhuǎn)方向流動(dòng)。


技術(shù)總結(jié)
根據(jù)本發(fā)明,提供了一種將形成在記錄介質(zhì)上的調(diào)色劑圖像定影至記錄介質(zhì)的定影裝置,其包括:圓筒狀膜,所述膜包括基層和電阻低于基層的導(dǎo)電層;滑接構(gòu)件;加壓構(gòu)件;以及限制構(gòu)件,所述限制構(gòu)件具有限制表面,所述限制表面構(gòu)造成當(dāng)膜沿著膜的縱向方向移動(dòng)時(shí)限制膜在所述縱向方向上的移動(dòng)。在所述定影裝置中,相對(duì)于所述縱向方向,滿足關(guān)系D>R+C–F,其中F是膜的寬度,C是導(dǎo)電層的寬度,R是兩個(gè)限制表面之間的距離,D是加壓構(gòu)件的寬度。

技術(shù)研發(fā)人員:鶴谷貴明
受保護(hù)的技術(shù)使用者:佳能株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/1/2
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