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一種金屬網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)細(xì)化的方法與流程

文檔序號(hào):40607119發(fā)布日期:2025-01-07 20:47閱讀:10來源:國(guó)知局
一種金屬網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)細(xì)化的方法與流程

本發(fā)明涉及金屬網(wǎng)格電極的,具體為一種金屬網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)細(xì)化的方法。


背景技術(shù):

1、在電容式觸摸屏領(lǐng)域,金屬網(wǎng)格由于其優(yōu)異的性能及成熟的制備工藝而受到廣泛關(guān)注。利用黃光減法工藝制備金屬網(wǎng)格透明電極材料的技術(shù)日趨成熟。然而在濕法制備過程中,由于傳質(zhì)因素、流體動(dòng)力學(xué)等影響,導(dǎo)致金屬網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)偏大,這對(duì)金屬網(wǎng)格透明電極的透光度較為不利。為了細(xì)化節(jié)點(diǎn),需從金屬網(wǎng)格黃光工藝制備原理入手。影響金屬網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)的關(guān)鍵步驟在于曝光階段和蝕刻階段,本專利我們主要討論曝光階段優(yōu)化節(jié)點(diǎn)的方法。通常我們采用光罩對(duì)光阻劑進(jìn)行圖案化曝光,曝光處的光阻劑在顯影過程保留下來,充當(dāng)金屬網(wǎng)格線路的保護(hù)層。

2、現(xiàn)有技術(shù)中,如圖1所示,若光罩狹縫線寬保持一致,則顯影后光阻劑線寬保持一致,在蝕刻及側(cè)蝕過程中,由于節(jié)點(diǎn)處銅離子濃度偏高,影響蝕刻過程中的離子傳質(zhì)及藥液交換,從而導(dǎo)致節(jié)點(diǎn)偏大,而金屬網(wǎng)格制備過程中節(jié)點(diǎn)偏大回影響透光度等問題,需要進(jìn)行改進(jìn)。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的在于提供一種金屬網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)細(xì)化的方法,以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:一種金屬網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)細(xì)化的方法,包括有以下步驟:

3、s1:將光罩節(jié)點(diǎn)處進(jìn)行細(xì)化;

4、s2:通過電鍍的方法為金屬網(wǎng)格電極鍍上銅;

5、s3:對(duì)金屬網(wǎng)格電極覆上光阻膜;

6、s4:利用細(xì)化后的光罩對(duì)覆膜完成后的金屬網(wǎng)格電極進(jìn)行曝光、顯影獲得所需圖形;

7、s5:通過蝕刻和脫模去除多余的銅和光阻膜得到所需線路。

8、優(yōu)選的,在s1中將光罩節(jié)點(diǎn)處細(xì)化具體是指在節(jié)點(diǎn)處增加突觸從而減小節(jié)點(diǎn)處內(nèi)接正方形的邊長(zhǎng)。

9、優(yōu)選的,所述光罩狹縫的寬度為10-30微米。

10、優(yōu)選的,所述節(jié)點(diǎn)處內(nèi)接正方形的邊長(zhǎng)為光罩狹縫寬度20-80%。

11、優(yōu)選的,所述突觸折線起點(diǎn)寬度范圍為10-50微米。

12、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益效果是:

13、本發(fā)明提出的一種金屬網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)細(xì)化的方法,通過預(yù)先將光罩節(jié)點(diǎn)處進(jìn)行細(xì)化,經(jīng)過曝光顯影后,光阻膜在節(jié)點(diǎn)處也會(huì)相應(yīng)地細(xì)化,從而為節(jié)點(diǎn)處銅離子傳質(zhì)受阻而導(dǎo)致的節(jié)點(diǎn)變粗流出足夠的空間,通過本方法可以得到節(jié)點(diǎn)正常的金屬網(wǎng)格,進(jìn)而可以避免影響透光度等問題。



技術(shù)特征:

1.一種金屬網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)細(xì)化的方法,其特征在于:包括有以下步驟:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金屬網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)細(xì)化的方法,其特征在于:在s1中將光罩節(jié)點(diǎn)處細(xì)化具體是指在節(jié)點(diǎn)處增加突觸從而減小節(jié)點(diǎn)處內(nèi)接正方形的邊長(zhǎng)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金屬網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)細(xì)化的方法,其特征在于:所述光罩狹縫的寬度為10-30微米。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金屬網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)細(xì)化的方法,其特征在于:所述節(jié)點(diǎn)處內(nèi)接正方形的邊長(zhǎng)為光罩狹縫寬度20-80%。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種金屬網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)細(xì)化的方法,其特征在于:所述突觸折線起點(diǎn)寬度范圍為10-50微米。


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及金屬網(wǎng)格電極的技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種金屬網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)細(xì)化的方法,包括有以下步驟:S1:將光罩節(jié)點(diǎn)處進(jìn)行細(xì)化;S2:通過電鍍的方法為金屬網(wǎng)格電極鍍上銅;S3:對(duì)金屬網(wǎng)格電極覆上光阻膜;S4:利用細(xì)化后的光罩對(duì)覆膜完成后的金屬網(wǎng)格電極進(jìn)行曝光、顯影獲得所需圖形;S5:通過蝕刻和脫模去除多余的銅和光阻膜得到所需線路。本發(fā)明提出的一種金屬網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)細(xì)化的方法,通過預(yù)先將光罩節(jié)點(diǎn)處進(jìn)行細(xì)化,經(jīng)過曝光顯影后,光阻膜在節(jié)點(diǎn)處也會(huì)相應(yīng)地細(xì)化,從而為節(jié)點(diǎn)處銅離子傳質(zhì)受阻而導(dǎo)致的節(jié)點(diǎn)變粗流出足夠的空間,通過本方法可以得到節(jié)點(diǎn)正常的金屬網(wǎng)格,進(jìn)而可以避免影響透光度等問題。

技術(shù)研發(fā)人員:蘇偉,羅智勇
受保護(hù)的技術(shù)使用者:深圳市志凌偉業(yè)光電有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/1/6
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