本申請(qǐng)涉及光刻機(jī)，具體涉及一種光刻機(jī)及光源陣列化調(diào)節(jié)方法。

背景技術(shù)：

1、傳統(tǒng)光刻機(jī)復(fù)眼透鏡分為單體式復(fù)眼透鏡和雙排分離式復(fù)眼透鏡兩種類(lèi)型，根據(jù)光學(xué)擴(kuò)展量守恒，單體式復(fù)眼陣列準(zhǔn)直后的光路具有一定的發(fā)散角，使得從復(fù)眼透鏡射出的發(fā)散角遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于聚焦鏡的理論設(shè)計(jì)視場(chǎng)需求，相當(dāng)于是多出來(lái)的視場(chǎng)光是雜散光的問(wèn)題。雙排分離式復(fù)眼透鏡具有裝配工藝要求前后排復(fù)眼對(duì)準(zhǔn)精度高，易產(chǎn)生缺色缺邊等問(wèn)題。此外，傳統(tǒng)的復(fù)眼透鏡大部分采用單透鏡粘合而成整個(gè)復(fù)眼的方式，透鏡單元間隙大，光源通過(guò)前復(fù)眼透鏡后部分光被損失，且降低了光的均勻性，無(wú)法精確輸出目的光的分布形狀。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種光刻機(jī)及光源陣列化調(diào)節(jié)方法、裝置、存儲(chǔ)介質(zhì)及電子設(shè)備，能夠使光刻機(jī)精確輸出目的光的分布形狀。

2、第一方面，本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種光刻機(jī)，包括：

3、uv平行光源，所述uv平行光源用于產(chǎn)生uv平行光；

4、陣列化空間光調(diào)制器，所述陣列化空間光調(diào)制器用于對(duì)射入的所述uv平行光的分布形狀進(jìn)行整形，形成初步整形光束；

5、掩膜板，所述掩膜板用于對(duì)射入的所述初步整形光束的分布形狀進(jìn)行整形，形成二次整形光束；

6、聚焦鏡，所述聚焦鏡用于對(duì)所述二次整形光束進(jìn)行聚焦，形成曝光光束；

7、處理器，所述處理器分別與所述uv平行光源、所述陣列化空間光調(diào)制器以及所述聚焦鏡連接，所述處理器用于：

8、獲取待光刻的目標(biāo)光刻圖案；

9、根據(jù)所述目標(biāo)光刻圖案確定平行光分布形狀控制算法；

10、控制所述uv平行光源產(chǎn)生目標(biāo)uv平行光；

11、根據(jù)所述平行光分布形狀控制算法控制所述陣列化空間光調(diào)制器對(duì)射入的所述目標(biāo)uv平行光的分布形狀進(jìn)行整形形成目標(biāo)初步整形光束；

12、根據(jù)所述掩膜板對(duì)射入的所述目標(biāo)初步整形光束進(jìn)行整形，形成目標(biāo)二次整形光束；

13、控制所述聚焦鏡對(duì)射入的所述目標(biāo)二次整形光束進(jìn)行聚焦，形成所述目標(biāo)光刻圖案對(duì)應(yīng)的目標(biāo)曝光光束。

14、第二方面，本申請(qǐng)實(shí)施例還提供一種光刻機(jī)光源陣列化調(diào)節(jié)方法，應(yīng)用于光刻機(jī)，所述光刻機(jī)包括用于產(chǎn)生uv平行光的uv平行光源、用于對(duì)射入的所述uv平行光的分布形狀進(jìn)行整形形成初步整形光束的陣列化空間光調(diào)制器、用于對(duì)射入的所述初步整形光束的分布形狀進(jìn)行整形形成二次整形光束的掩膜板、、用于對(duì)所述二次整形光束進(jìn)行聚焦形成曝光光束的聚焦鏡，所述方法包括：

15、獲取待光刻的目標(biāo)光刻圖案；

16、根據(jù)所述目標(biāo)光刻圖案確定平行光分布形狀控制算法；

17、控制所述uv平行光源產(chǎn)生目標(biāo)uv平行光；

18、根據(jù)所述平行光分布形狀控制算法控制所述陣列化空間光調(diào)制器對(duì)射入的所述目標(biāo)uv平行光的分布形狀進(jìn)行整形形成目標(biāo)初步整形光束；

19、根據(jù)所述掩膜板對(duì)射入的所述目標(biāo)初步整形光束進(jìn)行整形，形成目標(biāo)二次整形光束；

20、控制所述聚焦鏡對(duì)射入的所述目標(biāo)二次整形光束進(jìn)行聚焦，形成所述目標(biāo)光刻圖案對(duì)應(yīng)的目標(biāo)曝光光束。

21、本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種由陣列化空間光調(diào)制器組成的陣列化復(fù)眼透鏡，通過(guò)將陣列化空間光調(diào)制器替換傳統(tǒng)的復(fù)眼透鏡，并通過(guò)根據(jù)待光刻的目標(biāo)光刻圖案確定的平行光分布形狀控制算法控制射入的uv平行光的分布形狀，能使光刻機(jī)精確輸出目的光，目的光也即目標(biāo)曝光光束，從而能精確生成該目標(biāo)光刻圖案對(duì)應(yīng)的目標(biāo)曝光圖案。

技術(shù)特征：

1.一種光刻機(jī)，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)，其特征在于，所述陣列化空間光調(diào)制器為陣列化透射式液晶空間光調(diào)制器，所述陣列化透射式液晶空間光調(diào)制器設(shè)置在所述uv平行光源與所述掩膜板之間，所述的uv平行光源、所述陣列化透射式液晶空間光調(diào)制器與所述掩膜板平行放置，所述處理器控制所述陣列化透射式液晶空間光調(diào)制器將射入的所述目標(biāo)初步整形光束直接射入所述掩膜板。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)，其特征在于，所述陣列化空間光調(diào)制器為陣列化反射式液晶空間光調(diào)制器，所述uv平行光源與所述掩膜板呈90度角放置，所述陣列化反射式液晶空間光調(diào)制器設(shè)置在所述uv平行光源和所述掩膜板之間呈45度角放置，所述處理器控制所述陣列化反射式液晶空間光調(diào)制器將射入的所述目標(biāo)初步整形光束旋轉(zhuǎn)90度反射入所述掩膜板內(nèi)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光刻機(jī)，其特征在于，所述光刻機(jī)還包括第一散熱板，所述第一散熱板設(shè)置在所述陣列化反射式液晶空間光調(diào)制器背面，所述第一散熱板將未經(jīng)過(guò)所述陣列化反射式液晶空間光調(diào)制器反射的所述目標(biāo)初步整形光束轉(zhuǎn)變?yōu)闊崮苄问缴l(fā)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)，其特征在于，所述陣列化空間光調(diào)制器為陣列化數(shù)字微鏡器件空間光調(diào)制器，所述uv平行光源與所述掩膜板呈90度角放置，所述陣列化數(shù)字微鏡器件空間光調(diào)制器設(shè)置在所述uv平行光源和所述掩膜板之間呈45度角放置，所述陣列化數(shù)字微鏡器件空間光調(diào)制器將射入的所述目標(biāo)初步整形光束旋轉(zhuǎn)90度反射入所述掩膜板內(nèi)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光刻機(jī)，其特征在于，所述光刻機(jī)還包括第二散熱板，所述第二散熱板設(shè)置在所述陣列化數(shù)字微鏡器件空間光調(diào)制器對(duì)面，所述第二散熱板將未射入所述掩膜板的所述目標(biāo)初步整形光束轉(zhuǎn)變?yōu)闊崮苄问缴l(fā)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6任一項(xiàng)所述的光刻機(jī)，其特征在于，所述處理器還用于：

8.根據(jù)權(quán)利要求7任一項(xiàng)所述的光刻機(jī)，其特征在于，所述處理器還用于：

9.一種光刻機(jī)光源陣列化調(diào)節(jié)方法，其特征在于，所述光刻機(jī)包括用于產(chǎn)生uv平行光的uv平行光源、用于對(duì)射入的所述uv平行光的分布形狀進(jìn)行整形形成初步整形光束的陣列化空間光調(diào)制器、用于對(duì)射入的所述初步整形光束的分布形狀進(jìn)行整形形成二次整形光束的掩膜板、用于對(duì)所述二次整形光束進(jìn)行聚焦形成曝光光束的聚焦鏡，所述方法包括：

10.如權(quán)利要求9所述的光刻機(jī)光源陣列化調(diào)節(jié)方法，其特征在于，所述根據(jù)所述平行光分布形狀控制算法控制所述陣列化空間光調(diào)制器對(duì)射入的所述目標(biāo)uv平行光進(jìn)行整形，形成目標(biāo)初步整形光束，包括：

技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)公開(kāi)了一種光刻機(jī)及光源陣列化調(diào)節(jié)方法，其中，該方法用于獲取待光刻的目標(biāo)光刻圖案，根據(jù)目標(biāo)光刻圖案確定平行光分布形狀控制算法，控制UV平行光源產(chǎn)生UV平行光，根據(jù)平行光分布形狀控制算法控制陣列化空間光調(diào)制器對(duì)射入的UV平行光的分布形狀進(jìn)行整形形成目標(biāo)初步整形光束，根據(jù)掩膜板對(duì)射入的目標(biāo)初步整形光束進(jìn)行整形，形成目標(biāo)二次整形光束，控制聚焦鏡對(duì)射入的目標(biāo)二次整形光束進(jìn)行聚焦，形成目標(biāo)光刻圖案對(duì)應(yīng)的目標(biāo)曝光光束。本申請(qǐng)能夠使光刻機(jī)精確輸出目的光的分布形狀。

技術(shù)研發(fā)人員：陸磊,韓子娟,尹建剛,王云萍,王帆帆,張盛東
受保護(hù)的技術(shù)使用者：北京大學(xué)深圳研究生院
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/6