本申請涉及半導(dǎo)體，特別是涉及一種輔助圖形修正方法、設(shè)備、介質(zhì)及產(chǎn)品。

背景技術(shù)：

1、在摩爾定律的推動下，半導(dǎo)體行業(yè)正向著越來越小的特征尺寸發(fā)展，光刻工藝面臨前所未有的挑戰(zhàn)，尤其是圖案分辨率與工藝穩(wěn)定性的雙重壓力日益凸顯。為了應(yīng)對這些挑戰(zhàn)，亞分辨率輔助圖形(sub-resolution?assist?feature，sraf)技術(shù)應(yīng)運而生，成為提升光刻分辨率、增強工藝窗口的關(guān)鍵手段。然而，在實際應(yīng)用中，現(xiàn)有技術(shù)在輔助圖形的修正環(huán)節(jié)缺乏足夠的適應(yīng)性和靈活性，難以在復(fù)雜多變的光刻環(huán)境中實現(xiàn)理想的修正效果，影響了圖案的最終分辨率和工藝穩(wěn)定性，從而導(dǎo)致現(xiàn)有技術(shù)中輔助圖形修正效果較差。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本申請?zhí)峁┑囊环N輔助圖形修正方法、設(shè)備、介質(zhì)及產(chǎn)品，能夠提高輔助圖形的修正效果。

2、第一方面，本申請實施例提供一種輔助圖形修正方法，方法包括：

3、根據(jù)初始版圖中各圖形的圖形屬性，確定所述初始版圖中至少一條目標(biāo)邊；

4、以第一邊為基準(zhǔn)，構(gòu)建識別區(qū)域，所述第一邊為所述至少一條目標(biāo)邊中的任意一條目標(biāo)邊；

5、在所述識別區(qū)域中存在主圖形的情況下，在所述主圖形與所述第一邊之間添加初始輔助圖形；

6、判斷所述初始輔助圖形是否符合預(yù)設(shè)掩膜制造規(guī)則；

7、若否，則按照所述預(yù)設(shè)掩膜制造規(guī)則對所述初始輔助圖形進(jìn)行修正，得到目標(biāo)輔助圖形。

8、第二方面，本申請?zhí)峁┮环N輔助圖形修正裝置，該裝置包括：

9、確定模塊，用于根據(jù)初始版圖中各圖形的圖形屬性，確定所述初始版圖中至少一條目標(biāo)邊；

10、構(gòu)建模塊，用于以第一邊為基準(zhǔn)，構(gòu)建識別區(qū)域，所述第一邊為所述至少一條目標(biāo)邊中的任意一條目標(biāo)邊；

11、添加模塊，用于在所述識別區(qū)域中存在主圖形的情況下，在所述主圖形與所述第一邊之間添加初始輔助圖形；

12、判斷模塊，用于判斷所述初始輔助圖形是否符合預(yù)設(shè)掩膜制造規(guī)則；

13、修正模塊，用于若否，則按照所述預(yù)設(shè)掩膜制造規(guī)則對所述初始輔助圖形進(jìn)行修正，得到目標(biāo)輔助圖形。

14、第三方面，本申請實施例提供了一種電子設(shè)備，該電子設(shè)備包括：處理器以及存儲有計算機程序指令的存儲器；

15、處理器執(zhí)行計算機程序指令時實現(xiàn)如第一方面中任意一個實施例中的輔助圖形修正方法。

16、第四方面，本申請實施例提供了一種計算機存儲介質(zhì)，計算機存儲介質(zhì)上存儲有計算機程序指令，計算機程序指令被處理器執(zhí)行時實現(xiàn)如第一方面中任意一個實施例中的輔助圖形修正方法。

17、第五方面，本申請實施例提供了一種計算機程序產(chǎn)品，計算機程序產(chǎn)品中的指令由電子設(shè)備的處理器執(zhí)行時，使得電子設(shè)備執(zhí)行實現(xiàn)如上述第一方面中任意一個實施例中的輔助圖形修正方法。

18、在本申請實施例提供的一種輔助圖形修正方法、設(shè)備、介質(zhì)及產(chǎn)品中，首先根據(jù)初始版圖中各圖形的圖形屬性，識別并選定放置輔助圖形的目標(biāo)邊，確保輔助圖形的布局能夠精準(zhǔn)匹配光刻需求。隨后，通過構(gòu)建識別區(qū)域，精準(zhǔn)定位需增強的主圖形區(qū)域。在識別區(qū)域中識別到主圖形存在時，沿主圖形與第一邊之間添加初始輔助圖形，這一步驟充分考慮了光刻過程中的物理效應(yīng)，提升了輔助圖形設(shè)計的合理性。尤為關(guān)鍵的是，本申請引入了對初始輔助圖形的規(guī)則符合性檢查與自適應(yīng)修正機制。一旦發(fā)現(xiàn)初始圖形不滿足掩膜制造的嚴(yán)格要求，即按照預(yù)設(shè)規(guī)則進(jìn)行精細(xì)化調(diào)整，從而確保最終生成的目標(biāo)輔助圖形不僅符合工藝規(guī)范，更能在光刻過程中充分發(fā)揮其提升分辨率、增強工藝穩(wěn)定性的預(yù)期作用。這種靈活性與適應(yīng)性的顯著提升，使得修正后的輔助圖形能夠在復(fù)雜的光刻環(huán)境中實現(xiàn)更為理想的修正效果，從而大幅提升光刻分辨率和工藝窗口的穩(wěn)定性，由此提高了輔助圖形的修正效果。

技術(shù)特征：

1.一種輔助圖形修正方法，其特征在于，所述方法包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述以第一邊為基準(zhǔn)，構(gòu)建識別區(qū)域，包括：

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述在所述識別區(qū)域中存在主圖形的情況下，在所述主圖形與所述第一邊之間添加初始輔助圖形，包括：

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述在所述識別區(qū)域中存在主圖形的情況下，在所述主圖形與所述第一邊之間添加初始輔助圖形，還包括：

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述識別區(qū)域為扇環(huán)形區(qū)域，其中，所述扇環(huán)形區(qū)域的圓心為所述目標(biāo)端點。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)初始版圖中各圖形的圖形屬性，確定所述初始版圖中至少一條目標(biāo)邊，包括：

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述若否，則按照所述預(yù)設(shè)掩膜制造規(guī)則對所述初始輔助圖形進(jìn)行修正，得到目標(biāo)輔助圖形，包括：

8.一種電子設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備包括：處理器以及存儲有計算機程序指令的存儲器；

9.一種計算機可讀存儲介質(zhì)，其特征在于，所述計算機可讀存儲介質(zhì)上存儲有計算機程序指令，所述計算機程序指令被處理器執(zhí)行時實現(xiàn)如權(quán)利要求1-7任意一項所述的輔助圖形修正方法。

10.一種計算機程序產(chǎn)品，其特征在于，所述計算機程序產(chǎn)品中的指令由電子設(shè)備的處理器執(zhí)行時，使得所述電子設(shè)備執(zhí)行如權(quán)利要求1-7任意一項所述的輔助圖形修正方法。

技術(shù)總結(jié)
本申請?zhí)峁┝艘环N輔助圖形修正方法、設(shè)備、介質(zhì)及產(chǎn)品，通過根據(jù)初始版圖中各圖形的圖形屬性，確定初始版圖中至少一條目標(biāo)邊；以第一邊為基準(zhǔn)，構(gòu)建識別區(qū)域，第一邊為至少一條目標(biāo)邊中的任意一條目標(biāo)邊；在識別區(qū)域中存在主圖形的情況下，在主圖形與第一邊之間添加初始輔助圖形；判斷初始輔助圖形是否符合預(yù)設(shè)掩膜制造規(guī)則；若否，則按照預(yù)設(shè)掩膜制造規(guī)則對初始輔助圖形進(jìn)行修正，得到目標(biāo)輔助圖形。本申請實施例能夠提高輔助圖形的修正效果。

技術(shù)研發(fā)人員：劉瑞普,徐曾徐
受保護的技術(shù)使用者：深圳晶源信息技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/6