本申請(qǐng)涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，特別是涉及一種光學(xué)鄰近預(yù)修正方法、裝置、介質(zhì)、程序產(chǎn)品及終端。

背景技術(shù)：

1、在半導(dǎo)體光刻制程過程中，由于紫外光的衍射效應(yīng)，在將掩膜圖案投影到晶圓上時(shí)，晶圓表面形成的圖案經(jīng)常會(huì)發(fā)生畸變，這種現(xiàn)象稱為光學(xué)鄰近效應(yīng)（opticalproximity?effect，ope）。光學(xué)鄰近效應(yīng)引起的晶圓表面圖案畸變主要表現(xiàn)為線寬特征尺寸（critical?dimension，cd）偏移、線條端部（end?of?line，eol）變短、圖案缺失（missedpatterns）或橋接（bridging）、角部變圓（corner?rounding）等特征。橋接（bridging）指的是在光刻過程中，由于相鄰圖案之間的光學(xué)相互作用，導(dǎo)致原本應(yīng)該是分開的線條或圖案在晶圓表面上出現(xiàn)連接或融合的現(xiàn)象。這種現(xiàn)象會(huì)影響電路的性能，導(dǎo)致短路等問題。

2、為了補(bǔ)償光學(xué)鄰近效應(yīng)造成的缺陷，從而在晶圓表面上得到與原始設(shè)計(jì)圖形相同的圖案，采用了光學(xué)鄰近修正（optical?proximity?correction，opc）技術(shù)。現(xiàn)有的opc修正方法主要針對(duì)epe（模擬出來的輪廓邊緣與目標(biāo)形狀之間的偏差）進(jìn)行修正。然而，在特定工藝條件下，如圖1和圖2所示，芯片設(shè)計(jì)圖形可能已經(jīng)存在橋接風(fēng)險(xiǎn)，從而導(dǎo)致無法準(zhǔn)確獲取epe，從而使得opc的修正效果受到影響。此外，這也增加了opc修正所需的時(shí)間，降低了生產(chǎn)效率。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，本申請(qǐng)的目的在于提供一種光學(xué)鄰近預(yù)修正方法、裝置、介質(zhì)、程序產(chǎn)品及終端，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中，在對(duì)密集型晶圓圖案進(jìn)行光刻時(shí)，由于存在的橋接風(fēng)險(xiǎn)，導(dǎo)致無法準(zhǔn)確獲取epe，進(jìn)而影響opc修正效果，從而增加了修正時(shí)間并降低了生產(chǎn)效率的問題。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本申請(qǐng)的第一方面提供一種方法光學(xué)鄰近預(yù)修正方法，所述方法包括：?獲取一層或多層待修正版圖，其中每層待修正版圖中包含一個(gè)由多個(gè)圖形元素組成的周期性圖案；從每層待修正版圖中提取出對(duì)應(yīng)的周期性圖形的圖形參數(shù)和錨點(diǎn)參數(shù)；基于所述圖形參數(shù)和錨點(diǎn)參數(shù)，對(duì)每層的周期性圖形中每個(gè)已識(shí)別為具有橋接風(fēng)險(xiǎn)的圖形元素進(jìn)行預(yù)修正，以生成預(yù)修正版圖。

3、于本申請(qǐng)的第一方面的一些實(shí)施例中，周期性圖形的圖形參數(shù)包括：周期性圖形的線寬和間距。

4、于本申請(qǐng)的第一方面的一些實(shí)施例中，周期性圖形的錨點(diǎn)參數(shù)包括：錨點(diǎn)線寬和錨點(diǎn)間距。

5、于本申請(qǐng)的第一方面的一些實(shí)施例中，基于所述圖形參數(shù)和錨點(diǎn)參數(shù)，對(duì)每層的周期性圖形中每個(gè)已識(shí)別為具有橋接風(fēng)險(xiǎn)的圖形元素進(jìn)行預(yù)修正的過程包括：根據(jù)所述圖形參數(shù)和錨點(diǎn)參數(shù)，計(jì)算每個(gè)圖形元素邊緣上每個(gè)點(diǎn)的平移距離；根據(jù)計(jì)算所述平移距離，將對(duì)應(yīng)圖形元素沿預(yù)設(shè)方向進(jìn)行平移，以生成預(yù)修正版圖。

6、于本申請(qǐng)的第一方面的一些實(shí)施例中，對(duì)每層的周期性圖形中每個(gè)已識(shí)別為具有橋接風(fēng)險(xiǎn)的圖形元素進(jìn)行預(yù)修正包括如下計(jì)算過程：?；其中，x表示所述平移距離；width表示周期性圖形的線寬，space表示周期性圖形的間距；awidth表示錨點(diǎn)線寬，aspace表示錨點(diǎn)間距。

7、于本申請(qǐng)的第一方面的一些實(shí)施例中，將對(duì)應(yīng)圖形元素沿預(yù)設(shè)方向進(jìn)行平移的過程包括：計(jì)算所述圖形元素邊緣上的每個(gè)點(diǎn)的法向量，并將當(dāng)前點(diǎn)沿法向量向靠近所述圖形元素內(nèi)部的方向以所述平移距離進(jìn)行平移。

8、為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本申請(qǐng)的第二方面提供一種光學(xué)鄰近預(yù)修正裝置，包括：版圖讀取模塊：用于獲取一層或多層待修正版圖，其中每層待修正版圖中包含一個(gè)由多個(gè)圖形元素組成的周期性圖案；參數(shù)提取模塊：用于從待修正版圖中提取出每層版圖的周期性圖形的圖形參數(shù)和錨點(diǎn)參數(shù)；圖形修正模塊：用于基于所述圖形參數(shù)和錨點(diǎn)參數(shù)，對(duì)每層的周期性圖形中每個(gè)已識(shí)別為具有橋接風(fēng)險(xiǎn)的圖形元素進(jìn)行預(yù)修正，以生成預(yù)修正版圖。

9、為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本申請(qǐng)的第三方面提供一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，所述計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)所述光學(xué)鄰近預(yù)修正方法。

10、為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本申請(qǐng)的第四方面提供一種計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品，所述計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品中包括計(jì)算機(jī)程序代碼，當(dāng)所述計(jì)算機(jī)程序代碼在計(jì)算機(jī)上運(yùn)行時(shí)，使得所述計(jì)算機(jī)實(shí)現(xiàn)所述光學(xué)鄰近預(yù)修正方法。

11、為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本申請(qǐng)的第五方面提供一種電子終端，包括存儲(chǔ)器、處理器及存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器上的計(jì)算機(jī)程序；所述處理器執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序以實(shí)現(xiàn)所述光學(xué)鄰近預(yù)修正方法。

12、如上所述，本申請(qǐng)的方法、裝置、介質(zhì)、程序產(chǎn)品及終端，具有以下有益效果：

13、1.有效避免橋接現(xiàn)象：通過改進(jìn)圖案修正技術(shù)，本申請(qǐng)能夠有效防止晶圓表面出現(xiàn)橋接，確保圖案的完整性和電路的正常功能。

14、2.提高opc修正效率：本申請(qǐng)的技術(shù)方案優(yōu)化了光學(xué)鄰近效應(yīng)的補(bǔ)償過程，顯著減少了修正所需的時(shí)間和資源，從而提高了整體的生產(chǎn)效率。

15、3.擴(kuò)大工藝窗口：通過提升修正精度和穩(wěn)定性，本申請(qǐng)使得工藝窗口得以擴(kuò)大，允許更高的制造容忍度，從而減少因工藝波動(dòng)導(dǎo)致的缺陷。

16、4.降低工藝風(fēng)險(xiǎn)：本申請(qǐng)不僅提升了生產(chǎn)效率，同時(shí)也降低了制造過程中的風(fēng)險(xiǎn)，減少了潛在的產(chǎn)品缺陷率，提高了最終產(chǎn)品的質(zhì)量和可靠性。

技術(shù)特征：

1.一種光學(xué)鄰近預(yù)修正方法，其特征在于，所述方法包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)鄰近預(yù)修正方法，其特征在于，周期性圖形的圖形參數(shù)包括：周期性圖形的線寬和間距。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)鄰近預(yù)修正方法，其特征在于，周期性圖形的錨點(diǎn)參數(shù)包括：錨點(diǎn)線寬和錨點(diǎn)間距。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的光學(xué)鄰近預(yù)修正方法，其特征在于，基于所述圖形參數(shù)和錨點(diǎn)參數(shù)，對(duì)每層的周期性圖形中每個(gè)已識(shí)別為具有橋接風(fēng)險(xiǎn)的圖形元素進(jìn)行預(yù)修正的過程包括：根據(jù)所述圖形參數(shù)和錨點(diǎn)參數(shù)，計(jì)算每個(gè)圖形元素邊緣上每個(gè)點(diǎn)的平移距離；根據(jù)計(jì)算所述平移距離，將對(duì)應(yīng)圖形元素沿預(yù)設(shè)方向進(jìn)行平移，以生成預(yù)修正版圖。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)鄰近預(yù)修正方法，其特征在于，對(duì)每層的周期性圖形中每個(gè)已識(shí)別為具有橋接風(fēng)險(xiǎn)的圖形元素進(jìn)行預(yù)修正包括如下計(jì)算過程：

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)鄰近預(yù)修正方法，其特征在于，將對(duì)應(yīng)圖形元素沿預(yù)設(shè)方向進(jìn)行平移的過程包括：計(jì)算所述圖形元素邊緣上的每個(gè)點(diǎn)的法向量，并將當(dāng)前點(diǎn)沿法向量向靠近所述圖形元素內(nèi)部的方向以所述平移距離進(jìn)行平移。

7.一種光學(xué)鄰近預(yù)修正裝置，其特征在于，包括：

8.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，其特征在于，所述計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述光學(xué)鄰近預(yù)修正方法。

9.一種計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品，其特征在于，所述計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品中包括計(jì)算機(jī)程序代碼，當(dāng)所述計(jì)算機(jī)程序代碼在計(jì)算機(jī)上運(yùn)行時(shí)，使得所述計(jì)算機(jī)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的光學(xué)鄰近預(yù)修正方法。

10.一種電子終端，包括存儲(chǔ)器、處理器及存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器上的計(jì)算機(jī)程序，其特征在于，所述處理器執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序以實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述光學(xué)鄰近預(yù)修正方法。

技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)?zhí)峁┕鈱W(xué)鄰近預(yù)修正方法、裝置、介質(zhì)、程序產(chǎn)品及終端，通過獲取一層或多層待修正版圖，提取對(duì)應(yīng)的圖形參數(shù)和錨點(diǎn)參數(shù)，并對(duì)每層有橋接風(fēng)險(xiǎn)的周期性圖形中的圖形元素進(jìn)行預(yù)修正，以生成預(yù)修正版圖。本申請(qǐng)有效避免橋接現(xiàn)象，確保晶圓圖案的完整性及電路功能正常；同時(shí)提高OPC修正效率，優(yōu)化光學(xué)鄰近效應(yīng)補(bǔ)償，顯著減少修正所需時(shí)間與資源，提升生產(chǎn)效率；此外，還擴(kuò)大了工藝窗口，提升了修正精度和穩(wěn)定性，降低了缺陷率；降低了工藝風(fēng)險(xiǎn)的同時(shí)，提高了最終產(chǎn)品的質(zhì)量。

技術(shù)研發(fā)人員：孫鵬飛,吳志強(qiáng),洪鼎易
受保護(hù)的技術(shù)使用者：華芯程（杭州）科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/30