技術(shù)特征：

1.一種誘導(dǎo)同一磁化斑任意朝向直線陣列的方法，其特征在于，所述方法包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種誘導(dǎo)同一磁化斑任意朝向直線陣列的方法，其特征在于：

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種誘導(dǎo)同一磁化斑任意朝向直線陣列的方法，其特征在于：所述磁流線源天線的幾何長(zhǎng)度為，中心點(diǎn)位于所述直角坐標(biāo)系的原點(diǎn)o；

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種誘導(dǎo)同一磁化斑任意朝向直線陣列的方法，其特征在于：所述磁流線源天線輻射場(chǎng)的計(jì)算過(guò)程具體包括如下：首先計(jì)算該線源處，長(zhǎng)度為磁流基元的輻射場(chǎng)，再利用平行射線方法對(duì)其沿線源幾何長(zhǎng)度進(jìn)行積分累加，得到其輻射遠(yuǎn)場(chǎng)：

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種誘導(dǎo)同一磁化斑任意朝向直線陣列的方法，其特征在于：沿空間方向的螺旋位相因子的計(jì)算過(guò)程如下：

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種誘導(dǎo)同一磁化斑任意朝向直線陣列的方法，其特征在于：所述物鏡入瞳面處的輻射場(chǎng)表達(dá)式如式（11）所示：

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種誘導(dǎo)同一磁化斑任意朝向直線陣列的方法，其特征在于：所述共焦區(qū)光焦場(chǎng)分布能由deby矢量衍射積分理論進(jìn)行計(jì)算并量化評(píng)估，計(jì)算公式為：

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種誘導(dǎo)同一磁化斑任意朝向直線陣列的方法，其特征在于：基于逆法拉第效應(yīng)，由高度局域純橫向圓偏振近衍射極限光焦場(chǎng)沿空間朝向排列的直線陣列光焦場(chǎng)能在磁光材料中誘導(dǎo)出與空間朝向相同或相反的光致磁化場(chǎng)，此光致磁化場(chǎng)由式(14)計(jì)算：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明屬于磁化斑陣列定制技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種誘導(dǎo)同一磁化斑任意朝向直線陣列的方法。本發(fā)明利用任意朝向磁流線源天線的輻射場(chǎng)疊加一階螺旋位相因子來(lái)逆向推導(dǎo)入瞳場(chǎng)，以實(shí)現(xiàn)構(gòu)建純橫向圓偏振光焦斑沿規(guī)定空間朝向排列的直線陣列，此光焦斑陣列的數(shù)量、位置、間距等均可調(diào)控，且焦斑為近衍射極限大??；基于逆法拉第效應(yīng)，所構(gòu)建的新穎光焦斑陣列，可誘導(dǎo)出超衍射極限磁化斑沿規(guī)定空間朝向排列的直線陣列，且磁化斑的數(shù)量、位置和間距同樣均可靈活調(diào)控；本發(fā)明所提出的方法無(wú)需復(fù)雜的優(yōu)化過(guò)程即可獲得入瞳矢量光場(chǎng)的解析表達(dá)式，所構(gòu)建的新穎磁化斑陣列在磁光存儲(chǔ)技術(shù)、并行原子捕獲、共聚焦核磁共振顯微鏡等方面具有廣泛的應(yīng)用潛力。

技術(shù)研發(fā)人員：曾永西,詹其文,陳木生,吳仲龍,林順達(dá),周免免
受保護(hù)的技術(shù)使用者：泉州師范學(xué)院
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/28