本技術(shù)涉及半導(dǎo)體器件制造，更具體地說，本技術(shù)涉及一種貼合無磨損防護(hù)的半導(dǎo)體光掩模版支架組件。

背景技術(shù)：

1、光刻技術(shù)是集成電路制造領(lǐng)域的關(guān)鍵技術(shù)之一，具體的，可以通過曝光，將掩模版上的掩模圖形按照一定比例成像到要加工的對(duì)象上，掩模版上形成有掩膜圖形，通過曝光的方式將掩膜圖形轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體襯底表面的光刻膠上，其中掩模版和光刻膠之間有透鏡，正是通過透鏡成像，使得掩膜圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠上面，通過集成電路光刻機(jī)對(duì)所投影的電路進(jìn)行光蝕刻，其生產(chǎn)加工工序?yàn)椋浩毓猓@影，去感光膠，最后應(yīng)用于光蝕刻。

2、專利申請(qǐng)公布號(hào)：cn114280897a一種掩模版?zhèn)鬏斀M件及光刻系統(tǒng)，設(shè)置有多個(gè)版槽，各版槽用于存儲(chǔ)一塊目標(biāo)掩模版，且該版槽具有吸附部，所述吸附部，用以向目標(biāo)掩模版提供吸附功能，并且每個(gè)版槽設(shè)計(jì)真空吸附功能，保證在垂直方向運(yùn)動(dòng)時(shí)掩模版能夠固定牢靠，防止掩模版掉落，而且通過可升降的第一版庫和第二版庫的配合，實(shí)現(xiàn)友好上料的同時(shí)提高掩模版的轉(zhuǎn)運(yùn)效率。

3、但是該結(jié)構(gòu)在實(shí)際使用時(shí)，缺少相應(yīng)的支撐架用于固定光罩，且光罩在進(jìn)行曝光時(shí)，難以對(duì)透鏡與掩模版本體之間的距離進(jìn)行調(diào)節(jié)，并且加工過程操作復(fù)雜。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、為了克服現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷，本實(shí)用新型提供一種貼合無磨損防護(hù)的半導(dǎo)體光掩模版支架組件，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：

3、一種貼合無磨損防護(hù)的半導(dǎo)體光掩模版支架組件，包括底板，所述底板的頂部設(shè)置有兩個(gè)支撐板，兩個(gè)所述支撐板的一側(cè)均設(shè)置有定位機(jī)構(gòu)，所述支撐板的頂部設(shè)置有調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)；

4、所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括設(shè)置在支撐板頂部的第一電動(dòng)伸縮桿，所述第一電動(dòng)伸縮桿的頂部設(shè)置有固定框，所述固定框的內(nèi)部設(shè)置有掩模版本體，所述掩模版本體的內(nèi)部開設(shè)有掩模槽，所述掩模槽的內(nèi)部設(shè)置掩模圖形，所述底板的一側(cè)設(shè)置有支柱，所述支柱的表面套設(shè)有活動(dòng)套，所述活動(dòng)套的一側(cè)設(shè)置有螺紋柱，所述活動(dòng)套的一側(cè)設(shè)置有聚光框，所述聚光框的內(nèi)部設(shè)置有透鏡。

5、通過采用上述技術(shù)方案：為了提高裝置的使用效果，并且方便對(duì)聚光框與掩模版本體之間的距離進(jìn)行調(diào)節(jié)。

6、作為上述技術(shù)方案的進(jìn)一步描述：所述定位機(jī)構(gòu)包括設(shè)置在支撐板一側(cè)的第二電動(dòng)伸縮桿，所述第二電動(dòng)伸縮桿的一側(cè)設(shè)置有定位板，所述定位板的一側(cè)設(shè)置有硅膠層，所述底板的頂部設(shè)置有工作臺(tái)，所述工作臺(tái)的頂部設(shè)置有襯底板，所述襯底板的頂部設(shè)置有待刻蝕層。

7、通過采用上述技術(shù)方案：將定位板與襯底板緊貼，減少了制備過程中，襯底板造成的陰影效應(yīng)，保證了薄膜質(zhì)量。

8、作為上述技術(shù)方案的進(jìn)一步描述：所述待刻蝕層的頂部設(shè)置有光刻膠層，所述光刻膠層的頂部設(shè)置有第一曝光圖形，所述第一曝光圖形的兩側(cè)均設(shè)置有第二曝光圖形，所述第一曝光圖形的面積與掩模版本體總面積的比值小于預(yù)設(shè)比值，所述第二曝光圖形與所述第一曝光圖形的面積之和與掩模版本體總面積的比值在預(yù)設(shè)范圍中。

9、通過采用上述技術(shù)方案：為了可以進(jìn)行待刻蝕層的各向異性刻蝕，從而不會(huì)對(duì)待刻蝕層的刻蝕造成影響。

10、作為上述技術(shù)方案的進(jìn)一步描述：所述掩模版本體的表面開設(shè)有多個(gè)放置槽，多個(gè)所述放置槽的內(nèi)部均活動(dòng)卡接有光影條，所述底板的底部設(shè)置有氣缸，所述氣缸的底部設(shè)置有萬向輪。

11、通過采用上述技術(shù)方案：為了對(duì)光線起散射作用，從而提高使用效果，并且方便本裝置移動(dòng)。

12、本實(shí)用新型的技術(shù)效果和優(yōu)點(diǎn)：

13、1、通過設(shè)置調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，與現(xiàn)有技術(shù)相比，將工作臺(tái)與底板之間涂布膠水，緊固螺釘涂布螺紋鎖固膠樂泰，保證掩膜臺(tái)支架的密封性，而且可以對(duì)聚光框的內(nèi)部的透鏡進(jìn)行上下調(diào)節(jié)，而且對(duì)掩模版本體內(nèi)部的掩模圖形也可以進(jìn)行調(diào)節(jié)，從而提高裝置的實(shí)用性，增強(qiáng)使用效果；

14、2、通過設(shè)置定位機(jī)構(gòu)，與現(xiàn)有技術(shù)相比，通過第二電動(dòng)伸縮桿帶動(dòng)定位板移動(dòng)將襯底板和待刻蝕層進(jìn)行固定，并且將定位板與襯底板緊貼，減少了制備過程中，掩模板造成的陰影效應(yīng)，保證了薄膜質(zhì)量，同時(shí)第二曝光圖形的存在提高了掩模版中的圖形密度，從而提高本裝置中待刻蝕層的刻蝕精度。

技術(shù)特征：

1.一種貼合無磨損防護(hù)的半導(dǎo)體光掩模版支架組件，包括底板(1)，其特征在于：所述底板(1)的頂部設(shè)置有兩個(gè)支撐板(2)，兩個(gè)所述支撐板(2)的一側(cè)均設(shè)置有定位機(jī)構(gòu)，所述支撐板(2)的頂部設(shè)置有調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種貼合無磨損防護(hù)的半導(dǎo)體光掩模版支架組件，其特征在于：所述定位機(jī)構(gòu)包括設(shè)置在支撐板(2)一側(cè)的第二電動(dòng)伸縮桿(12)，所述第二電動(dòng)伸縮桿(12)的一側(cè)設(shè)置有定位板(13)，所述定位板(13)的一側(cè)設(shè)置有硅膠層。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種貼合無磨損防護(hù)的半導(dǎo)體光掩模版支架組件，其特征在于：所述底板(1)的頂部設(shè)置有工作臺(tái)(14)，所述工作臺(tái)(14)的頂部設(shè)置有襯底板(15)，所述襯底板(15)的頂部設(shè)置有待刻蝕層(16)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種貼合無磨損防護(hù)的半導(dǎo)體光掩模版支架組件，其特征在于：所述待刻蝕層(16)的頂部設(shè)置有光刻膠層(17)，所述光刻膠層(17)的頂部設(shè)置有第一曝光圖形(18)，所述第一曝光圖形(18)的兩側(cè)均設(shè)置有第二曝光圖形(19)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種貼合無磨損防護(hù)的半導(dǎo)體光掩模版支架組件，其特征在于：所述第一曝光圖形(18)的面積與掩模版本體(5)總面積的比值小于預(yù)設(shè)比值，所述第二曝光圖形(19)與所述第一曝光圖形(18)的面積之和與掩模版本體(5)總面積的比值在預(yù)設(shè)范圍中。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種貼合無磨損防護(hù)的半導(dǎo)體光掩模版支架組件，其特征在于：所述掩模版本體(5)的表面開設(shè)有多個(gè)放置槽(20)，多個(gè)所述放置槽(20)的內(nèi)部均活動(dòng)卡接有光影條。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種貼合無磨損防護(hù)的半導(dǎo)體光掩模版支架組件，其特征在于：所述底板(1)的底部設(shè)置有氣缸(21)，所述氣缸(21)的底部設(shè)置有萬向輪(22)。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種貼合無磨損防護(hù)的半導(dǎo)體光掩模版支架組件，具體涉及半導(dǎo)體器件制造領(lǐng)域，包括底板，其中底板的頂部設(shè)置有兩個(gè)支撐板，兩個(gè)其中支撐板的一側(cè)均設(shè)置有定位機(jī)構(gòu)，并且支撐板的頂部設(shè)置有調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，其中調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括設(shè)置在支撐板頂部的第一電動(dòng)伸縮桿，其中第一電動(dòng)伸縮桿的頂部設(shè)置有固定框，其中固定框的內(nèi)部設(shè)置有掩模版本體，其中掩模版本體的內(nèi)部開設(shè)有掩模槽，并且掩模槽的內(nèi)部設(shè)置掩模圖形，其中底板的一側(cè)設(shè)置有支柱。本技術(shù)為了提高裝置的使用效果，并且方便對(duì)聚光框與掩模版本體之間的距離進(jìn)行調(diào)節(jié)，襯底板造成的陰影效應(yīng)，保證了薄膜質(zhì)量，增強(qiáng)使用效果。

技術(shù)研發(fā)人員：張偉,劉志鋒,羅江龍,彭超
受保護(hù)的技術(shù)使用者：昆山哈鉑精密裝備有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240124
技術(shù)公布日：2025/1/6