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一種石英玻璃光柵芯片的制作方法

文檔序號:40588773發(fā)布日期:2025-01-07 20:28閱讀:9來源:國知局
一種石英玻璃光柵芯片的制作方法

本技術(shù)屬于光柵芯片,尤其涉及一種石英玻璃光柵芯片。


背景技術(shù):

1、光柵(成像)集成技術(shù)體現(xiàn)的產(chǎn)品為石英玻璃光柵芯片,該產(chǎn)品主要用于口內(nèi)掃描儀設(shè)備,在口內(nèi)掃描儀的光學模塊組成為激光器、準直鏡、合光鏡、光柵芯片、投影鏡頭,其產(chǎn)品核心為光柵芯片其原理為激光通過光柵芯片投射光線圖案到口腔上,簡單一掃,口腔的立體結(jié)構(gòu)便清晰呈現(xiàn),獲取牙齒、牙齦和黏膜等軟組織表面三維形貌及紋理信息。

2、現(xiàn)有技術(shù)中存在以下缺陷:

3、1、在原先口內(nèi)掃描儀設(shè)備中需要用到兩個及以上光柵芯片,致使設(shè)備模塊體積較大,不便于臨床實際操作,其核心為在口掃檢測中需要用帶藍綠光進行重復(fù)掃描建模,原先在光柵芯片中中對應(yīng)一個波長光源成像,無法對應(yīng)多個光源成像;

4、2、在現(xiàn)有口內(nèi)掃描設(shè)備中,藍綠激光光源功率較高,但實際是因為功耗效率導(dǎo)致,藍綠光束進過準直鏡、合光鏡、光柵芯片后效率僅為60%,為提高光束能量效率,需要對光柵芯片材料和結(jié)構(gòu)設(shè)計進行深入改善;

5、3、在現(xiàn)有口內(nèi)掃描儀設(shè)備實際使用中,其掃描出的三維形貌有一定的誤差,其誤差主要來源于光束經(jīng)過光柵芯片后成像的線陣光斑,其線陣光斑的光能量分布不均勻?qū)е略O(shè)備檢測數(shù)據(jù)有誤差。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本實用新型克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種石英玻璃光柵芯片,以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題。

2、為達到上述目的,本實用新型采用的技術(shù)方案為:一種石英玻璃光柵芯片,包括

3、基材本體,所述基材本體上設(shè)有第一平面與第二平面,所述第一平面所在高度高于所述第二平面所在高度,所述第一平面與所述第二平面呈間隔交替分布;

4、膜層,所述膜層貼附于所述基材本體表面,所述膜層包括第一膜層與第二膜層,所述第一膜層貼附于所述第一平面,所述第二膜層貼附于所述第二平面;

5、所述第一膜層為綠膜層,所述第二膜層為藍膜層。

6、本實用新型一個較佳實施例中,所述基材本體為石英玻璃基材。

7、本實用新型一個較佳實施例中,所述基材本體的結(jié)構(gòu)深度為0.5-1um,寬度和圖形間隔為0.3-0.6μm、垂直度為85°以上。

8、本實用新型一個較佳實施例中,所述基材本體在450nm波長下的折射率為1.466。

9、本實用新型一個較佳實施例中,所述第一膜層及所述第二膜層的厚度均為1-3um。

10、本實用新型一個較佳實施例中,所述第一膜層在520nm波長下的透過率大于90%,在455nm波長下的透過率小于10%。

11、本實用新型一個較佳實施例中,所述第二膜層在455nm波長下的透過率大于90%,在520nm波長下的透過率小于15%。

12、本實用新型一個較佳實施例中,所述第一膜層及所述第二膜層的圖形結(jié)構(gòu)周期為0.6-1.2um。

13、本實用新型解決了背景技術(shù)中存在的缺陷,本實用新型具備以下有益效果:

14、本實用新型光柵芯片的集成化程度較高,可由一片光柵芯片達成兩個或兩個以上波長下呈現(xiàn)不同的光斑圖案效果,于光柵芯片使用來說,減少了設(shè)備光學模塊體積,使在臨床操作更加便捷;

15、本實用新型能夠?qū)鈻判酒蔬M行有效提升,達到85%以上,對光柵芯片前端的光源功率要求減低,同時減少了設(shè)備使用過程中產(chǎn)生的能耗和散熱;

16、本實用新型的光柵芯片均勻性高,可以達到15%以下的均勻性,在均勻性越好的情況下,設(shè)備使用檢測過程中的掃描拍攝的被檢測物體的信息誤差越小,越接近真實的數(shù)據(jù)信息,并且不需要對拍攝檢測數(shù)據(jù)進行數(shù)據(jù)修正,提高設(shè)備檢測準確性。



技術(shù)特征:

1.一種石英玻璃光柵芯片,其特征在于,包括

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石英玻璃光柵芯片,其特征在于,所述基材本體(10)為石英玻璃基材。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種石英玻璃光柵芯片,其特征在于,所述基材本體(10)的結(jié)構(gòu)深度為0.5-1um,寬度和圖形間隔為0.3-0.6μm、垂直度為85°以上。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石英玻璃光柵芯片,其特征在于,所述基材本體(10)在450nm波長下的折射率為1.466。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石英玻璃光柵芯片,其特征在于,所述第一膜層及所述第二膜層的厚度均為1-3um。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種石英玻璃光柵芯片,其特征在于,所述第一膜層在520nm波長下的透過率大于90%,在455nm波長下的透過率小于10%。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種石英玻璃光柵芯片,其特征在于,所述第二膜層在455nm波長下的透過率大于90%,在520nm波長下的透過率小于15%。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石英玻璃光柵芯片,其特征在于,所述第一膜層及所述第二膜層的圖形結(jié)構(gòu)周期為0.6-1.2um。


技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種石英玻璃光柵芯片,屬于光柵芯片技術(shù)領(lǐng)域,包括基材本體,所述基材本體上設(shè)有第一平面與第二平面,所述第一平面所在高度高于所述第二平面所在高度,所述第一平面與所述第二平面呈間隔交替分布;膜層,所述膜層貼附于所述基材本體表面,所述膜層包括第一膜層與第二膜層,所述第一膜層貼附于所述第一平面,所述第二膜層貼附于所述第二平面;所述第一膜層為綠膜層,所述第二膜層為藍膜層。本技術(shù)光柵芯片的集成化程度較高,可由一片光柵芯片達成兩個或兩個以上波長下呈現(xiàn)不同的光斑圖案效果,于光柵芯片使用來說,減少了設(shè)備光學模塊體積,使在臨床操作更加便捷。

技術(shù)研發(fā)人員:鐘浩,王亮
受保護的技術(shù)使用者:半影光學(南通)有限公司
技術(shù)研發(fā)日:20240430
技術(shù)公布日:2025/1/6
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