本技術(shù)涉及掩膜版搬運(yùn),具體涉及一種適用于agv與光刻機(jī)進(jìn)行對(duì)接交互的裝置。
背景技術(shù):
1、掩膜版(photo?mask),又稱(chēng)光罩掩膜版、光罩等,是一種用于微電子芯片制備的掩模工具,它是由光刻技術(shù)制備的。在制備過(guò)程中,首先需要將待制備的芯片設(shè)計(jì)圖案制作成透明的掩模。將掩模與半導(dǎo)體硅片結(jié)合,通過(guò)光刻機(jī)進(jìn)行曝光、顯影等一系列工藝過(guò)程,最終制備出微電子芯片。
2、光刻機(jī)是現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花,是半導(dǎo)體、平板顯示等行業(yè)中的核心技術(shù)。它主要通過(guò)光學(xué)成像技術(shù)將光掩膜版上的芯片設(shè)計(jì)圖案轉(zhuǎn)移到硅片表面,從而制備出具有所需功能的微電子器件。
3、光刻機(jī)在制備大尺寸掩膜版時(shí)由于產(chǎn)品無(wú)法進(jìn)行人工搬運(yùn),因此通常采用agv①進(jìn)行搬運(yùn)。由于光刻機(jī)設(shè)備上板架(loader)不具備直接對(duì)接agv進(jìn)行掩膜版取放的功能,因此在agv搬運(yùn)掩膜版到光刻機(jī)設(shè)備時(shí),需要使用中轉(zhuǎn)設(shè)備,如hmu?assist?loader(簡(jiǎn)稱(chēng)hmu②)對(duì)接agv抓放掩膜版后,再通過(guò)hmu對(duì)接光刻機(jī)進(jìn)行掩膜版的抓取與放置。
4、由于需要通過(guò)中轉(zhuǎn)設(shè)備進(jìn)行掩膜版的轉(zhuǎn)運(yùn),增加了產(chǎn)品在搬運(yùn)途中的風(fēng)險(xiǎn),同時(shí)會(huì)增加掩膜版的搬運(yùn)時(shí)間,以及增加了掩膜版原材被污染的風(fēng)險(xiǎn),極大增加了設(shè)備成本、原材成本的同時(shí),也降低了生產(chǎn)工作效率。
5、詞語(yǔ)解釋?zhuān)?/p>
6、①agv即automated?guided?vehicle簡(jiǎn)稱(chēng)agv,當(dāng)前最常見(jiàn)的應(yīng)用如:agv搬運(yùn)機(jī)器人或agv小車(chē),主要功用集中在自動(dòng)物流搬轉(zhuǎn)運(yùn),agv搬運(yùn)機(jī)器人是通過(guò)特殊地標(biāo)進(jìn)行導(dǎo)航,自動(dòng)將物品運(yùn)輸至指定地點(diǎn)。
7、②hmu?assist?loader即bare?mask?stocker,掩膜基板暫存裝置,agv可以通過(guò)hmu的agv?port進(jìn)行放置和抓取mask,hmu再通過(guò)robot從agv?port上將mask轉(zhuǎn)運(yùn)至光刻機(jī)loader上。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本實(shí)用新型提供了一種適用于agv與光刻機(jī)進(jìn)行對(duì)接交互的裝置,目的在于可以省去轉(zhuǎn)運(yùn)設(shè)備,實(shí)現(xiàn)直接對(duì)接agv抓放掩膜版,解決光刻機(jī)無(wú)法直接與agv進(jìn)行對(duì)接的問(wèn)題。
2、本實(shí)用新型通過(guò)下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):一種適用于agv與光刻機(jī)進(jìn)行對(duì)接交互的裝置,包括安裝在光刻機(jī)上的上板架,所述上板架的頂部連接有橫梁,所述橫梁和所述上板架的底部均安裝有反射板,所述上板架的下部連接有尺寸調(diào)節(jié)器,所述尺寸調(diào)節(jié)器上連接有罩蓋,所述罩蓋和所述尺寸調(diào)節(jié)器能夠沿所述上板架的長(zhǎng)度方向進(jìn)行調(diào)節(jié),所述罩蓋的頂部開(kāi)設(shè)有凹槽。
3、本方案與現(xiàn)有技術(shù)相比,具有如下的優(yōu)點(diǎn)和有益效果:
4、本方案中頂部橫梁處的反射板為保證掩膜版在放置到上板架時(shí)的左右位置精度及距離精度,避免爪手接近上板架時(shí)出現(xiàn)位置偏差導(dǎo)致干涉。頂部?jī)蓧K反射板用于第一次距離較遠(yuǎn)時(shí)的首次定位,保證左右以及前后距離在規(guī)定范圍內(nèi),底部反射板用于第二次距離較近時(shí)的精確定位,調(diào)節(jié)掩膜版的角度與上下高度等。
5、上板架的下部連接有尺寸調(diào)節(jié)器,罩蓋固定在尺寸調(diào)節(jié)器上,且尺寸調(diào)節(jié)器能夠沿所述上板架的長(zhǎng)度方向進(jìn)行調(diào)節(jié),尺寸調(diào)節(jié)器可調(diào)節(jié)是為了對(duì)應(yīng)不同尺寸掩膜版放置需求,所述罩蓋的頂部開(kāi)設(shè)有凹槽,凹槽為agv底部的爪手進(jìn)入的位置,此凹槽的設(shè)置能夠避免與agv的底部爪手干涉。
6、本方案中光刻機(jī)通過(guò)agv小車(chē)抓取掩膜版運(yùn)送到光刻機(jī)處后,通過(guò)agv小車(chē)上的機(jī)器人手臂將抓取的掩膜版與光刻機(jī)上的上板架對(duì)齊,通過(guò)agv的手臂的上爪和下爪的位置與橫梁上的兩個(gè)反射板以及上板架底部的反射板的位置對(duì)齊后,即可將抓取的掩膜版準(zhǔn)確的放置在上板架上,本方案不需要轉(zhuǎn)運(yùn)設(shè)備,實(shí)現(xiàn)了直接對(duì)接agv抓放掩膜版,解決光刻機(jī)無(wú)法直接與agv進(jìn)行對(duì)接的問(wèn)題。
7、進(jìn)一步,所述橫梁上的反射板設(shè)有兩個(gè),且所述橫梁上的兩個(gè)反射板分別位于所述橫梁的左部和右部。
8、有益效果:橫梁上的兩個(gè)反射板能夠提高agv小車(chē)的爪手與光刻機(jī)上板架的定位精度,從而使掩膜版能夠順利且準(zhǔn)確的被放置在上板架上。
9、進(jìn)一步,所述橫梁上的兩個(gè)反射板均與所述橫梁水平滑動(dòng)配合。
10、有益效果:本方案中橫梁上的兩個(gè)反射板能夠根據(jù)實(shí)際情況進(jìn)行滑動(dòng)調(diào)節(jié)其位置,從而確保定位精度。
11、進(jìn)一步,所述上板架底部的反射板與所述上板架水平滑動(dòng)配合。
12、有益效果:本方案便于根據(jù)實(shí)際情況調(diào)節(jié)上板架底部的反射板位置,更靈活實(shí)用。
13、進(jìn)一步,所述上板架底部的反射板為十字反射板。
14、有益效果:十字反射板用于視覺(jué)定位相機(jī)拍照識(shí)別精確位置,能夠在視覺(jué)定位時(shí)進(jìn)行位置判斷,這樣可通過(guò)視覺(jué)相機(jī)識(shí)別到的十字反射板上的十字圖形位置進(jìn)行精確調(diào)整掩膜版位置、角度等。
15、進(jìn)一步,所述罩蓋的凹槽居中設(shè)置,且所述罩蓋的凹槽兩側(cè)分別設(shè)有豎向固定孔與插銷(xiāo)孔,所述上板架上設(shè)有兩組對(duì)稱(chēng)設(shè)置的導(dǎo)向塊,所述罩蓋通過(guò)在豎向固定孔內(nèi)插入緊固件而固定于尺寸調(diào)節(jié)器上,所述尺寸調(diào)節(jié)器與兩組所述導(dǎo)向塊滑動(dòng)配合,且所述導(dǎo)向塊上沿其長(zhǎng)度方向開(kāi)設(shè)有多個(gè)豎向定位孔,所述尺寸調(diào)節(jié)器通過(guò)在插銷(xiāo)孔和豎向定位孔內(nèi)插入插銷(xiāo)進(jìn)行可拆卸連接。
16、有益效果:本方案通過(guò)插銷(xiāo)固定到導(dǎo)向塊中的豎向定位孔內(nèi)實(shí)現(xiàn)尺寸調(diào)節(jié)器與導(dǎo)向塊的連接,拔出插銷(xiāo)后尺寸調(diào)節(jié)器即可上下移動(dòng),而插入插銷(xiāo)即可鎖定尺寸,本方案中罩蓋與尺寸調(diào)節(jié)器通過(guò)緊固件和豎向固定孔進(jìn)行連接,通過(guò)移動(dòng)罩蓋和尺寸調(diào)節(jié)器,而使罩蓋上的插銷(xiāo)孔與導(dǎo)向塊上不同高度位置上的豎向定位孔對(duì)齊配合,即可實(shí)現(xiàn)在調(diào)節(jié)罩蓋和尺寸調(diào)節(jié)器的位置后對(duì)罩蓋和尺寸調(diào)節(jié)器起到固定的作用。
17、進(jìn)一步,所述罩蓋的凹槽兩側(cè)的豎向固定孔均設(shè)有兩個(gè),插銷(xiāo)孔各設(shè)有一個(gè),且兩個(gè)所述豎向固定孔與所述插銷(xiāo)孔豎向間隔分布。
18、有益效果:如此設(shè)置能夠提高對(duì)罩蓋與尺寸調(diào)節(jié)器之間的固定效果。
19、進(jìn)一步,所述罩蓋的凹槽兩側(cè)還開(kāi)設(shè)有與所述尺寸調(diào)節(jié)器配合連接的橫向固定孔,所述豎向固定孔和所述橫向固定孔分別位于罩蓋的上部和下部,所述插銷(xiāo)孔位于罩蓋的中部。
20、有益效果:如此設(shè)置能夠使罩蓋的上部和下部均與尺寸調(diào)節(jié)器進(jìn)行連接,進(jìn)一步提高罩蓋與尺寸調(diào)節(jié)器之間的安裝精度。
21、進(jìn)一步,所述上板架用于放置掩膜版的一側(cè)設(shè)有多個(gè)間隔分布的支撐塊。
22、有益效果:支撐塊的設(shè)置能夠?qū)Ψ胖迷谏习寮苌系难谀ぐ嫫鸬街蔚淖饔茫奖愫笃谌》拧?/p>
技術(shù)特征:
1.一種適用于agv與光刻機(jī)進(jìn)行對(duì)接交互的裝置,其特征在于,包括安裝在光刻機(jī)上的上板架,所述上板架的頂部連接有橫梁,所述橫梁和所述上板架的底部均安裝有反射板,所述上板架的下部連接有尺寸調(diào)節(jié)器,所述尺寸調(diào)節(jié)器上連接有罩蓋,所述罩蓋和所述尺寸調(diào)節(jié)器能夠沿所述上板架的長(zhǎng)度方向進(jìn)行調(diào)節(jié),所述罩蓋的頂部開(kāi)設(shè)有凹槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于agv與光刻機(jī)進(jìn)行對(duì)接交互的裝置,其特征在于,所述橫梁上的反射板設(shè)有兩個(gè),且所述橫梁上的兩個(gè)反射板分別位于所述橫梁的左部和右部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種適用于agv與光刻機(jī)進(jìn)行對(duì)接交互的裝置,其特征在于,所述橫梁上的兩個(gè)反射板均與所述橫梁水平滑動(dòng)配合。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于agv與光刻機(jī)進(jìn)行對(duì)接交互的裝置,其特征在于,所述上板架底部的反射板與所述上板架水平滑動(dòng)配合。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于agv與光刻機(jī)進(jìn)行對(duì)接交互的裝置,其特征在于,所述上板架底部的反射板為十字反射板。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于agv與光刻機(jī)進(jìn)行對(duì)接交互的裝置,其特征在于,所述罩蓋的凹槽居中設(shè)置,且所述罩蓋的凹槽兩側(cè)分別設(shè)有豎向固定孔與插銷(xiāo)孔,所述上板架上設(shè)有兩組對(duì)稱(chēng)設(shè)置的導(dǎo)向塊,所述罩蓋通過(guò)在豎向固定孔內(nèi)插入緊固件而固定于尺寸調(diào)節(jié)器上,所述尺寸調(diào)節(jié)器與兩組所述導(dǎo)向塊滑動(dòng)配合,且所述導(dǎo)向塊上沿其長(zhǎng)度方向開(kāi)設(shè)有多個(gè)豎向定位孔,所述尺寸調(diào)節(jié)器通過(guò)在插銷(xiāo)孔和豎向定位孔內(nèi)插入插銷(xiāo)進(jìn)行可拆卸連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種適用于agv與光刻機(jī)進(jìn)行對(duì)接交互的裝置,其特征在于,所述罩蓋的凹槽兩側(cè)的豎向固定孔均設(shè)有兩個(gè),插銷(xiāo)孔各設(shè)有一個(gè),且兩個(gè)所述豎向固定孔與所述插銷(xiāo)孔豎向間隔分布。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種適用于agv與光刻機(jī)進(jìn)行對(duì)接交互的裝置,其特征在于,所述罩蓋的凹槽兩側(cè)還開(kāi)設(shè)有與所述尺寸調(diào)節(jié)器配合連接的橫向固定孔,所述豎向固定孔和所述橫向固定孔分別位于罩蓋的上部和下部,所述插銷(xiāo)孔位于罩蓋的中部。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的一種適用于agv與光刻機(jī)進(jìn)行對(duì)接交互的裝置,其特征在于,所述上板架用于放置掩膜版的一側(cè)設(shè)有多個(gè)間隔分布的支撐塊。