1.一種光波導結(jié)構(gòu)，其特征在于：包括玻璃基底(1)、由減薄晶圓組成的光波導層(2)、以及填充層(3)，所述光波導層(2)的折射率高于所述玻璃基底(1)和填充層(3)的折射率，所述光波導層(2)鍵合設置于所述玻璃基底(1)上，且所述光波導層(2)背離玻璃基底(1)的表面具有刻蝕光柵結(jié)構(gòu)(21)，所述填充層(3)嵌設于所述刻蝕光柵結(jié)構(gòu)(21)的刻蝕間隙內(nèi)，且所述填充層(3)和刻蝕光柵結(jié)構(gòu)(21)的外側(cè)表面近似的處于同一平面上、和/或所述填充層(3)遮蓋所述刻蝕光柵結(jié)構(gòu)(21)的外側(cè)表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光波導結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述玻璃基底(1)的折射率為1.50~1.90。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種光波導結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述玻璃基底(1)的厚度為0.30~0.80mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光波導結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述光波導層(2)的減薄晶圓折射率在2.60以上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種光波導結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述光波導層(2)的減薄晶圓為碳化硅晶圓或氮化鎵晶圓。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種光波導結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述光波導層(2)的厚度為0.5~3.0μm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光波導結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述光波導層(2)通過直接鍵合、溫壓鍵合、和/或光學鍵合的鍵合方式設置于所述玻璃基底(1)上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光波導結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述刻蝕光柵結(jié)構(gòu)(21)是由多個直齒光柵、斜齒光柵、和/或閃耀光柵組成并呈一維或二維陣列布置的亞波長光柵結(jié)構(gòu)，且所述刻蝕光柵結(jié)構(gòu)(21)的光柵周期為200~400nm、占空比為40~60%、刻蝕高度為100~250nm、斜齒光柵傾斜角為20~45°、閃耀光柵閃耀角為20~45°。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光波導結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述填充層(3)的折射率在2.00以下。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種光波導結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述填充層(3)由氧化硅或氮化硅組成。