專利名稱：具有梯度基層的多層抗反射涂層的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及抗反射涂層領(lǐng)域，更進(jìn)一步地說(shuō)，涉及在玻璃上的多層抗反射涂層領(lǐng)域。
Zaromb的美國(guó)專利3378396公開了一種使位于金屬氧化物和玻璃基體之間的折射率差衰減的方法，其中通過在氧化氣氛，如空氣中同時(shí)將氯化錫溶液和氯化硅溶液的獨(dú)立噴涂物導(dǎo)向靜止的經(jīng)過加熱的玻璃基體上而對(duì)玻璃基體進(jìn)行涂覆。該玻璃基體上的熱量將該金屬氯化物熱轉(zhuǎn)變成它們的金屬氧化物。這些噴涂物相互之間的比例逐漸變化，從而改變了該涂層中的金屬氧化物的重量百分比的比例。所產(chǎn)生的涂層在其厚度上具有連續(xù)變化的組成，例如在靠近玻璃-涂層界面處，該涂層主要是二氧化硅，而遠(yuǎn)離該玻璃-涂層界面的涂層表面則主要是氧化錫，在這些表面之間，該涂層則由不同重量百分比的氧化硅和氧化錫組成。
美國(guó)專利4206252和4440882指出在如上所說(shuō)的梯度涂層上沉積由摻氟的氧化錫組成的第二層涂層。
本發(fā)明涉及用多層抗反射涂層涂覆基體的方法，該多層抗反射涂層由隨著離該玻璃-涂層界面的距離的增加具有連續(xù)變化的化學(xué)組成以及相應(yīng)的連續(xù)變化的折射率的第一層和相對(duì)均勻的第二層組成，該第二層的折射率和厚度選擇成能產(chǎn)生抗反射性。該第一層(本文稱為梯度層)的折射率在該基體表面處差不多與該基體的折射率相匹配，而后逐漸變化到在離開該涂層和基體的界面處的該梯度層表面處的較高值。放在該梯度層上面的第二層在本文中稱為抗反射層。對(duì)在該梯度層的較高數(shù)值下的近似折射率進(jìn)行選擇，從而使選擇用于該抗反射層的組合物的折射率約等于入射介質(zhì)的折射率與在較高數(shù)值下的該梯度層的折射率的積的平方根。該反射層以設(shè)計(jì)波長(zhǎng)，即選擇用于最佳抗反射性的波長(zhǎng)的四分之一的光學(xué)厚度涂覆。因此舉例來(lái)說(shuō)，在垂直入射時(shí)，如果在較高數(shù)值下該梯度層的折射率為2.1，而入射介質(zhì)為折射率為1.0的空氣，則該抗反射層的折射率約為1.45，對(duì)于設(shè)計(jì)波長(zhǎng)5000埃來(lái)說(shuō)，其物理厚度約為900埃。通過在該梯度層和抗反射層之間設(shè)置具有相當(dāng)高的折射率和光學(xué)厚度約為設(shè)計(jì)波長(zhǎng)二分之一的中間層，可以將本發(fā)明的抗反射涂層的性能擴(kuò)展到更寬的反射波長(zhǎng)范圍。


圖1a表示在65°觀察角下具有最小光反射Y的涂層的折射率曲線，它表示了作為離該基體表面、穿過該梯度層以及隨后的均勻?qū)拥木嚯x的函數(shù)的折射率，此時(shí)梯度層的厚度為1189埃，該二氧化硅層的厚度為1121埃。圖1b表示在離垂直觀察角65°下作為在可見光譜上的波長(zhǎng)的函數(shù)的反射率，此時(shí)光反射Y為5.5％，平均反射率為8％。
圖2a表示具有和圖1相同的梯度涂層但二氧化硅層厚度為886埃從而使在垂直入射下的光反射Y最佳的涂層的折射率。圖2b表示該涂層相應(yīng)的反射曲線，平均反射率為1.3％，光反射Y為0.33％。
圖3a表示帶有梯度層的涂層的折射率曲線，該梯度層用于使在垂直入射下的平均反射率最小化達(dá)到最佳。梯度層的厚度為1373埃，而二氧化硅層的厚度為911埃。圖3b是作為該涂層波長(zhǎng)的函數(shù)的相應(yīng)的反射率，其平均反射率為0.8％，光反射Y為0.44％。
圖4a表示用于光反射Y最小化的不同的梯度，該梯度層厚度為1338埃，二氧化硅層厚度為934埃。圖4b為作為該涂層波長(zhǎng)的函數(shù)的反射率，其平均反射率為1.02％，光反射Y為0.33％。
圖5a表示與圖4相同的梯度層的折射率曲線，該梯度層的厚度為1338埃，二氧化硅層的厚度選擇成使得在7000埃波長(zhǎng)下的反射率達(dá)到最小。該二氧化硅層的厚度為1200埃。圖5b表示作為波長(zhǎng)函數(shù)的反射率，它在7000埃設(shè)計(jì)波長(zhǎng)下的反射率為0。
圖6a表示與圖4和5中所示相同的梯度層的折射率曲線，它在梯度層和二氧化硅層之間帶有半波長(zhǎng)厚的二氧化鐵層。與圖4的例子相比，其結(jié)果是較寬的帶反射阱和較低的光反射Y。圖6b表示作為波長(zhǎng)函數(shù)的反射率。
圖7a表示帶有梯度層的涂層的折射率曲線，該梯度層用于使半波長(zhǎng)厚度的二氧化鐵層(用于使光反射Y最小)的運(yùn)用達(dá)到最佳。該梯度層為960埃，二氧化鐵半波層為1008埃，二氧化硅層為908埃。圖7b表示在整個(gè)光譜上的很低的反射率。其平均反射率為1.4％，光反射Y為0.03％。
圖8a表示對(duì)于在硅和錫的混合氧化物的梯度層上不同厚度的二氧化硅的作為波長(zhǎng)函數(shù)的垂直反射率。圖8b表示在離垂直入射角65°下的硅和錫的混合氧化物的梯度層上的同樣三種氧化硅層厚度的反射率。
本發(fā)明的用于沉積梯度層的方法優(yōu)選地包括將含有金屬的母體，如含有硅的母體和含有錫的母體的汽相涂層組合物導(dǎo)向玻璃帶的表面；以第一方向沿著該帶表面的第一區(qū)域移動(dòng)該汽相物的第一部分，以及以第二相反的方向沿著第二區(qū)域移動(dòng)該汽相物的第二部分；以及將在第一區(qū)域上的第一部分涂層組合物保持比在第二區(qū)域上的第二部分涂層組合物更長(zhǎng)的時(shí)間，從而在該玻璃帶上產(chǎn)生隨著離涂層-玻璃界面的距離的增加具有不同的金屬氧化物組成的涂層。
優(yōu)選地，本發(fā)明涉及透明的基體，如玻璃基體，在該基體上具有由混合金屬氧化物，如氧化硅和氧化錫組成的涂層。該涂層組合物隨著離玻璃-涂層界面的距離的增加具有連續(xù)變化的氧化硅/氧化錫比，例如在玻璃-涂層界面處基本上全部是氧化硅，而在該梯度層的相反表面處則基本上全部是氧化錫。在玻璃-涂層界面和相對(duì)涂層表面之間，存在氧化硅/金屬氧化物比例固定的層，而且當(dāng)采用含有磷、硼和/或鋁元素的化合物作為加速劑以增加涂層沉積速度并控制涂層形態(tài)時(shí)，在該涂層中還可分散有少量的磷、硼和/或鋁。
根據(jù)本發(fā)明的制品包括一種基體，如透明的或著色的玻璃，在該基體上具有一種涂層，由于具有連續(xù)變化的折射率的第一層和具有特別選定的折射率和厚度的第二層，該涂層具有最小的可見光反射。在該梯度層和抗反射層之間可以沉積半波光學(xué)厚度的任選層，從而在較寬的波長(zhǎng)光譜上產(chǎn)生改進(jìn)的抗反射性能。該中間層的折射率比較高，優(yōu)選地在1.7-3.0范圍內(nèi)，更優(yōu)選地在1.8-2.8范圍內(nèi)。優(yōu)選地用于該中間層的組成是二氧化欽，TiO2。在下面的實(shí)施例中，該基體是玻璃基體。該涂層的第一層優(yōu)選地由氧化硅和一種金屬氧化物，如氧化錫的混合物組成。該涂層隨著離玻璃-涂層界面的距離的增加具有連續(xù)變化的組成。一般說(shuō)來(lái)，在靠近玻璃-涂層界面處，該涂層主要是氧化硅，而在該涂層的相反表面處，即在離該玻璃-涂層界面最遠(yuǎn)的涂層表面處，該涂層的組成主要是氧化錫。盡管該涂層是采用第一層氧化錫和氧化硅層來(lái)描述的，但本發(fā)明并不限于此，而且由下面的描述可以看出，在本發(fā)明的實(shí)施過程中可以采用任何兩種或更多的化合物來(lái)改變?cè)撎荻葘拥恼凵渎省?br> 在US系列08/017930(1993年2月16日由Athey等人提出)中詳細(xì)描述的涂覆方法、設(shè)備和反應(yīng)試劑對(duì)于用含有硅和金屬的母體的混合物進(jìn)行化學(xué)汽相沉積(CVD)以形成本發(fā)明的梯度層是特別有效的。
本發(fā)明的抗反射涂層的第一種梯度層優(yōu)選地由能夠在約750-1500°F(約400-815℃)的溫度下在氧氣的存在下汽化并轉(zhuǎn)變成相應(yīng)的氧化物的含錫母體和含硅母體的混合物制成。正如可以看到的，本發(fā)明不限于此，利用上述涂層涂覆設(shè)備和涂覆方法可以采用含金屬的其它母體。
當(dāng)對(duì)基體，如一種玻璃基體進(jìn)行混合氧化物，如氧化硅和氧化錫的混合物的化學(xué)汽相沉積，以在其上獲得本發(fā)明所說(shuō)的梯度層時(shí)，該梯度層的特征在于隨著離玻璃-涂層界面的距離的增加具有連續(xù)變化的組成，結(jié)果使該涂層產(chǎn)物的反射率獲得實(shí)質(zhì)性的降低。當(dāng)該涂層基本上由氧化硅和氧化錫組成時(shí)，靠近該玻璃-涂層界面處的涂層部分主要由氧化硅組成，隨著離玻璃-涂層界面的距離的增加，每一個(gè)后面的連續(xù)變化的組成的區(qū)域含有一個(gè)氧化硅/氧化錫比，該比率隨著離玻璃-涂層界面的距離的增加而變化。更進(jìn)一步地說(shuō)，當(dāng)氧化錫的百分比增加時(shí)，氧化硅的比例就下降，結(jié)果在到達(dá)該梯度層的相反表面時(shí)，該區(qū)域主要由氧化錫組成。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于可以以靈活的方式使該梯度層的折射率從在該基體表面處的大致匹配值變化到較高的值。最簡(jiǎn)單的方式是線性變化，從該基體處逐漸過渡并在高折射率處結(jié)束。但是許多另外的曲線也是適用的。本發(fā)明的梯度層的基本要求是在基體折射率和較高的折射率值之間折射率逐漸發(fā)生變化。在本發(fā)明中“逐漸”是指在該梯度涂層的一個(gè)區(qū)域到相鄰區(qū)域之間的折射率變化不超過約0.1。該梯度層的折射率對(duì)于涂層的某些部分來(lái)說(shuō)其值可以下降，只要該變化是逐漸的而且在整個(gè)涂層上的凈變化是向較高值增加即可。該折射率變化可以作為多層固定的折射率層而產(chǎn)生。該梯度層的厚度至少必須為四分之一波光學(xué)厚度，但是該抗反射涂層的性能隨著該層厚度的增加而獲得改進(jìn)。最大厚度主要受到成本的限制。對(duì)于一個(gè)給定的用途來(lái)說(shuō)，為了使涂層性能達(dá)到最佳或者對(duì)觀察角的作用進(jìn)行補(bǔ)償，有必要對(duì)該抗反射涂層的厚度以及該梯度層的組成及厚度作適當(dāng)?shù)母淖儭?br> 在抗反射涂層中采用梯度層的另一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在將該涂覆制品以高安裝角度使用時(shí)，如作為汽車風(fēng)擋玻璃時(shí)可以獲得。當(dāng)安裝角高于該涂層的Brewster角(定義為該折射率的反切角)時(shí)，s(垂直)和p(平行)極化狀態(tài)不能同時(shí)降至最小。由于該梯度層產(chǎn)生了具有較高的折射率以及較高的Brewster角的新層，因此可以在較高的安裝角時(shí)使抗反射性能達(dá)到最佳。舉例來(lái)說(shuō)，折射率為1.52的玻璃基體具有56°的Brewster角。如果該梯度層的較高的折射率值為2.0，則Brewster角為63°。如果該梯度層的較高的折射率值為2.4，則Brewster角為67°。利用其上沉積了低折射率抗反射層，如折射率約為1.45的二氧化硅的高折射率表面，可以將該多層涂層設(shè)計(jì)成使s和p極化狀態(tài)兩者均達(dá)到最小，從而在較高的安裝角下產(chǎn)生更好的總抗反射性能。根據(jù)本發(fā)明，用較薄的涂層和簡(jiǎn)單靈活的多層涂層結(jié)構(gòu)也可以獲得如此改進(jìn)的抗反射性。
由下面對(duì)特定的實(shí)施例的描述可以對(duì)本發(fā)明獲得進(jìn)一步的理解。在前7個(gè)實(shí)施例中，數(shù)據(jù)是從在折射率約為1.5的綠色玻璃基體上由折射率約為1.5的氧化硅和折射率約為2.0的鋅和錫的氧化物的不同混合物組成的第一層以及折射率約為1.5的氧化硅的第二均勻?qū)荧@得的，入射介質(zhì)為折射率為1.0的空氣。最后的一個(gè)例子涉及在浮法玻璃浴上通過化學(xué)汽相沉積產(chǎn)生的氧化硅和氧化錫的梯度層上的三種不同的氧化硅層厚度。數(shù)據(jù)是由在垂直入射和離垂直入射65°下的反射率獲得的。
實(shí)施例1用由硅、鋅和錫的氧化物組成的第一梯度層涂覆3.9毫米厚的綠色玻璃帶。該梯度層在玻璃一涂層界面處主要由二氧化硅組成并且在相對(duì)的涂層表面處組成變成主要是金屬氧化物。梯度層的厚度約為1190埃。在該涂層上沉積了一層均勻的氧化硅層，該氧化硅層的厚度約為1120埃。該涂層表面的光反射Y為約5.5％，在可見光譜上該涂層表面的平均反射率約為8％。其折射率梯度如圖1a所示，在離垂直入射角65°處最優(yōu)化的反射率如圖1b中所示。
實(shí)施例2
用由硅、鋅和錫的氧化物組成的第一梯度層涂覆3.9毫米厚的綠色玻璃帶，在玻璃-涂層界面處主要為二氧化硅并且在相對(duì)的涂層表面處主要為金屬氧化物。厚度約為1190埃。在該梯度層上如前面實(shí)施例所說(shuō)的那樣涂覆了一層氧化硅，該氧化硅層的厚度約為886埃。該涂層表面的平均反射率約為1.34％，光反射Y低于1％。該折射率梯度如圖2a所示，在離垂直入射角90°處最優(yōu)化的反射率如圖2b中所示。
實(shí)施例3如前面實(shí)施例那樣，用一種梯度層涂覆3.9毫米厚的綠色玻璃帶，除了該梯度層的厚度約為1373埃以外。在該梯度層上如前面實(shí)施例所說(shuō)的那樣涂覆了一層氧化硅，除了該氧化硅層的厚度約為911埃以外。該涂層表面的光反射Y約為0.44％，其平均反射率約為0.8％。該折射率梯度如圖3a所示，如圖3b中所示，該涂層結(jié)構(gòu)使平均反射率達(dá)到最佳，即最小。
實(shí)施例4如前面實(shí)施例那樣，用一種梯度層涂覆3.9毫米厚的綠色玻璃帶，除了該梯度層的厚度約為1338埃以外。在該梯度層上如前面實(shí)施例所說(shuō)的那樣涂覆了一層氧化硅，除了該氧化硅層的厚度約為934埃以外。該涂層表面的平均反射率約為1％，光反射Y約為0.33％。該折射率梯度如圖4a所示。如圖4b中所示，該涂層結(jié)構(gòu)使在垂直入射下的光反射Y達(dá)到最佳，即最小。
實(shí)施例5如前面實(shí)施例那樣，用一種梯度層涂覆3.9毫米厚的綠色玻璃帶，該梯度層的厚度約為1338埃。在該梯度層上如前面實(shí)施例所說(shuō)的那樣涂覆了一層氧化硅，除了該氧化硅層的厚度約為1200埃以外。該折射率梯度如圖5a所示，如圖5b中所示，該實(shí)施例的涂層結(jié)構(gòu)在設(shè)計(jì)波長(zhǎng)7000埃下使反射率基本上為零。
實(shí)施例6如前面實(shí)施例那樣，用一種梯度層涂覆3.9毫米厚的綠色玻璃帶，該梯度層的厚度約為1338埃。在該梯度層上涂覆了一層二氧化鈦層，該氧化鈦層的厚度約為1115埃。在該氧化欽層上還涂覆了933埃厚度的氧化硅層。該折射率梯度如圖6a所示。該涂層表面的平均反射率為3.2％，光反射Y約為0.2％，如圖6b中所示。
實(shí)施例7如前面實(shí)施例那樣，用一種梯度層涂覆3.9毫米厚的綠色玻璃帶，該梯度層的厚度約為960埃。如前面的實(shí)施例那樣，在該梯度層上涂覆了一層二氧化鈦層，該氧化欽層的厚度約為1008埃。最后的氧化硅層的厚度為908埃。該折射率梯度如圖7a所示。該涂層表面在可見光譜上具有極低的反射率，其平均反射率為1.4％，光反射Y約為0.03％，如圖7b中所示。
實(shí)施例8對(duì)于支撐在主要由錫組成的熔融金屬浴上并且在其上以每分鐘280英尺(約7.1米)移動(dòng)的鈉-鈣-硅浮法玻璃帶，通過將其在約1200°F(約650℃)溫度下的表面與可變濃度的四乙氧基硅烷(TEOS)和三氯單丁基錫(MBTC)的汽相混合物接觸而在其上表面上涂覆一層梯度層。向第一化學(xué)汽相沉積(GVD)室中供入一種涂層混合物，該混合物的濃度(在90SGFM運(yùn)載氣流中的摩爾百分?jǐn)?shù))為14％氧氣(在氮?dú)庵?、0.4水、0.2MBTC、0.29TEOS和0.28三乙基膦(TEP，一種加速劑)。向位于第一室下游的第二室中供入0.58水、0.62MBTC、0.62TEOS和0.1TEP的混合物。在該浮法浴的外面，用三種厚度749埃、815埃和1113埃厚度的氧化硅層涂覆所得到的梯度層。圖8a表示對(duì)于這三種結(jié)構(gòu)的由兩個(gè)表面獲得的作為在垂直入射下的可見光譜中的波長(zhǎng)的函數(shù)的反射率。圖8b表示僅僅在離垂直觀察角或安裝角65°下的由該涂層表面獲得的反射率。
上述實(shí)施例描述了本發(fā)明的抗反射涂層。對(duì)于該梯度層以及該均勻?qū)觼?lái)說(shuō)，還可以采用不同的組合物，特別是當(dāng)采用具有不同折射率的基體或入射介質(zhì)時(shí)。還可以采用任何便利的涂層沉積方法，特別是對(duì)于該均勻?qū)觼?lái)說(shuō)，此時(shí)濺射法是優(yōu)選的。本發(fā)明的范圍由下面的權(quán)利要求書來(lái)限定。
權(quán)利要求
1.一種低反射的涂層制品，它由從其表面具有可見光反射的基體和在至少部分所說(shuō)的基體表面上的涂層組成，該涂層降低了所說(shuō)基體表面的可見光反射，它包括下列部分a.可變組成的第一梯度層，從而使在該第一層和基體表面的界面處的層的折射率接近該基體的折射率，而該梯度層的折射率隨著該組成而變化，結(jié)果在與該梯度層和該基體的界面相對(duì)的梯度層的表面處具有較高的折射率；以及b.在所說(shuō)的第一梯度層上的第二層，該層具有基本均勻的組成，其折射率約為該梯度層的較高折射率與和所說(shuō)的第二層的表面(與朝著該梯度層的表面相對(duì)的)接觸的介質(zhì)的折射率的積的平方根，其光學(xué)厚度約為所選定的設(shè)計(jì)波長(zhǎng)的四分之一。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的低反射涂層制品，其中該基體是玻璃。
3.根據(jù)權(quán)利要求2的低反射涂層制品，其中該第二層是氧化硅。
4.根據(jù)權(quán)利要求3的低反射涂層制品，其中該第一梯度層由氧化物的混合物組成。
5.根據(jù)權(quán)利要求4的低反射涂層制品，其中梯度層由硅和錫的氧化物組成。
6.根據(jù)權(quán)利要求5的制品，它在該梯度層和第二層之間還有一中間層，它具有較高的折射率，其光學(xué)厚度約為設(shè)計(jì)波長(zhǎng)的一半。
7.根據(jù)權(quán)利要求6的制品，其中該梯度層的厚度約為500-3000埃。
8.根據(jù)權(quán)利要求7的制品，其中該梯度層的厚度約為700-1500埃。
9.根據(jù)權(quán)利要求8的制品，其中該氧化硅層的厚度約為400-2000埃。
10.根據(jù)權(quán)利要求9的制品，其中該氧化硅層的厚度約為700-1400埃。
11.一種低反射的涂層制品，它由從其表面具有4-40％可見光反射的基體和在至少部分所說(shuō)的基體表面上的涂層組成，該涂層降低了所說(shuō)基體表面的可見光反射，它包括下列部分a.可變組成的第一梯度層，從而使在該第一層和基體表面的界面處的層的折射率接近該基體的折射率，而該梯度層的折射率隨著該組成而變化，結(jié)果在與該梯度層和該基體的界面相對(duì)的梯度層的表面處具有較高的折射率；以及b.在所說(shuō)的第一梯度層上的第二層，該層具有基本均勻的組成，其折射率約為該梯度層的較高折射率與和所說(shuō)的第二層的表面(與朝著該梯度層的表面相對(duì)的)接觸的介質(zhì)的折射率的積的平方根，其光學(xué)厚度約為所選定的設(shè)計(jì)波長(zhǎng)的四分之一。
12.根據(jù)權(quán)利要求11的低反射涂層制品，其中該基體是從其表面具有4-10％可見光反射和折射率為1.5-1.7的玻璃。
13.根據(jù)權(quán)利要求12的低反射涂層制品，其中該第二層是折射率為1.4-1.5的氧化硅。
14.根據(jù)權(quán)利要求13的低反射涂層制品，其中該梯度層在該梯度層和該基體的界面處具有1.4-1.65的折射率。
15.根據(jù)權(quán)利要求14的低反射涂層制品，其中該梯度層在與該梯度層和該基體的界面相對(duì)的該梯度層的表面處具有約1.7-2.8的折射率。
16.根據(jù)權(quán)利要求15的低反射涂層制品，其中該梯度層由組成可變的硅和錫的氧化物組成，從在該玻璃界面處主要是氧化硅變化到在離該玻璃界面最遠(yuǎn)的該梯度層的表面附近主要為氧化錫。
17.根據(jù)權(quán)利要求16的低反射涂層制品，它在該梯度層和第二層之間還有一中間層，它具有較高的折射率，其光學(xué)厚度約為設(shè)計(jì)波長(zhǎng)的一半。
18.根據(jù)權(quán)利要求17的低反射涂層制品，其中該涂層表面的平均反射率為0.01-1.5％。
19.根據(jù)權(quán)利要求18的低反射涂層制品，其中該光反射Y為0.01-1.5％。
20.根據(jù)權(quán)利要求19的低反射涂層制品，其中平均反射率為0.1-1.5％，光反射Y為0.01-1.5％。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種抗反射涂層，該涂層包括組成在整個(gè)層厚度上變化從而使該梯度層的折射率從在該梯度層和該基體的界面處的與該基體的折射率大約相匹配的低折射率變化到在與該基體的界面相對(duì)的該梯度層的表面處的較高折射率的第一層和基本上均勻的第二層，該第二層的組成被選擇成使其折射率約等于在較高數(shù)值下的該梯度層的折射率在與該第二層和該梯度層的界面相對(duì)的第二層表面處的入射介質(zhì)的折射率的積的平方根。該反射層的光學(xué)厚度至少為所選擇的設(shè)計(jì)波長(zhǎng)的四分之一。
文檔編號(hào)G02B1/11GK1134555SQ95120169
公開日1996年10月30日 申請(qǐng)日期1995年12月26日 優(yōu)先權(quán)日1994年12月27日
發(fā)明者G·A·紐曼 申請(qǐng)人:Ppg工業(yè)公司