專利名稱：用于處理光熱敏元件的設(shè)備，系統(tǒng)和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于處理光熱敏元件的設(shè)備、方法和系統(tǒng)，更具體一些，涉及用于對光熱敏元件進行曝光、顯影和冷卻的設(shè)備、方法和系統(tǒng)。
光熱敏成像技術(shù)是一種已經(jīng)確定的成像技術(shù)。在光熱敏成像技術(shù)中，分兩步處理光熱敏元件。第一步是根據(jù)圖象方式使光熱敏元件在照射光下曝光，從而在光熱敏元件上產(chǎn)生一潛像。這一步驟常被稱為成像。第二步是將光熱敏元件加熱到顯影溫度，保持足夠的時間，以將潛像熱顯影成為可見的圖像。這一步驟常被稱為顯影或簡稱為處理。
顯影的裝置與方法是眾所周知的，它包括使光熱敏元件與一被加熱的板、滾筒或帶(有時稱為無端帶)接觸，向光熱敏元件吹送熱空氣，將光熱敏元件浸在熱的惰性液體中，以及將此元件在元件對其波長不光敏的輻射能中曝光。
采用這些熟知的裝置和方法顯影的光熱敏元件常常有不平的或不均勻的圖像密度，圖像畸變和/或表面磨損缺陷等。圖象密度的不均勻缺陷是由于例如被加熱構(gòu)件上的表面變化，在光熱敏元件或被加熱構(gòu)件上有異物，以及不能使在顯影中產(chǎn)生的揮發(fā)性物質(zhì)充分排氣而在顯影過程中產(chǎn)生的。圖像畸變可由于光熱敏元件在加熱和/或冷卻時，光熱敏元件的基材發(fā)生不受控制的尺寸變化而產(chǎn)生。表面磨損或擦傷的產(chǎn)生是由于將光熱敏元件拖過加熱裝置中的靜止元件。在很多應(yīng)用如課本和曲線圖中，這些缺陷可能會被接受。但是，醫(yī)學、工業(yè)、印刷及其它成像應(yīng)用的使用者則要求均勻而高質(zhì)量的圖像。
尤其是，由于許多帶子可以有花紋或接縫，使用帶子顯影的在光熱敏元件上的圖像會得到一種不能被接受的、對應(yīng)的顯影花紋或接縫痕跡。雖然滾筒能有效地利用空間并可具有沒有帶子花紋和接縫的表面，但是滾筒要求光熱敏元件沿著一能導(dǎo)致翹曲的彎曲的路徑。此外，滾筒要求光熱敏元件沿彎曲的路徑被導(dǎo)向，而該彎曲的路徑能在光熱敏元件上引起表面損傷。還有，用許多熟知的滾筒裝置或其它加熱裝置加熱光熱敏元件，則可在加熱光熱敏元件時產(chǎn)生褶皺。
因此，需要有一種能提供均勻而且質(zhì)量高的圖像的熱處理機。還需要用輔助裝置和光熱敏元件配合這種熱處理機，以提供能同時優(yōu)化均勻性和圖象質(zhì)量的設(shè)備、系統(tǒng)和方法。
除了均勻性和圖象質(zhì)量，還需要有這樣一種處理機和有關(guān)的設(shè)備、系統(tǒng)和方法，它們能提供增大的物料通過速率。能成像和顯影各種圖幅尺寸，也是所要求的特性，而這一特性目前在高質(zhì)量光熱敏成像技術(shù)中是不能獲得的。雖然公知的光熱敏成像設(shè)備、系統(tǒng)和方法在環(huán)保方面優(yōu)于濕式顯影系統(tǒng)，但仍然有重大的問題未被解決。
本發(fā)明提供了一種熱處理機，以及其它采用熱處理機或與其聯(lián)合使用的其它設(shè)備、系統(tǒng)和方法，以著手和克服這些問題。
本發(fā)明的一個實施例包括一熱處理機，它適用于在光熱敏元件上熱顯影圖像。光熱敏元件以某種輸送速度輸送。此熱處理機包括一可動的加熱構(gòu)件，它被設(shè)置成能接納光熱敏元件并將光熱敏元件至少加熱到一臨界顯影溫度并保持一停留時間，以在光熱敏元件上顯影圖像。光熱敏元件還包括多個可旋轉(zhuǎn)的導(dǎo)向構(gòu)件，其位于與加熱構(gòu)件相鄰的導(dǎo)向位置上，用以通過在光熱敏元件上施加一不大于200克每厘米光熱敏元件寬度的偏壓力，來引導(dǎo)貼靠在加熱構(gòu)件上的光熱敏元件。加熱構(gòu)件是可以移動的，而導(dǎo)向構(gòu)件則可以以幾乎與光熱敏元件的輸送速度匹配的速度旋轉(zhuǎn)。
加熱構(gòu)件可包括一具有一定厚度和導(dǎo)熱率的彈性層，用于與光熱敏元件接觸。彈性層要足夠厚，以使外來的顆粒能被壓入彈性層中，以減少圖像中可由外來顆粒所引起的傳熱不足而產(chǎn)生的圖像缺陷。還有，彈性層又要足夠薄并且充分地導(dǎo)熱，以便彈性層能向光熱敏元件傳送足夠的熱量，從而按物料通過速率熱顯影光熱敏元件。
導(dǎo)向構(gòu)件可以充分地隔開，以使在可旋轉(zhuǎn)的輥子之間的部分光熱敏元件膨脹和收縮。導(dǎo)向構(gòu)件可相對于上述加熱構(gòu)件定位在一封閉位置與一開啟位置之間，在封閉位置，上述導(dǎo)向構(gòu)件可以引導(dǎo)抵靠在上述加熱構(gòu)件上的上述光熱敏元件；在開啟位置，上述導(dǎo)向構(gòu)件提供接近上述加熱構(gòu)件的更大的出入口。導(dǎo)向構(gòu)件可與一蓋子結(jié)合，以便當從加熱構(gòu)件上提升起該蓋子時，使導(dǎo)向構(gòu)件從封閉位置移至開啟位置。
熱處理機可以是進一步包括一成像裝置的設(shè)備的一部分，該成像裝置能將數(shù)字轉(zhuǎn)換成圖像式輻射圖案。成像裝置可將光熱敏元件暴露在照射光下，以在光熱敏元件上產(chǎn)生圖像。成像裝置能產(chǎn)生不超過百分之二的曝光偏差。熱處理機能將光熱敏元件加熱至顯影溫度，以將潛像顯影成可見的圖像，該溫度在整個光熱敏元件上的變化不超過2°F。在0.50至3.0光密度的范圍內(nèi)，在規(guī)定的光密度下，在光熱敏元件上產(chǎn)生的可見像由設(shè)備而引起的變化不超過0.20光密度。
本設(shè)備可以包括具有一第一室、一第二室和一通道的外殼，在第一室中放有成像裝置，在第二室中放有熱處理機，第二室可通過通道與第一室連通，光熱敏元件也可通過通道輸送。第一室可有相對于第二室的正空氣壓力。
本設(shè)備還可以是進一步包括一光熱敏元件的系統(tǒng)的一部分。光熱敏元件可具有一在至少一個表面上有光熱敏乳劑的基體，該乳劑包括粘結(jié)劑、預(yù)先配制的鹵化銀、對輻射敏感的可還原的銀鹽和用于銀離子的還原劑。預(yù)先配制的鹵化銀具有0.10μm或更小的平均直徑。
可以配置一個與熱處理機一起使用的冷卻裝置。該冷卻裝置包括一第一散熱輥，它具有能導(dǎo)熱的第一芯子和第一外層，該第一外層比芯子的導(dǎo)熱性差并有較小的熱質(zhì)量。在與第一散熱輥相鄰處設(shè)有一第一咬送輥，以形成第一輥隙，此第一輥隙的位置要設(shè)成能接納熱的紙卷并通過導(dǎo)熱將其冷卻。第二散熱輥具有一能導(dǎo)熱的第二芯子和第二外層。第二外層比第二導(dǎo)熱芯子的導(dǎo)熱性差并有較小的熱質(zhì)量。在與第二散熱輥相鄰處設(shè)有一第二咬送輥，以形成第二輥隙。第二輥隙的位置要設(shè)定成能從第一輥隙接收光熱敏元件并進一步通過熱傳導(dǎo)冷卻光熱敏元件。
可以配置一導(dǎo)軌，以引導(dǎo)離開加熱構(gòu)件的光熱敏元件。光熱敏元件有一前緣和一主要部分。導(dǎo)軌包括一具有一緊靠加熱構(gòu)件表面的前緣的板，以在光熱敏元件位于加熱構(gòu)件的表面上時接收該元件的前緣，并引導(dǎo)離開加熱構(gòu)件的光熱敏元件。在板的前緣附近設(shè)置一輥子，用以從板的前緣接納加熱元件的前緣，并使加熱元件從前緣移開，以使主要部分不與板接觸。有一滾子軸承與板的前緣接合。該滾子軸承可在加熱構(gòu)件的表面上行走，以將板的前緣定位在離加熱構(gòu)件的表面有一預(yù)定的距離的地方。
熱處理機可用在用于熱顯影光熱敏元件的方法中，以產(chǎn)生圖像?？蓜拥募訜針?gòu)件至少要加熱至一臨界顯影溫度。光熱敏元件以一輸送速度被輸送給加熱構(gòu)件。用多個可旋轉(zhuǎn)的導(dǎo)向構(gòu)件將光熱敏元件偏壓貼靠在加熱構(gòu)件上，保持一段停留時間，以使加熱構(gòu)件顯影在光熱敏元件上的圖像。每個導(dǎo)向構(gòu)件通過在光熱敏元件上施加一不大于200克每厘米光熱敏元件寬度的總偏壓力，而有助于減少在光熱敏元件上的壓痕。加熱構(gòu)件和旋轉(zhuǎn)的導(dǎo)向構(gòu)件以幾乎與光熱敏元件的輸送速度相匹配的速度移動。
本設(shè)備可以用在用于將數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成與數(shù)據(jù)相對應(yīng)的可見像的方法中。將數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成按表示數(shù)據(jù)的方式調(diào)制的輻射線。將光熱敏元件在調(diào)制的輻射線中曝光，以在光熱敏元件上產(chǎn)生代表數(shù)據(jù)的具有預(yù)定的光密度的潛像。將可動的加熱構(gòu)件至少加熱至臨界顯影溫度。使光熱敏元件以一定的輸送速度輸送給加熱構(gòu)件。將光熱敏構(gòu)件貼靠在加熱構(gòu)件上偏壓一段停留時間，以顯影在光熱敏元件上并具有預(yù)定的光密度的圖像?？梢詼y量圖像的實際光密度，并可將圖像的實際光密度與預(yù)定的光密度相比較。當實際的光密度與預(yù)定的光密度的偏差達到預(yù)定的偏差值時，可以調(diào)節(jié)輸出功率。
可以用冷卻裝置冷卻光熱敏元件。將光熱敏元件輸送至具有第一散熱輥的第一輥隙中，該散熱輥具有一能導(dǎo)熱的第一芯子和一第一外層，此外層有比芯子差的導(dǎo)熱性和較小的熱質(zhì)量。在第一散熱輥附近設(shè)有一第一咬送輥，以形成第一輥隙，該第一輥隙的位置要設(shè)計成能接納熱的紙卷并用導(dǎo)熱將其冷卻。將光熱敏元件從第一輥隙輸送至第二輥隙處，該第二輥隙有一第二散熱輥，第二散熱輥具有一能導(dǎo)熱的第二芯子和一第二外層，第二外層有比第二導(dǎo)熱芯子差的導(dǎo)熱性和較小的熱質(zhì)量。在第二散熱輥附近設(shè)有一第二咬送輥，以形成第二輥隙，該第二輥隙的位置要設(shè)成能從第一輥隙接收熱的紙卷并進一步用導(dǎo)熱冷卻熱紙卷。


圖1是按照本發(fā)明構(gòu)造的熱處理機的透視圖2是圖1所示熱處理機的側(cè)視圖；圖3是圖1和圖2所示熱處理機的前視圖；圖4是一曲線圖，它示出了在圖1～3所示的熱處理機中具有不同導(dǎo)熱率的彈性層的效果；圖5是在光熱敏元件和具有低彈性的加熱構(gòu)件之間因有外來顆粒存在而產(chǎn)生氣隙的示意圖；圖6是一曲線圖，它示出了圖1～3所示熱處理機中在光熱敏元件和彈性層之間的氣隙的后果；圖7是圖1～3所示熱處理機中在光熱敏元件和加熱的彈性構(gòu)件之間的較小氣隙在與圖4相比時的示意圖；圖8是可以是圖1～3所示熱處理機的一部分的元件導(dǎo)軌的透視圖；圖9是圖8所示元件導(dǎo)軌在靠著加熱構(gòu)件時的側(cè)視圖；圖10是可以是圖1～3所示熱處理機的一部分的冷卻裝置的透視圖；圖11是包括一熱處理機和一光掃描組件的設(shè)備的內(nèi)部操作部分的側(cè)視圖；圖12是作為圖11所示設(shè)備的一部分示出的光掃描組件的視圖；圖13是圖12所示光掃描組件的一部分的激光掃描器的示意圖；圖14是圖12所示光掃描組件的一部分的底視圖；圖15是在圖12所示光掃描組件中所用的膠片對準裝置的透視圖。
在圖1、2和3中示出了熱處理機10，它用于對已成影像地曝光的光熱敏元件12，如呈薄片形或成卷的膠片或紙張進行熱顯影。將已經(jīng)曝光的光熱敏元件12至少加熱至一臨界顯影溫度，并持續(xù)一特定的停留時間，正在熱顯影的光熱敏元件12就會產(chǎn)生一圖像。該圖像可以是從一潛像產(chǎn)生的可見像。圖像也可以是能由一設(shè)備讀出的圖像。臨界顯影溫度是特殊的光熱敏元件開始顯影的最低溫度。停留時間是特殊的光熱敏元件應(yīng)當保持在臨界顯影溫度下或高于該溫度的溫度下，以使在光熱敏元件12上的圖像顯影的持續(xù)時間。
熱處理機10可以是用于將原先已經(jīng)成像的光熱敏元件12顯影的獨立設(shè)備。熱處理機10也可以放置在其它設(shè)備上，或是成為一多功能設(shè)備或系統(tǒng)的組成部分。
通常，圖1～3所示的熱處理機10可包括如圖所示的可動的加熱構(gòu)件14和導(dǎo)向構(gòu)件16。導(dǎo)向構(gòu)件16使光熱敏元件12靠在加熱構(gòu)件14上，從而使加熱構(gòu)件14可傳遞用于使光熱敏元件12顯影的足夠熱量。導(dǎo)向構(gòu)件16可以由處理機框架18相對于加熱構(gòu)件14定位。所示的處理機框架18包括一對處理機端部構(gòu)件20和六個導(dǎo)向構(gòu)件支架21，每個端部構(gòu)件20上有三個支架21。加熱構(gòu)件的軸22從加熱構(gòu)件14的兩相對端伸出，并且用軸承24可旋轉(zhuǎn)地裝在端部構(gòu)件20上。加熱構(gòu)件14由一電動機(未示出)轉(zhuǎn)動，該電動機用一鏈傳動機構(gòu)26與軸22中的一個聯(lián)接，不過也可以采用其它機構(gòu)，例如由一微步步進式電動機驅(qū)動的齒輪機構(gòu)。導(dǎo)向構(gòu)件16沿加熱構(gòu)件14的外部在周向地分隔開的幾個位置由導(dǎo)向構(gòu)件支架21以平行的取向支承，并用彈簧28偏壓成與加熱構(gòu)件14接合。所示的每個導(dǎo)向構(gòu)件支架21有安裝在其上的五個導(dǎo)向構(gòu)件16。導(dǎo)向構(gòu)件16在此實施例中繞加熱構(gòu)件14的大約224度半徑角延伸。橫梁30裝在相對的導(dǎo)向構(gòu)件支架20之間，作為輔助支承。有一作為加熱毯32示出的加熱器和電子控制設(shè)備34，以恰當?shù)丶訜峒訜針?gòu)件14。通過一滑環(huán)部件35將電力接到加熱毯32和電子控制設(shè)備34上。
加熱構(gòu)件14是作為可旋轉(zhuǎn)的圓柱形滾筒示出的。也可以考慮采用其它的形狀。例如，加熱構(gòu)件14可以是一個具有扁平表面的可動的受到支承的帶子，以使光熱敏元件12在被加熱時是平的。但是，圓柱形的加熱構(gòu)件14或具有某種其它的彎曲形狀的加熱構(gòu)件14可以使得在有限的空間內(nèi)對光熱敏元件12加熱。加熱構(gòu)件14的寬度最好應(yīng)定成能對光熱敏元件12的整個寬度進行熱顯影。圓柱形加熱構(gòu)件14的直徑應(yīng)結(jié)合所要求的物料通過率和熱處理機10理想的緊湊度一起選擇。同樣，不規(guī)則地彎曲的或平的受到支承的帶子的接觸長度和形狀也可以根據(jù)這些需要考慮的事項來選擇。
圖1～3所示的加熱構(gòu)件14包括鋁支承管36，在支承管36的外面有彈性層38。所示的支承管36約為18英寸(45.7cm)長，壁厚約為0.25英寸(0.64cm)，并且有約為6.375英寸(16cm)的外徑。也曾經(jīng)用過直徑較大的例如8英寸(20.3cm)的管子36和直徑較小的例如3.5英寸(8.9cm)的管子36。甚至還可以采用尺寸更大或更小的支承管。支承管36的壁厚變化最好不超過例如百分之四。
彈性層38有足夠光滑的表面，以將在被處理的光熱敏元件12上所形成的花紋減至最少。表面粗糙度最好不超過250微英寸(6.3μm)，再好一些，不超過125微英寸(3.2μm)。另一方面，某些材料，例如硅酮基材料的表面粗糙度不應(yīng)明顯小于75微英寸(1.9μm)，最好不小于90微英寸(2.3μm)，以防光熱敏元件12粘附在加熱構(gòu)件14上。此外，超過90微英寸(2.3μm)的表面粗糙度使氣體，尤其是揮發(fā)性物質(zhì)更易于從彈性層38與光熱敏元件12之間放氣。
彈性層38與光熱敏元件12之間的靜摩擦系數(shù)應(yīng)當足夠大，以便在用第一個導(dǎo)向構(gòu)件16咬入光熱敏元件12的前緣時抓住并輸送光熱敏元件12。此靜摩擦系數(shù)應(yīng)當選定成與由第一個導(dǎo)向構(gòu)件16施加的作用力相匹配。
彈性層38要有足夠的導(dǎo)熱性，以在加熱構(gòu)件14的表面上保持均勻的溫度，從而便于得到實際的物料輸出率。在一個實施例中，彈性層38最好具有等于或大于4BTU-inch/hr-ft2-°F(0.59W/cm2·℃)的導(dǎo)熱率。這樣可使熱處理機10在每小時至少120個光熱敏元件的輸出率時加熱構(gòu)件的直徑約為6.375英寸(16cm)；加熱構(gòu)件14以約224度的圓周與光熱敏元件12接觸)，熱顯影8mil(0.2mm)、14″×17″(35.6cm×43.2cm)的光熱敏元件12(以后將在例1中描述)。對于具有尺寸為8″×10″(20.3cm×25.4cm)的類似的光熱敏材料，輸出率可超過每小時200張照相元件(采用具有同樣直徑和接觸范圍的加熱構(gòu)件)。對于紙基的光熱敏元件，采用彈性層36時的輸出率可超過每小時300張11″×14″(27.9cm×35.6cm)的光熱敏元件(采用具有同樣直徑和接觸范圍的加熱構(gòu)件)。
其它尺寸的光熱敏元件的輸出率與其尺寸有關(guān)。此外，增加加熱構(gòu)件14的直徑可便于得到更高的輸出率。另外，輸出率可以被看成是每單位時間的單位面積(例如平方厘米每小時)，以代替每單位時間光熱敏元件12的數(shù)量。
除了輸出率，彈性層38允許在可接受的持續(xù)時間內(nèi)升溫熱處理機10。例如，對于一長度為18英寸(45.7cm)、壁厚為0.25英寸(0.64cm)、外徑約為6.375英寸(16cm)的支承管36而言，在具有厚度約為0.030英寸(0.076cm)的彈性層38時，可在20分鐘內(nèi)加熱到約250°F以上。
模擬分析表明，為了在膠片上達到穩(wěn)定狀態(tài)的溫度，彈性層的導(dǎo)熱率對傳熱速度有很大的影響。而這又會影響到達臨界顯影溫度所需的時間以及充分顯影在光熱敏元件12上的圖像所需的停留時間。下面所進行的一維模型分析對兩種有不同的導(dǎo)熱率值的彈性層比較了作為時間函數(shù)的溫度變化。
模型的尺寸與條件彈性層厚度0.030″(0.762mm)元件基厚度0.007″(0.18mm)初始元件溫度70°F(21.1℃)邊界條件包括將彈性層38的內(nèi)緣上的溫度固定在250°F(121.1℃)，在光熱敏元件12的外緣上按體積計算的平均溫度為70°F(21.1℃)，且形成普通空氣的自然對流邊界條件。初始條件要使得在引入光熱敏元件12以前，當彈性層38的內(nèi)緣處的溫度為250°F(121.1℃)，并在彈性層38的外緣上作用有一自然對流(h＝88Btu/hr-ft2-°F；0.13W/cm2·℃)時，彈性層38的溫度處于穩(wěn)定狀態(tài)。
為了正確地獲取瞬態(tài)溫度響應(yīng)，將熱接觸電阻設(shè)計成能計入彈性層對光熱敏元件的熱傳導(dǎo)。根據(jù)參考資料(J.P.Holman，熱傳導(dǎo)，1986年第六期，由紐約的Mc Graw-Hill公司出版)，將通過間隙的熱接觸電阻定義為1/hcA式中的hc為接觸系數(shù)，A為總的橫截面面積。
為了簡化模型，將hc設(shè)定為hc＝0.20Kair/Tfilm/100式中的Kair為空氣的導(dǎo)熱率，Tfilm為光熱敏元件的厚度。
圖4示出了當彈性層38具有3.0和4.0BTU-inch/hr-ft2-°F(0.44和0.59W/cm2·℃)的導(dǎo)熱率時光熱敏元件12的溫度變化的比較。具有較高導(dǎo)熱率的彈性層38對光熱敏元件12有較快的加熱響應(yīng)。彈性層的導(dǎo)熱率較低的光熱敏元件在大約9.65秒內(nèi)達到其最終穩(wěn)態(tài)溫度的99.9％，而導(dǎo)熱率較高的硅樹脂則要7.45秒。算得它們之間的最大溫度差為7.40°F(-13.6℃)。
除了導(dǎo)熱率，彈性層38的硬度計允許熱處理機10在光熱敏元件12上顯影出高質(zhì)量的圖像。如圖5所示，在光熱敏元件12和低彈性加熱構(gòu)件14(例如鋁)之間裹入的外來顆粒44可引起圖像的不均勻顯影。如果外來顆粒44足夠(大例如其尺寸＞0.001英寸(0.0254mm))，它就會使光熱敏元件12懸浮在加熱構(gòu)件14的表面上方，在顆粒44的周圍形成氣隙46。在此不接觸區(qū)，光熱敏元件12不能接收用于充分地顯影圖像的充足熱量，從而產(chǎn)生一個不均勻的區(qū)域。
圖6示出了在采用上述的理論模型分析時，0.001英寸(0.0254mm)的氣隙對向光熱敏元件12傳熱的速度的影響。氣隙效果表明，它需要約8.17秒才可加熱至元件的最終穩(wěn)態(tài)溫度的99.9％。如圖7所示，采用加熱構(gòu)件14上的彈性層38，就可以減少或消除這一缺陷，它允許顆粒44被壓入彈性層38中，從而允許與光熱敏元件12有更均勻的接觸。
較大的顆粒，例如其尺寸大于0.010英寸(0.25mm)甚至0.050英寸(1.27mm)的顆粒，可以被壓入彈性層38中，從而可減少圖像缺陷。不過，當顆粒尺寸接近這一尺寸時，完全消除可見缺陷的能力就會降低。在此情況下，可以用其它裝置，例如適當?shù)陌鼑鸁崽幚頇C10的隔室和內(nèi)部的過濾系統(tǒng)，來減少這種尺寸的顆粒44的存在。
彈性層38提供了足夠的可壓入性而不會降低耐磨性。彈性層38最好有一按肖氏硬度計A低于70的硬度，更好一些，小于肖氏硬度60A，再好一些甚至小于肖氏硬度55A。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)兩種顆粒狀的具有用以增加導(dǎo)熱率的摻雜物的含硅樹脂材料特別有用，例如由美國明尼蘇達州的Robinson Rubber of Minneapolis出品的硅有機化合物#10-3040(X-040)或由美國紐約州的Winfield工業(yè)公司出品的W852。
雖然這些材料中的硅有機樹酯有較小的導(dǎo)熱率，但是硅有機樹酯提供了可壓入性和耐用性?？梢蕴鎿Q其它基本材料?？杉尤胱銐虻膿诫s物，以得到使輸出率為最大的導(dǎo)熱率。但是，所加的摻雜物的量要均衡，以優(yōu)化有益于輸出率的導(dǎo)熱率、有益于減少缺陷的可壓入性和有益于耐磨性的耐用性。含硅有機樹脂的材料還有一個附加的優(yōu)點，即提供了對光熱敏元件12的釋放性與化學惰性。
摻雜物還可以給彈性層38提供較大的導(dǎo)電率，這對處理靜電聚集是有益的。
彈性層38的厚度要使得可以做到充分減少缺陷而又不會明顯地影響輸出率。彈性層38的厚度最好在0.010和0.060英寸(0.25和1.5mm)之間。也可以使用更薄的彈性層38，但是應(yīng)當考慮薄層的減少缺陷的能力和薄層的可制造性。對于前面談到的經(jīng)過摻雜的硅有機樹酯材料，厚度最好在0.025和0.040英寸(0.64和1.0mm)之間，更好一些，在0.027和0.033英寸(0.69和0.84mm)之間，以保持減少缺陷和輸出率之間的均衡。另外，彈性層38的厚度沿表面的變化最好不超過20％，再好一些，不超過10％，更好一些，不超過5％，圓度的徑向跳動最好減至最小。
在此實施例中所示的導(dǎo)向構(gòu)件16是可旋轉(zhuǎn)的輥子，雖然也可以采用其它形狀的導(dǎo)向構(gòu)件16，如小的可移動的帶子，只要能消除帶子花紋和接縫的影響或?qū)⑵錅p少至可以接受的水平。在一個實施例中，導(dǎo)向構(gòu)件16是鋁質(zhì)的并是具有0.86英寸(2.18cm)的外徑與0.04英寸(0.1cm)的壁厚的管子。在另一實施例中，導(dǎo)向構(gòu)件16具有0.93英寸(2.36cm)的外徑和0.04英寸(0.1cm)的壁厚。導(dǎo)向構(gòu)件16的中空特性有助于阻止傳熱，以將導(dǎo)向構(gòu)件16在顯影時所產(chǎn)生的熱量減至最少。導(dǎo)向構(gòu)件26也可以不是中空的，而是做成實心的或填實的，但最好要使它們有最小的熱質(zhì)量。
在導(dǎo)向構(gòu)件16的外表面上可以施加能導(dǎo)電的涂層如鍍鎳層，以從加熱構(gòu)件14上導(dǎo)走靜電。伸入導(dǎo)向構(gòu)件16的端部的導(dǎo)向構(gòu)件軸40也伸入在導(dǎo)向構(gòu)件支架21上的長孔42中，并可使導(dǎo)向構(gòu)件16自由旋轉(zhuǎn)。導(dǎo)向構(gòu)件軸40也可以是導(dǎo)電的并與大地相接，用于給否則會在導(dǎo)向構(gòu)件16或加熱構(gòu)件14上聚集的靜電提供一條放電通路。長孔42沿徑向與加熱構(gòu)件14的軸22對齊，以使導(dǎo)向構(gòu)件16能朝加熱構(gòu)件14移動或從其離開。
彈簧28將每個導(dǎo)向構(gòu)件軸40的端部連接在導(dǎo)向構(gòu)件支架21上，從而將導(dǎo)向構(gòu)件16推向加熱構(gòu)件14，并使每個導(dǎo)向構(gòu)件16的每一端都能獨立于導(dǎo)向構(gòu)件16的另一端而移動。所選擇的彈簧28使每個導(dǎo)向構(gòu)件在光熱敏元件12被加熱構(gòu)件14加熱時向光熱敏元件12施加每英寸光熱敏元件12寬度的一個特定力。此力應(yīng)當大到足以將光熱敏元件12保持貼靠在加熱構(gòu)件14上，以使熱量均勻地從加熱構(gòu)件14傳至光熱敏元件12，從而允許均勻的顯影。在沒有足夠的力時，加熱構(gòu)件14和/或?qū)驑?gòu)件16上的表面缺陷以及光熱敏元件12中的缺陷都能使光熱敏元件12的一部分接受不均勻的傳熱和顯影。不均勻的傳熱和顯影會致使形成非所希望的顯影花紋，例如花斑區(qū)。
施加的力不夠大還可以在導(dǎo)向構(gòu)件空載的情況下使導(dǎo)向構(gòu)件16不旋轉(zhuǎn)。當發(fā)生這種情況，而導(dǎo)向構(gòu)件16仍在其移過加熱構(gòu)件14時與光熱敏元件12接觸時，導(dǎo)向構(gòu)件16能刮傷光熱敏元件12。
另一方面，由每個導(dǎo)向構(gòu)件16施加的力的大小不應(yīng)當超過可在光熱敏元件12上產(chǎn)生壓痕的量。產(chǎn)生壓痕的量可取決于正在被顯影的光熱敏元件的結(jié)構(gòu)成份。對于那些尋求圖像均勻的人來說，壓痕和花斑區(qū)都是不能接受的缺陷。
此外，當在圍繞以圓柱形滾筒的形式示出的加熱構(gòu)件14放置的導(dǎo)向構(gòu)件16中采用彈簧28時，由每個彈簧28所提供的彈簧力可以選擇成能平衡作用在每個導(dǎo)向構(gòu)件16上的重力。例如，為了在光熱敏元件12上作用同樣的總力，偏壓停放在加熱構(gòu)件14頂部上的導(dǎo)向構(gòu)件16的彈簧30要求有比將導(dǎo)向構(gòu)件16向上偏壓、使之靠在加熱構(gòu)件14底部上的另一彈簧30小的彈簧力。
為了減少或消除壓痕缺陷，同時又減少或消除花斑型缺陷以及其它與壓力有關(guān)的缺陷，有一實施例可以如此設(shè)計，以使由每個導(dǎo)向構(gòu)件16作用在光熱敏元件12上的力在7.2至200克每厘米光熱敏元件12寬度的范圍內(nèi)。最好，此力應(yīng)當在7.2至100克每厘米光熱敏元件12寬度的范圍內(nèi)。甚至更好一些，此力應(yīng)在14至30克每厘米光熱敏元件12寬度的范圍內(nèi)。此外，在此范圍內(nèi)的最佳的力取決于花斑型缺陷的減少與壓痕缺陷的均衡。在某些應(yīng)用中，一種類型的缺陷可能比另一種缺陷更不受歡迎。還有，光熱敏元件12的光熱敏乳劑的配方可以確定該特殊的光熱敏元件12對壓力不足和壓力過大的敏感性。
已經(jīng)證明，當一長度為18英寸(45.7cm)的導(dǎo)向構(gòu)件16沿一14英寸(35.6cm)寬的光熱敏元件的寬度作用一5.58克的總偏壓力時，在每厘米光熱敏元件12上作用7.2克力可消除壓痕缺陷和花斑缺陷(以后在例1中還要描述)。還證明，例如當一長度為18英寸(45.7cm)的導(dǎo)向構(gòu)件沿一11英寸(27.9cm)寬的光熱敏元件12的寬度作用一44.65克的總偏壓力時，每厘米作用73.1克力不會產(chǎn)生壓痕缺陷和花斑缺陷(以后在例1中還要描述)。也可以使用較高的例如超過200克每厘米的名義力。不過，尤其是當考慮到在連續(xù)使用和長期使用時壓力變化的可能性時，以及在采用壓敏性光熱敏元件時，產(chǎn)生壓痕缺陷的危險性就會增加。
也可以采用比上述力小的名義力。但是，特別是在考慮到作用力可能與名義力有偏差時，產(chǎn)生花斑缺陷的危險性就要再次增加。還有，力不夠大可以導(dǎo)致導(dǎo)向構(gòu)件16不滾動，這就可以進一步導(dǎo)致刮傷光熱敏元件12的表面。
除去由每個導(dǎo)向構(gòu)件16作用的力，對于在光熱敏元件12上進行高質(zhì)量的圖像顯影來說，相鄰的導(dǎo)向構(gòu)件16之間的間距也是重要的。當向加熱構(gòu)件14進給時，光熱敏元件12通常為室溫(約為70°F，21.1℃)。為了使熱處理機10的輸出為最高，加熱構(gòu)件14應(yīng)當將光熱敏元件12快速地從室溫加熱至至少為例如200°F(93.3℃)的臨界顯影溫度，以便開始顯影。
但是，在某些光熱敏元件12中所包括的基材在受熱時可同時熱膨脹和熱收縮，例如聚脂膜基元件或其它熱塑性塑料基元件。為了防止褶皺而得到均勻的尺寸變化，光熱敏元件12在不受約束的狀態(tài)和被夾平的狀態(tài)之間交替時應(yīng)當均勻地受熱。為了做到這一點，使多個導(dǎo)向構(gòu)件16之間的間距大到足以使相鄰導(dǎo)向構(gòu)件16之間的光熱敏元件12的區(qū)域得以在其未在導(dǎo)向構(gòu)件16和加熱構(gòu)件14之間被約束時改變尺寸。
但是，正如前面所指出的那樣，導(dǎo)向構(gòu)件16應(yīng)當使光熱敏元件12壓靠在加熱構(gòu)件14上一段停留時間，以便產(chǎn)生充足和均勻的傳熱，從而均勻地顯影光熱敏元件12。因此，相鄰導(dǎo)向構(gòu)件16之間的間距應(yīng)如此選擇，以使褶皺減至最少，而且還要使光熱敏元件12的加熱迅速而均勻。
對于彎曲的或圓柱形滾筒型加熱構(gòu)件14而言，相鄰的導(dǎo)向構(gòu)件16應(yīng)當靠的足夠近，以控制光熱敏元件12的前緣在位于導(dǎo)向構(gòu)件16之間時展平的趨向。為了將光熱敏元件12保持在導(dǎo)向構(gòu)件16和加熱構(gòu)件14之間，這一點是重要的。如圖1～3所示，所示的十五個導(dǎo)向構(gòu)件16繞加熱構(gòu)件14的224度半徑角放置，因而從中心到中心，各自隔開16度的半徑角。已經(jīng)證明，當加熱構(gòu)件14的直徑在3.5英寸(8.9cm)和8英寸(20.3cm)之間，而導(dǎo)向構(gòu)件16的直徑約為0.86英寸(2.18cm)時，這一實施例可用于剛性比較大的光熱敏元件12，例如那些具有7mil(0.18mm)聚酯膠片基厚度的光熱敏元件，也可用于剛性不太大的光熱敏元件12，例如那些具有4mil(0.1mm)聚脂膠片基厚度的光熱敏元件。
用三十個導(dǎo)向構(gòu)件(間距為一半)代替十五個導(dǎo)向構(gòu)件的類似實施例對光熱敏元件12的前緣提供了較大的抓取與顯影能力。另一方面，也可以選用比上述實施例大的間距。該間距與加熱構(gòu)件14的直徑、光熱敏元件12的厚度和所要求的傳熱均衡。預(yù)計多于三個或最好多于十個的導(dǎo)向元件16就能提供足夠的光熱敏元件12與加熱構(gòu)件14的接觸面積，以在最佳的輸出率時實現(xiàn)光熱敏元件12的顯影。
在與光熱敏元件12接觸的各第一導(dǎo)向構(gòu)件16之間的間距可以小于各下游導(dǎo)向構(gòu)件16之間的間距。這種布置能較好地將光熱敏元件12在其未被完全加熱同時仍然較硬時保持在加熱構(gòu)件14上。更進一步，相鄰導(dǎo)向構(gòu)件16之間的間距還可使存在于加熱構(gòu)件14與光熱敏元件12之間的揮發(fā)性物質(zhì)更多地排氣。當光熱敏元件12由于與加熱構(gòu)件14接觸而受熱時，光熱敏元件12中的揮發(fā)性物質(zhì)可在光熱敏元件12與加熱構(gòu)件14之間產(chǎn)生汽化物質(zhì)囊，引起不均勻的傳熱。氣體可以較容易地從光熱敏元件12的位于相鄰導(dǎo)向構(gòu)件16之間和未受其約束的那部分逸出。
加熱毯31是加熱器的一種，它可以與加熱構(gòu)件14進行熱連接(即能夠加熱加熱構(gòu)件14)，以加熱加熱構(gòu)件14，雖然其它的加熱器也能滿足需要。加熱毯31的一個例子是用于加熱加熱構(gòu)件14的抗腐蝕的薄片式加熱毯31。所示加熱毯31可以包括許多獨立的控制區(qū)(在圖1～3中未示出)，以保證光熱敏元件12所接觸的整個加熱構(gòu)件14的溫度均勻。加熱毯31包括在管的兩端的兩個1.5英寸(3.8cm)寬的區(qū)域，和一個15英寸(38.1cm)寬的中央?yún)^(qū)。每個區(qū)域都包括一個電阻溫度計式(RTD)傳感器(也未示出)。這種類型的加熱毯31在市場上可以從許多像明尼蘇達州(MN)的Minco有限公司的制造廠商那里得到。盡管本實施例涉及了三個加熱區(qū)，但是可以設(shè)想，只要可以滿意地獲得溫度均勻性，就可以采用少一些或多一些的區(qū)域。另外，盡管光熱敏元件12經(jīng)過并接觸的整個加熱構(gòu)件14的溫度(也就是橫向于紙卷的溫度均勻性)應(yīng)當是均勻的，但加熱構(gòu)件14也可以被設(shè)計成和/或控制成能在加熱構(gòu)件14的周向部分之間產(chǎn)生所要求的溫度差(即沿紙卷的溫度不均勻性)。另一種方案是，加熱構(gòu)件14可以將形狀做成和/或被控制成可產(chǎn)生沿紙卷的溫度不均勻性。
加熱器電子控制設(shè)備32可與加熱構(gòu)件14一起旋轉(zhuǎn)，并能響應(yīng)所感受到的溫度信息調(diào)節(jié)供往加熱毯31的電能。加熱毯31和電子控制設(shè)備32應(yīng)當能在加熱構(gòu)件14的表面上達到并保持一適合于顯影熱處理器10據(jù)以構(gòu)形的特殊的光熱敏元件12的溫度范圍。在一個實施例中，加熱毯31與電子控制設(shè)備32可將加熱構(gòu)件14加熱至在60℃和160℃(140°F和320°F)之間的溫度，并應(yīng)將橫向于加熱構(gòu)件14的溫度差保持在5°F(2.78℃)之內(nèi)，最好在2°F(1.1℃)之內(nèi)，更好一些，在1°F(0.55℃)之內(nèi)。對于具有較寬的熱范圍的光熱敏元件12，可允許有較大的公差。
熱處理機10的使用包括將未顯影的光熱敏元件12送入由加熱構(gòu)件14和處于上游的導(dǎo)向構(gòu)件16形成的輥隙(即圖2中的輥隙50)中。當一面(或兩面)具有光熱敏乳劑的光熱敏元件12在以其乳化劑面朝著或背離彈性層38的情況下被送入熱處理機10時，就可以被顯影，雖然優(yōu)選將具有乳化劑的一面朝著彈性層38。此后，光熱敏元件12就隨著加熱構(gòu)件14旋轉(zhuǎn)，而導(dǎo)向構(gòu)件16則將光熱敏元件12推向加熱構(gòu)件14并使光熱敏元件12在此旋轉(zhuǎn)中保持與加熱構(gòu)件14接觸一段停留時間。
由于導(dǎo)向構(gòu)件16和加熱構(gòu)件14能以與正被顯影的光熱敏元件12幾乎相同的速度移動，因此，就可以減少或消除光熱敏元件12的表面的擦傷。當希望有高質(zhì)量的圖像時，這一點是重要的。
在經(jīng)過顯影的光熱敏元件12在加熱構(gòu)件14與導(dǎo)向構(gòu)件16之間被輸送之后，當它從由最下游的導(dǎo)向構(gòu)件16和加熱構(gòu)件14形成的輥隙(即圖2中的輥隙52)中出現(xiàn)時，可以從熱處理機10中把它拉出。
可將熱處理機10的構(gòu)形做成能顯影各種光熱敏元件12，例如涂在7mil(0.178mm)聚脂基體上的紅外感光鹵化銀光熱敏乳劑(以后在例1中要描述)。使加熱構(gòu)件14的溫度維持在240°F和280°F(115.6℃和137.8℃)之間，例如維持在255°F(123.9℃)，而且以一使光熱敏元件12與加熱構(gòu)件14保持接觸約15秒的停留時間的速度旋轉(zhuǎn)。由于有了這一停留時間和這個加熱構(gòu)件溫度，可以將光熱敏元件12的溫度升高到約255°F(123.9℃)。將彈性層38的厚度與導(dǎo)熱率選成能以特定的輸出率連續(xù)處理多個光熱敏元件12。
當然，這些參數(shù)可以隨被顯影的光熱敏元件12的特有特性和所要求的輸出率目標而變化。例如，加熱構(gòu)件14的溫度與轉(zhuǎn)速以及光熱敏元件12與加熱構(gòu)件14接觸的停留時間都可以改變，以便對具有不同顯影要求的光熱敏元件12進行顯影。另外，加熱構(gòu)件14和導(dǎo)向構(gòu)件16都可以有彈性層或是導(dǎo)向構(gòu)件16有彈性層而加熱構(gòu)件14則具有彈性較小的外表面。再有，可以改變熱處理機10的構(gòu)形使得旋轉(zhuǎn)的輥子是加熱構(gòu)件14，而圓柱形滾筒或受到支承的平的無端帶可作為導(dǎo)向構(gòu)件16。最好，使光熱敏元件12的光熱敏乳劑層與彈性層38接觸，不過，光熱敏元件12的反面也可以與彈性層38接觸。此外，還最好使光熱敏元件12的光熱敏乳劑層與加熱構(gòu)件14接觸，不過，光熱敏元件12的反面也可以與加熱構(gòu)件14接觸。
在圖像的熱顯影之后，可最好將光熱敏元件12提起并朝著例如一冷卻裝置從加熱構(gòu)件14的表面引導(dǎo)開。但是，重要的是，用于提起和導(dǎo)向光熱敏元件12的結(jié)構(gòu)不會引起損傷或只有不大的損傷，即不會造成表面磨損或只有不大的磨損。此外，該結(jié)構(gòu)最好應(yīng)抵消光熱敏元件12在如圖1～3所示的在加熱構(gòu)件14的彎曲表面上被加熱以后發(fā)生翹曲的趨勢。
圖8與9中所示的元件導(dǎo)軌60涉及兩種要求。元件導(dǎo)軌60包括導(dǎo)板62和導(dǎo)輥64，導(dǎo)輥64放在導(dǎo)板62的導(dǎo)輥槽66中?？梢云珘涸?dǎo)軌60，使之靠近加熱構(gòu)件14。如圖所示，元件導(dǎo)軌60還包括導(dǎo)向軸承68，該軸承68在加熱構(gòu)件14上滾動并使導(dǎo)板62位于離加熱構(gòu)件14一固定距離處。這樣就防止導(dǎo)板62與加熱構(gòu)件14接觸，并防止有可能損傷加熱構(gòu)件14的表面。此外，元件導(dǎo)軌60可以有足夠的剛度，以使使用者能從元件導(dǎo)軌60上擦去外來物質(zhì)而不致將其撓曲至使其與加熱構(gòu)件14接觸的地步。
元件導(dǎo)軌60可以引導(dǎo)光熱敏元件12的前緣和主要部分。導(dǎo)板62在光熱敏元件12位于加熱構(gòu)件14的上述表面上時接納光熱敏元件12的前緣。在一個實施例中，導(dǎo)板62與加熱構(gòu)件14之間的固定距離約為0.005英寸(0.127mm)，這樣與加熱構(gòu)件14緊密接觸的0.008英寸(0.203mm)厚的光熱敏元件12的前緣可以碰上導(dǎo)板62并從導(dǎo)板62的上方朝導(dǎo)輥64彎曲。導(dǎo)輥64可從導(dǎo)板62接納上述前緣。導(dǎo)輥64可由于它的地位而旋轉(zhuǎn)，并將光熱敏元件12從導(dǎo)板62的表面上移開，以使光熱敏元件12的其余部分或主要部分不與導(dǎo)板62接觸。這樣就防止了光熱敏元件12的剩下部分或主要部分被導(dǎo)板62是固定的這一性質(zhì)損壞。導(dǎo)輥64可從用可從明尼蘇達州(MN)Minneapolis的Illbruck有限公司買到的Willtec泡沫材料做成。
為了使由于光熱敏元件12的加熱和冷卻而產(chǎn)生的翹曲最小，圖9中所示的元件導(dǎo)軌60將光熱敏元件導(dǎo)離加熱構(gòu)件14的角度θ是重要的。顯影后的光熱敏元件12的平整度可取決于被加熱的光熱敏元件12從加熱構(gòu)件14離開的角度，以及在冷卻過程中光熱敏元件12中的溫度梯度。為了以最好不超過0.4英寸(10.0mm)，更好一些不超過0.2英寸(5.0mm)的動態(tài)翹曲(ANSI標準試驗PH1.29-1985)顯影光熱敏元件12，光熱敏元件12不應(yīng)當在其離開加熱構(gòu)件14時經(jīng)受突然的溫度改變。在理想的情況下，允許光熱敏元件12在一延長的輸送距離上緩慢地實現(xiàn)均衡。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，對于厚度為0.08英寸(0.20mm)的光熱敏元件12(以后在例1中還會進行描述)而言，角度θ應(yīng)最好至少為10度，更好一些，在10度與50度之間，以得到可接受的平整度。對于具有不同類型和厚度的基材或乳劑/成像層的光熱敏元件12，此角度θ可以改變。
如上所述，元件導(dǎo)軌60可將光熱敏元件12引導(dǎo)至如圖10所示的冷卻裝置80。為了有最小的設(shè)備占地面積和最高的設(shè)備輸出率，最好使光熱敏元件12在一個短的距離內(nèi)并且在一個短的時間內(nèi)冷卻。但是，冷卻速度要受到控制，以便在光熱敏元件12中不產(chǎn)生大的溫度梯度，這種大溫度梯度將引起過大的應(yīng)力，導(dǎo)致不均勻的尺寸變化或翹曲。對冷卻速度進行控制，使得在光熱敏元件的溫度低于膠片基的玻璃態(tài)轉(zhuǎn)變溫度以前不會使光熱敏元件12經(jīng)受突然的溫度改變。
光熱敏元件12的冷卻速度和平整度可以通過將光熱敏元件12送入圖10所示的冷卻裝置80來控制。冷卻裝置80包括一組輥子84、88，它們冷卻光熱敏元件12并保持其平整。一種可能的構(gòu)形包括第一輥隙82，它可接納來自例如上述的元件導(dǎo)軌60的光熱敏元件12并開始通過導(dǎo)熱而使其冷卻。第一輥隙82可將光熱敏元件12向前送至第二輥隙83，該第二輥隙進一步地通過導(dǎo)熱來冷卻光熱敏元件12。由于輥子84，88以幾乎與光熱敏元件12的輸送速度相同的速度旋轉(zhuǎn)(同導(dǎo)向構(gòu)件16和加熱構(gòu)件14一樣)，所以使光熱敏元件12的表面上的損傷得以減少。
第一和第二輥隙82，83可以每個都包括一散熱輥84，光熱敏元件12從其上經(jīng)過。散熱輥84有散熱輥芯85和導(dǎo)熱率較低的外層86。第一和第二輥隙82，83還可以包括咬送輥88，它具有咬送輥芯90和咬送輥外層92。咬送輥外層92可以用像可從明尼蘇達州的Illbruck有限公司購到的Willtec泡沫材料制造。
第二輥隙84可將光熱敏元件12向前送至光熱敏元件12也從其上經(jīng)過的另一散熱輥84。此散熱輥84可用于完成冷卻，雖然在需要時也可以采用另外的輥隙。
在一個實施例中，導(dǎo)熱率較低的層86是一覆蓋在散熱輥芯85上的0.060英寸(0.15cm)的尿烷，輥芯85用實心的鋁制造，并具有15英寸(38.1cm)的長度和大約1.3英寸(3.3cm)的直徑。在此實施例中，尿烷傳熱較慢，用作受熱的光熱敏元件12和具有較高的導(dǎo)熱率和較大的熱質(zhì)量的鋁芯之間的緩沖。也可以采用其它的厚度與材料的組合，以保證同樣的冷卻效果和特定的輸出率。
在一個實施例中，第三散熱輥84也可優(yōu)選為涂覆有尿烷的鋁輥，雖然在不涂覆時，鋁可以提高最終的冷卻作用。
采用冷卻裝置80的這個實施例的這種分段式或漸進的冷卻可以得到大于每小時120張14英寸×17英寸(35.6×43.2cm)光熱敏元件12的冷卻能力。(參看例1中的光熱敏元件12的說明)。同樣重要的是，這種冷卻裝置80可在距加熱構(gòu)件14 8英寸(20.3cm)的長度內(nèi)冷卻這些光熱敏元件12，從而可允許占用最小的使用面積和臺面(占地面積)。
前面已經(jīng)說過，熱處理機10可以同其它使用光熱敏元件12的裝置組合使用。例如，熱處理機10可以是一個與成像裝置串聯(lián)的組件，也可以是該裝置的一個組成部分。成像裝置可以是如下所述的一種成像裝置，即它由通過透明底片、數(shù)字化激光輻射的投射、靜電荷成像或任何其他的可形成隨后可以被熱顯影的潛像的成像能源傳送光化輻射線(例如光)，對相紙或膠片提供成像的曝光。該成像裝置和熱處理機10也都可以是其它系統(tǒng)的一部分，在此系統(tǒng)中，最初可以從照相機、視頻陰極管、行數(shù)據(jù)傳輸或任何其它的能隨后在成像裝置中在光熱敏元件12上轉(zhuǎn)而進行成像地曝光的源提供電子信息。
在醫(yī)學技術(shù)和印刷技術(shù)市場上，分別在醫(yī)學成像器和圖像調(diào)整器中，將半導(dǎo)體激光二極管廣泛地用在照相成像裝置中。具有當今印刷技術(shù)水平的圖象調(diào)整器使用功率通常為5～30mW的紅外激光二極管，而現(xiàn)有的3M醫(yī)學激光成像器則通常將15或30mW的紅外激光二極管用于鹵化銀。半導(dǎo)體激光二極管的應(yīng)用是根據(jù)鹵化銀成像裝置中普通激光(氫離子、氦-氖離子等)的非常成功的應(yīng)用得出的。固態(tài)半導(dǎo)體激光二極管的不斷普及來源于它們具有較大的方便性，尺寸小、較好的成本效益、使用壽命延長、易于被調(diào)制的能力和連續(xù)調(diào)色能力。
采用窄束輻射線在光熱敏元件12上提供點曝光，以產(chǎn)生在熱處理機10中被熱顯影的潛像。這些窄束在光熱敏元件12上曝光多個點(例如在醫(yī)學診斷成像中，小于600μm半最大光強度寬(Full Widtth HalfMaximum FWHM)的點，最好小于500μm FWHM。再好一些，小于250μm FWHM，再更好一些，小于150μm FWHM，而在印刷技術(shù)領(lǐng)域的成像中，小于150μm FWHM，最好小于100μm FWHM，而小于50μm FWHM更好)。當這些點的區(qū)域與其它點的區(qū)域交疊時，增加膠片速度反差和在光熱敏元件12上產(chǎn)生的圖像質(zhì)量。用窄束或相干輻射進行多光柵掃描的方法已在于1994年5月6日提交的Mohapatra等人的題為“用于成像材料的改進的成像方法”的美國專利申請系列號No.08/198970中公開。
由像激光或激光二極管這樣的相干輻射源發(fā)出的光可以看作是單色光，它具有相當均勻的束寬，比較一致的(來自一給定的輻射源的)點形。不過，在實際成像中，存在著光點的不完整性?？捎行У亟油ɑ驍嚅_相干光源，以產(chǎn)生每個點或脈沖。
另外，當成像源的方向移動時，光點通常不是隨著輻射源的“斷開”而逐點移動。當點沿焦面移動時，輻射源可能會平穩(wěn)地移動，同時輻射線會對準或離開。這樣可使點的外觀與來自輻射源的發(fā)射形狀不一樣，并且使在點中的能量分布不能理想化(即，在點的整個區(qū)域中不是均勻分布，而是更近于正態(tài)分布)。采用單色輻射源的優(yōu)點在相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域中是眾所周知的。
掃描運動與驅(qū)動成像器的能量梯度組合，也會影響點中的能量分布。與一個點的物理中心或統(tǒng)計中心相比，當與快速掃描的方向垂直(在水平移動的點的頂部和底部)并沿著運動方向時，在一個點的尾緣(由一脈沖產(chǎn)生的點的第一端)和一個點的前緣(在脈沖中產(chǎn)生的點的最后端)都有較低的能量。除去速度限制和由光熱敏元件12對圖像質(zhì)量產(chǎn)生的其它感光度方面的限制，這些輻射源的變化必然不會與經(jīng)過相干輻射曝光的光熱敏元件12組合，而形成一高質(zhì)量的成像系統(tǒng)。
象元(它可以包括在一個有序的圖形或陣列中的許多點)的正常曝光時間或停留時間經(jīng)常在大約0.1(例如0.01至1)μs。對于醫(yī)療診斷成像方面的應(yīng)用而言，象元的停留時間(脈沖速率)通常在0.02至10μs之間，在對于印刷領(lǐng)域方面，則通常小于0.10μs，較大的數(shù)值代表不太優(yōu)選的慢成像系統(tǒng)，其中可能由于特殊成像系統(tǒng)的需要而采用功率較小的脈沖。在本發(fā)明的實踐中，優(yōu)選0.03至6的象元速度，更好一些，采用0.05至5，最好用0.08至3，這樣，可以最大地利用本發(fā)明在實際中的優(yōu)點。自然，由于介質(zhì)、相干光源、光譜吸收劑、硬件、軟件等的改進已經(jīng)商業(yè)化，因此，可以大大地改變這一范圍。象元的曝光時間取決于點沿焦面移動時的速度。點的速度通常在1和1000m/s之間。脈沖和成像方法的各種特性通?？梢员粩⑹鰹?，相干輻射源的輸出越大，所需要的象元曝光時間越短，并且點的速度可以越快。
相干光源的功率輸出通常應(yīng)當能夠在成像裝置的焦平面上從一個(通常是)或多個光源(例如像激光或激光二極光這樣的點光源)提供一至少為600erg/cm2的脈沖。在現(xiàn)有的技術(shù)水平下，輻射源應(yīng)當在至少400erg/cm2至約4000erg/cm2之間。在成像裝置的焦平面上，優(yōu)選的能量輸出范圍可在約600～3000erg/cm2每個脈沖的范圍內(nèi)。作為通過激光二極管的電流的函數(shù)的激光二極管功率輸出理想上應(yīng)當是線性的，其動態(tài)范圍(Pmax至Pmin)大于50至1，再好一些，要大于100至1，最好大于200至1。通過向二極管提供一與在1至20MHz得到的數(shù)據(jù)對應(yīng)的電流(例如多個連續(xù)或單一的脈沖)，從二極管產(chǎn)生點以重顯用于連續(xù)的彩色印刷的8～12比特(bit)(256至4096)的灰度。此外，使激光二極管與高頻振蕩疊加，以使激光行寬的擴大大于1nm，最好大于2nm，更好在2～6nm之間。行擴大減少了在光熱敏元件12上看到的干涉后生現(xiàn)象。為了造成行擴大，使振蕩幅度處于激光二極管的功率與電流的特性曲線的拐點下面。振蕩電流的最大幅度應(yīng)至少是在光熱敏元件12上產(chǎn)生大于2.5的光密度時所需的平均功率的兩倍。在此光密度水平下，與干涉有關(guān)的圖像后生現(xiàn)象不會為人眼所看見。激光二極管的振蕩頻率應(yīng)當比數(shù)據(jù)率高很多，以保持明顯的行擴大并減少圖像后生現(xiàn)象。典型的振蕩頻率在300至800Mhz的范圍內(nèi)。
對于在醫(yī)學診斷成像領(lǐng)域中的應(yīng)用而言，光熱敏元件12、成像裝置和熱處理機10的系統(tǒng)性能要如此均衡，以得到最佳的圖像質(zhì)量，其中所產(chǎn)生的圖像的灰度至少為64，最好至少為128，更好為256，最小密度小于0.25光密度單位，最大密度大于2.6光密度單位，分辨率多于3線對每毫米，并且在0.50和3.0光密度范圍內(nèi)的特定光密度下，在一14英寸×17英寸(35.5cm×43.1cm)的圖像面積內(nèi)有小于或等于0.15光密度變化的圖像均勻性。另外，未曝光的和最后成像的光熱敏元件12具有小于20mm的動態(tài)翹曲(ANSI標準試驗PH1.29-1985)，該翹曲最好小于0.4英寸(10mm)的，更好小于0.2英寸(5mm)，同時沒有可見的刮傷或褶皺。
光密度均勻性由光熱敏元件12的工作特性和成像裝置的曝光變化與熱處理機10的溫度控制聯(lián)合控制。光熱敏元件12的光密度均勻性可受到涂層配方和涂層方法的影響。使涂層配方的流變性能優(yōu)化，以沿紙張或紙卷的橫向獲得均勻的涂層厚度。涂層的混濁或模糊要減至最小，以減少涂層中光的散射。優(yōu)化光熱敏乳劑的感光響應(yīng)，以在成像裝置的曝光范圍和熱處理機10的處理范圍的極限內(nèi)使用。光熱敏元件12的熱處理范圍要在比較了在顯影溫度范圍內(nèi)光密度與曝光時間的對數(shù)的關(guān)系后確定。光熱敏乳劑的配方與熱處理機10的條件要選擇成與光熱敏元件12的熱處理范圍和熱處理機10的溫度控制的關(guān)系有最好的匹配。將熱處理機10的溫度控制成使溫度變化小于或等于5°F(2.78℃)，最好小于或等于3°F(1.7℃)，再好一些，小于或等于2°F(1.1℃)，最好小于或等于1°F(0.55℃)。熱處理機10的溫度由溫度控制器控制，這樣在非常短的時間內(nèi)可重建熱平衡條件，以減少光熱敏元件12的張與張和一張之間的光密度偏差，尤其是在高輸出率時。溫度控制器的一個例子已在1994年5月9日提交的、Tanamachi等人的題為“用于控制電加熱物體的溫度和可移動的電加熱物體的設(shè)備”的美國專利申請系列號08/23954中公開。
成像裝置中的曝光(每單位面積上每單位時間內(nèi)預(yù)定能量的光子數(shù))偏差也可以影響光密度的均勻性。一個2％的曝光偏差可以導(dǎo)致0.01至0.02的光密度變化?？刂萍す舛O管發(fā)射的一致性，采用激光的高頻調(diào)制，監(jiān)控光束功率和采用檢查表，可以將曝光偏差減至最小。要橫向于快速掃描方向X測量由不同的源，如在一2維激光掃描器112中的檢流計掃描器122，124引起的或由偏振光引起的反射變化而造成的光密度不均勻性。與光密度不均勻性相應(yīng)的曝光修正要儲存在激光掃描器112的電子設(shè)備內(nèi)的可清除的可編程只讀存貯器中。將這種修正用作對實際的空間激光曝光值的動態(tài)乘數(shù)。對成像裝置進行控制，以使曝光偏差小于或等于6％，最好小于或等于4％，更好一些，小于或等于2％。
對光熱敏元件12要按配方制造并進行涂層以得到小于或等于0.1的光密度變化。在例1中描述了一優(yōu)選的光熱敏元件12的例子。在知道了由系統(tǒng)中的每個組成所引起的限制后，可以使系統(tǒng)均衡，以在規(guī)定的光密度下得到一個小于或等于0.30光密度單位的光密度均勻性，最好小于或等于0.20光密度單位，更好小于或等于0.15光密度單位。
在圖11中所示的本發(fā)明的一個實施例描述了一種可以與例1中所描述的光熱敏元件12配合使用的設(shè)備100，它能滿足醫(yī)學診斷成像應(yīng)用中的系統(tǒng)性能指標。如圖所示，設(shè)備100包括裝有至少一個光熱敏元件12的卡盒106，一光學掃描組件108，電子儀器組件110，和一封閉在殼體101中的做成一整體的熱處理機10。
卡盒106包含未曝光的光熱敏元件12。將一具有獨特的卡盒106的標志、光熱敏元件12的尺寸、光熱敏元件12的類型信息和光熱敏元件12的感光度信息的光學條形碼(未示出)附在卡盒106的底面上。當打開卡盒106時，可從條形碼中讀取信息。作為電子組件110的一部分的圖像管理子系統(tǒng)(未示出)將激光掃描器112控制成為輸入數(shù)據(jù)和從條形碼上讀取的感光度信息的函數(shù)。圖像管理子系統(tǒng)也可使熱處理機10顯影光熱敏元件12。圖像管理子系統(tǒng)還可設(shè)定熱處理機10的顯影光熱敏元件12的條件，使之成為從條形碼上讀取的光熱敏元件12的類型信息的函數(shù)。用于掃描條形碼和控制信息的系統(tǒng)已在美國專利NO.5229585中公開。
光熱敏元件12用真空式進給機構(gòu)128從卡盒102中輸出。然后將光熱敏元件12送入分級區(qū)130，在該處，由雙向底片分級機構(gòu)132(以后將要描述)將光熱敏元件12送入光學掃描組件108中。分級區(qū)130可使光熱敏元件12定位在光學掃描組件108的附近，從而在掃描送入的前一個光熱敏元件12時，使光熱敏元件12易于送入光學掃描組件108，而不必開動真空式進給機構(gòu)128。這有助于消除可在最終的圖像上產(chǎn)生后生現(xiàn)象的振動。它還可在一個準備進入光學掃描組件108的排隊位置對光熱敏元件12分級，由此提高成像方法中的生產(chǎn)率。
光學掃描組件108包括圖13所示的激光掃描器112。激光掃描器112包括激光二極管114，連同準直偏振光學裝置116、分束器118、控制膠片板144的表面上的最大功率的衰減器120、沿快掃描方向X掃描光束的共振檢流計掃描器122和沿慢掃描方向Y在靜態(tài)地放在膠片板144上的光熱敏元件12上掃描光束的線性檢流計掃描器124，分束器118將主光束的2～10％分離，將其反饋回激光二極管114，用以使激光掃描器112線性化。采用在衰減器120和檢流計掃描器122，124之間的一組透鏡將光束聚焦在膠片板144上，并橫向于慢掃描方向Y進行平面場修正。有代表性的二維紅外激光掃描器112已在美國專利NO.4750045、5237444和5121138中作了描述。
激光掃描器122采用多次曝光并且最好是多次掃描，以改善圖像質(zhì)量。多次掃描是通過掃描若干較小的交疊的點以產(chǎn)生一單個的象元線來完成的。這樣就改善了多數(shù)光熱敏元件12的感光度性能，并改進了圖像的清晰度。此外，由于減少了描掃線的后生現(xiàn)象，可以采用此項技術(shù)來改進光熱敏元件12的具有最少的互反性問題的調(diào)制傳遞功能。光學掃描組件108通常采用三次掃描，以產(chǎn)生單一的象元線。對于一個78μm的象元線，點的尺寸大約是45μm×60μm，較大的尺寸是在慢掃描方向Y上的點的尺寸。對于不同的象元尺寸，可以很容易地完成合適的掃描。也可能將三個、四個、五個、六個，等等的點交疊，以產(chǎn)生同樣的象元尺寸。
將激光掃描器112裝在圖12所示的光學支架140上，用于在圖像掃描過程中對齊和固定光熱敏元件12。光學支架140用軋制的金屬薄板做成，它被焊接成一箱形的外殼。用焊接代替接頭有助于消除潛在的振動源。二維紅外激光掃描器112裝在三個V形的夾緊點142A。光熱敏元件12可經(jīng)過膠片進料槽146被輸送到圓柱形膠片板144上，在這里，光熱敏元件12被激光掃描。膠片板144的表面上涂有光吸收材料，以減少會引起圖像中非所希望的暈光作用的激光束的反射。當采用紅外激光作為輻射源時，由于光熱敏元件12在波長為800～820nm時的高光譜透射系數(shù)，被紅外線感光的光熱敏元件12對波長為800～820nm時的光暈特別敏感。光吸收材料最好在輻射源的波長范圍內(nèi)有低的反射率。此外，光吸收材料最好是耐磨的并且有低的摩擦系數(shù)。在光熱敏元件12和膠片板144的光吸收表面之間的靜摩擦系數(shù)與動摩擦系數(shù)最好小于0.2。在低于900nm時具有非常低的反射率(小于5％的光譜反射率)的優(yōu)選的光吸收材料的一個例子為可以從特拉華的威名頓的E.I DupontDeNemours公司購得的Impreglon 218C。
圖14和15所示的膠片對齊裝置148包括與銷152連接的推力螺線管，它可以用于幫助光熱敏元件12在膠片板144上正確地對齊。膠片對齊裝置148裝在膠片板144的下側(cè)，可使銷152穿過槽154突出。采用了一組四個膠片對齊裝置148，來完成光熱敏元件12的對齊和對中。當光熱敏元件12被送至膠片板144上時，接通螺線管150，使銷152被壓靠在彈簧156上，導(dǎo)致銷152離開膠片板144的中心，從而掃清用于將光熱敏元件12送至膠片板144上的道路。在光熱敏元件12被送至膠片板144的表面上時，斷開螺線管150，使銷152靠彈簧156的作用朝光熱敏元件12的邊緣移動。然后，使光熱敏元件12由于彈簧力的平衡而對中。
光學支架140比在大多數(shù)激光成像系統(tǒng)中所用的經(jīng)過機加工的傳統(tǒng)固定裝置輕而且更緊湊。將二維激光掃描器112與膠片板144做成一整體，可使光學掃描組件108在振動上與設(shè)備100的其余部分隔離，并在尺寸上保持緊湊。將激光掃描器112與膠片板144做成一體的另一優(yōu)點為，光學掃描組件108中的任何振動都將是同相的，因此可減少圖像的后生現(xiàn)象。這種隔振允許在設(shè)備100中平行操作而不致影響已經(jīng)成像的光熱敏元件12的最終圖像質(zhì)量。
一旦完成圖像的掃描，就用膠片排出機構(gòu)158將已經(jīng)曝光的光熱敏元件12從膠片板144上送出，排出機構(gòu)158包括通過鉤桿連接與螺線管的鐵芯162連接的一對被彈簧偏壓的鉸接的杠桿臂160。彈簧的偏壓使杠桿臂160從已經(jīng)曝光的光熱敏元件12的邊緣縮回，直至準備將已經(jīng)曝光的光熱敏元件12送出膠片板144之外。當致動螺線管162時，它將杠桿臂副160靠在已經(jīng)曝光的光熱敏元件12的邊緣上擺動，并將已經(jīng)曝光的光熱敏元件12朝雙向膠片分級機構(gòu)132移出膠片板144的平面，以將已經(jīng)曝光的光熱敏元件12送至熱處理機10。膠片排出機構(gòu)158在使用厚度大于5mil(0.18mm)的光熱敏元件12時工作得特別好。圖11中所示的雙向膠片分級機構(gòu)132包括一組三個輥子138、134和136，其中，位于中心的輥134是被動輥，而輥子138、136是惰輪。將膠片分級機構(gòu)132設(shè)計成使已經(jīng)曝光的光熱敏元件12可在輥子134和135之間被送出膠片板144，同時又在輥子134和138之間將未曝光的光熱敏元件12送到膠片板144上，而且在需要時，對膠片分級機構(gòu)132進行選擇，以使光熱敏元件12在通過膠片分級機構(gòu)132被輸送時，在其表面上造成的損傷和靜電保持最少。
電子組件110包括三個相互作用的控制系統(tǒng)圖像管理控制系統(tǒng)，激光光學裝置控制系統(tǒng)和機器控制系統(tǒng)。操作人員可通過一裝在控制臺上的鍵盤、便攜式鍵盤或調(diào)制解調(diào)器與電子儀器接口。
激光光學裝置控制系統(tǒng)包括一閉環(huán)電路，它控制已在美國專利No.5123024中描述過的激光掃描器112中的激光二極管的強度。激光光學裝置控制系統(tǒng)還通過機器控制系統(tǒng)從裝在熱處理機10的輸出處的光密度計164接收信息。光密度計164讀出并比較來自在掃描過程中產(chǎn)生的光密度插入碼(patch)的光密度信息，該掃描過程在已經(jīng)顯影的光熱敏元件12的尾緣上具有預(yù)定的目標光密度。如果必要的話，可調(diào)整激光輸出，以補償光密度上的任何微小差異。如果差異過大，機器本身就可自動地再校準。
處理機的條件可用接收從膠片卡盒上的條形碼讀取的信息的機器控制電子設(shè)備來控制，也可以用與機器控制系統(tǒng)中的系統(tǒng)控制器接口的其它系統(tǒng)例如亮度計164控制。
將設(shè)備100的外殼101分隔成兩個主室，即上室102和下室104，在這兩個室之間有一用于輸送光熱敏元件12的通道。熱處理機10最好位于上室102內(nèi)。使裝有光學掃描組件108、電子組件110和動力源111的下室104相對于上室102保持在正壓下，以防止在光熱敏元件12的熱處理過程中由從光熱敏元件12排放出來的揮發(fā)性物質(zhì)造成鏡片損傷，并保護光學掃描組件108，使之免受有害的溫度提高。下室104裝有一進氣口，上室102裝有一排氣口，以有利于空氣從下室104流至上室102。下室104還可以再分成幾個子室，從而將光學掃描組件108與電子組件110隔開，以進一步保護光學掃描組件108，使之免受有害的溫度提高。設(shè)備100可以裝有一外部或內(nèi)部的過濾系統(tǒng)，以減少在光熱敏元件12的熱處理過程中從光熱敏元件12上的揮發(fā)性物質(zhì)的排放所產(chǎn)生的異味。除去下室104中的正壓，過濾系統(tǒng)也有助于減少材料在設(shè)備100內(nèi)的零件上的沉積。雖然為了方便起見對圖11中所示的設(shè)備100的優(yōu)選實施例進行了說明，但兩個室也可以按另外的取向布置例如并排布置。
外殼101可包括一能打開的蓋子166。這個可打開的蓋子166可以例如可擺動地連接在外殼101的其余部分上。導(dǎo)向構(gòu)件16可以固定在蓋子166上，這樣當蓋子166打開時，使導(dǎo)向構(gòu)件16從加熱構(gòu)件14拿開，保證更容易接近加熱構(gòu)件14。這種接近方式使得更易于清掃加熱構(gòu)件14和導(dǎo)向構(gòu)件16，并有助于清除在輸送光熱敏元件12通過熱處理機10時可能發(fā)生的任何堵塞。
導(dǎo)向構(gòu)件16也可以獨立于加熱構(gòu)件14和蓋子166而移動。由于有了這種能力，導(dǎo)向構(gòu)件16可以從一靠著加熱構(gòu)件14的關(guān)閉位置移至一用于清掃加熱構(gòu)件12的打開位置。
將光學掃描組件108與熱處理機10結(jié)合成為一個單個的部件可以提供許多優(yōu)點。設(shè)備100的占地面積可以減至最小，到一小于80cm×90cm的尺寸。最后成像的光熱敏元件12的圖像質(zhì)量和性能特性可以自動地得到控制和調(diào)整。自動控制還可以使成像方法的生產(chǎn)率為最高。光熱敏元件12可以在熱處理第二個光熱敏元件12時成像，以提高生產(chǎn)率。當采用如例1中所描述的光熱敏元件12時，經(jīng)過成像的光熱敏元件12的輸出率一般為每小時120張14英寸×17英寸(35.5cm×43.1cm)的紙張，輸出率可隨光熱敏元件12的感光度特性和尺寸而改變。
至于印刷技術(shù)領(lǐng)域上成像的應(yīng)用，也必須以這樣一種方式均衡光熱敏元件12、成像裝置和熱處理機10的系統(tǒng)性能以獲得最佳的圖像質(zhì)量。與醫(yī)學診斷成像膠片不同，印刷技術(shù)中的膠片取決于用于模擬色調(diào)曲線的照相銅板網(wǎng)點，而不是連續(xù)的彩色成像。因此，在印刷技術(shù)領(lǐng)域的應(yīng)用中，其圖像質(zhì)量目標略有差別。在一12英寸×18英寸(30.5cm×45.7cm)的圖像面積內(nèi)，在規(guī)定的光密度(一般在最大的光密度)下，圖像的均勻性最好小于或等于0.15的光密度變化。分辨率最好為每英寸(2.54cm)1200至3300點。紫外線的最小密度(Dmin)最好小于或等于0.5光密度單位，最大密度(Dmax)最好大于或等于2.6光密度單位，更好一些，大于或等于3.2光密度單位。對于133的線條網(wǎng)屏刻度和每2.54cm 2400點，在Dmax大于2.6時，50％的照相銅板網(wǎng)點的點放大率最好小于15％(在用檢查表修正以前)。此外，未曝光的和最終成像的光熱敏元件12具有小于0.8英寸(20mm)的動態(tài)翹曲(ANSI標準試驗PH1.29-1985)，該動態(tài)翹曲最好小于0.4英寸(10mm)，更好一些，小于0.2英寸(5mm)，并且沒有可見的刮傷或褶皺。
圖象調(diào)整器通常用作成像裝置，用于在印刷領(lǐng)域的應(yīng)用中使光熱敏元件12成像。將激光二極管用于輻射源的圖像調(diào)整器的一個例子是可從紐約的Ultre*公司得到的Ultre*Setter。Ultre*Setter裝置在參考文獻(W.Hansen著的“一種個人排版用的低成本高質(zhì)量激光記錄器”(1989))中已作了描述。圖像用激光進行網(wǎng)格掃描，但是也可以調(diào)制激光束，以產(chǎn)生變能量曝光，從而得到連續(xù)的彩色圖像，圖像調(diào)整器則在能達到最大密度的能量級下受到同樣能量的曝光并調(diào)制激光束，使之對準或離開。光束對著的時間越短，則線段越短，而光束對著的時間越長，則線段越長。用一定程度的交疊建立線段，以避免可見的掃描線，就可產(chǎn)生大小不同的點，以模擬印刷時的灰度。
在印刷領(lǐng)域的應(yīng)用中通常使用三種類型的圖象調(diào)整器外滾筒、內(nèi)滾筒和絞盤。外滾筒和內(nèi)滾筒通常采用預(yù)先切好的成張膠片，而絞盤則通常采用成卷的膠片。
能生產(chǎn)可以滿足印刷領(lǐng)域圖像質(zhì)量目標的高質(zhì)量圖像的本發(fā)明的一個實施例包括如例1中所描述的光熱敏元件12(除去用4mil(0.10mm)基材代替7mil(0.18mm)基材)、一如上所述的Ultre*Setter圖像調(diào)整器和在圖1中描述并示出的熱處理機10。圖像調(diào)整器與熱處理機10可以是分開的部件或是做成一個整體的單一的裝置。
本發(fā)明的另一個方面是通過使光熱敏元件12成像并顯影，將數(shù)字數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為可見圖像的方法。光熱敏元件12在經(jīng)過調(diào)制的輻射線中曝光，以在光熱敏元件12中產(chǎn)生一代表數(shù)字數(shù)據(jù)的潛像。通過使光熱敏元件12與熱處理機10中的一個加熱構(gòu)件14接觸，在臨界顯影溫度或超過臨界顯影溫度下保持足夠的停留時間，使貯存在曝光的光熱敏元件12中的潛像變成可見的。
在本發(fā)明中所用的優(yōu)選的光熱敏元件12包括含鹵化銀的光熱敏成像元件(即可熱顯影的照相元件)，它也稱為“干式銀鹽”混合劑或乳劑。光熱敏元件是眾所周知的，而且通常都包括一支承物，在其上涂有(1)光敏材料，它在被照射時產(chǎn)生元素銀；(2)非光敏的并且可還原的銀源；(3)用于非光敏的可還原的銀源的還原劑；和(4)粘結(jié)劑。光敏材料通常是照相用的鹵化銀，它必須在催化上接近非光敏的可還原的銀源。催化上的接近要求這兩種材料有緊密的物理結(jié)合，這樣當照相用的鹵化銀被輻射或曝光而產(chǎn)生銀微粒或銀核時，這些核能對可還原的銀源的還原起催化作用。早就已經(jīng)了解到，元素銀(Ag°)是用于還原銀離子的催化劑，光敏照相用的鹵化銀可以用許多不同的方式放入與非光敏的可還原銀源接近的催化區(qū)，例如用含鹵源部分地置換可還原的銀源(例如參看美國專利NO.3457075)，同時沉淀鹵化銀和可還原的銀源材料(例如參看美國專利No.3839044)；以及使光敏照相用鹵化銀與非光敏的可還原的銀源緊密結(jié)合的其它方法。
在照相乳劑與光熱敏乳劑中，照相用鹵化銀的曝光產(chǎn)生小的銀原子(Ag°)團。這些原子團的成像的分布在本領(lǐng)域中稱為潛像。這種潛像通常是不能用普通方法看見的，因此光敏性乳劑必須進一步受到處理，以產(chǎn)生可見的圖像。可見像通過銀離子的還原而產(chǎn)生，該銀離子在催化上與支承銀原子團，即潛像的鹵化銀晶粒接近。這樣就產(chǎn)生了黑白圖像。
由于可見像完全是由元素銀(Ag °)產(chǎn)生的，在不減少最大圖像密度時，就不能容易地減少乳劑中的銀量。不過，為了減少乳劑中所用原料的成本，減少銀量常常是所希望的。
在黑白照相乳劑與光熱敏乳劑中增加最大圖像密度而不增加乳劑層中的銀量的一種方法是在乳劑中摻入調(diào)色劑。調(diào)色劑改善了光熱敏乳劑的銀像的色彩。
另一種增加照相乳劑與光熱敏乳劑的最大圖像密度而不增加乳劑層中的銀量的方法是在乳劑中摻入形成染料的材料，并產(chǎn)生彩色圖像。例如，彩色圖像可以通過在乳劑中摻入無色染料而形成。無色染料是著色染料的還原形式。它通常是無色的或顏色非常淡。在成像時，無色染料被氧化，在曝光區(qū)同時形成著色染料和還原的銀影。這樣，就可以產(chǎn)生例如美國專利NO.4187108、4374921和440681中所述的用染料增強的銀影。
彩色光熱敏成像制品通常包括兩層或多層形成的單色乳劑層(每個乳劑層常常包括一組含有成色劑的雙層)，它們用隔離層保持彼此的差異。疊加有一個光敏的光熱敏乳劑層的隔離層通常不溶于下一個光敏的光熱敏乳劑層的溶劑中。具有至少2或3層不同的成色乳劑層的光熱敏制品已在美國專利No.4021240和4460681中公開。各種用照相成色劑和無色染料產(chǎn)生染料影像和彩色圖像的方法在本技術(shù)領(lǐng)域中是眾所周知的，例如由美國專利NO.4022617、3531286、3180731、3761270、4460681、4883747和1989年3月的研究公報第29963項所代表。
隨著低輻射度光源，如發(fā)光二極管(LED)、陰極射線管(CRT)和半導(dǎo)體激光二極管的應(yīng)用性不斷增加，人們已致力于生產(chǎn)要求曝光時間較短的高速光熱敏元件。這種光熱敏系統(tǒng)用于例如傳統(tǒng)的黑白或彩色光熱敏成像技術(shù)，用電子產(chǎn)生的黑白或彩色硬拷貝記錄，在印刷領(lǐng)域的激光記錄，在醫(yī)療診斷的激光成像，數(shù)字彩色打樣，以及其它應(yīng)用中。
通常采用各種技術(shù)在光熱敏材料中試圖和得到較高的靈敏度。這些技術(shù)例如通過在晶格中加入雜質(zhì)或使鹵化銀晶體具有化學靈敏性和配入新的改進的感光染料或采用超感光劑等等，集中使鹵化銀晶體的潛像中心更為有效。
在制造靈敏的光熱敏材料的努力中，最難于維持在非常低的水平的參數(shù)之一是各種類型的灰霧或Dmin?；异F是在顯影以后在光熱敏元件的非成像區(qū)出現(xiàn)的寄生圖像密度，在感光計的測量結(jié)果中常為Dmin。光熱敏乳劑與照相乳劑和其它光敏系統(tǒng)類似，容易出現(xiàn)灰霧。
按照慣例，光熱敏材料在涂層時就遭受灰霧。新制備的光熱敏元件的灰霧水平在此處稱為初始灰霧或初始Dmin。
此外，光熱敏元件的灰霧水平常常隨材料的貯存或“老化”而提高。這種類型的灰霧在此處可稱為擱置老化灰霧。增加對擱置老化的灰霧控制的困難在于這樣一個事實，即在光熱敏元件中摻入了顯影劑。但在大多數(shù)鹵化銀照相系統(tǒng)中，情況并不都是這樣。為了改善光熱敏材料的貯藏壽命特性，已經(jīng)做了大量的工作。
在光熱敏系統(tǒng)中第三種類型的灰霧是由處理后圖像的不穩(wěn)定性引起的。在已經(jīng)顯影的圖像中仍然存在的光敏性鹵化銀可能象在印刷領(lǐng)域中接觸曬版架那樣，在室內(nèi)光處理或處理后的曝光時繼續(xù)催化，形成金屬銀(稱為“銀鹽曬像”)。因此，需要有光熱敏材料在處理后的穩(wěn)定化。
由于沒有可接受的抗灰霧能力，就難于制備商業(yè)上有用的材料。已經(jīng)用各種技術(shù)去改進感光性并保持抗灰霧能力。
美國專利No.383 9049公開了一種將預(yù)先形成的鹵化銀晶體與一種有機銀鹽懸浮液結(jié)合在一起的方法。美國專利No.416 1408(Winslow等人)公開了一種通過在鹵化銀乳劑存在下形成銀皂而將鹵化銀乳劑與銀皂結(jié)合的方法。美國專利No.4161408的方法包括在攪拌下將鹵化銀晶粒加到長鏈脂肪酸在水中的懸浮液中，但不存在所述脂肪酸的堿鹽或金屬鹽，而且脂肪酸要保持在其熔點以上，然后，將該酸轉(zhuǎn)變?yōu)樗匿@鹽或堿金屬鹽，將懸浮液冷卻，然后再將銨鹽或堿金屬鹽轉(zhuǎn)變?yōu)樵撍岬你y鹽。
美國專利No.4212937描述了將含氮的有機堿與鹵素分子或有機鹵代酰胺共同使用，以改進貯存穩(wěn)定性和靈敏度。
美國專利NO.4152160描述了在光熱敏元件中采用像苯甲酸和苯二甲酸這樣的羧酸。這些酸都用作防翳劑。
美國專利No.3589903描述了在光熱敏鹵化銀乳劑中采用少量的汞離子，以提高速度和老化穩(wěn)定性。
美國專利No.4784939描述了用確定通式的苯甲酸化合物減少影像灰霧和改進鹵化銀光熱敏乳劑的貯存穩(wěn)定性。在乳劑中加入鹵素分子也被描述成能改進影像灰霧和穩(wěn)定性。
美國專利No.5028523公開了對輻射線敏感的可熱顯影的成像元件，它包括光敏鹵化銀、光不敏銀鹽氧化劑；用于銀離子的還原劑；和包括含氮雜環(huán)化合物的氫溴酸鹽的防翳劑或速度增強化合物，該雜環(huán)化合物進一步結(jié)合有一對溴原子。這些防翳劑據(jù)說對減少偽本底圖像密度是有效的。
在照相技術(shù)中都知道，當在曝光時采用強烈的輻射量時(例如用閃光燈曝光或用激光掃描曝光)，產(chǎn)生一種在本技術(shù)中稱為高強度光化當量差(HIRF)的現(xiàn)象。高強度曝光引起乳劑的有效速度降低，可以相信，這是由于晶粒俘獲光子的能力的效率降低和/或存在一種曝曬作用，其中鹵化銀晶粒最初被輻射線模糊(被光致還原，形成金屬銀)，以后又被超出形成潛像所需要的附加輻射量光致氧化。這種效應(yīng)降低了鹵化銀乳劑在大功率成像裝置中使用的能力。
加入一定的摻雜劑可幫助減少高強度光化當量差。在用于減少高強度光化當量差的較優(yōu)選材料中，有只摻雜以鹵化銀晶粒的銥，或同時摻雜有其它摻雜劑如釕或銠的銥。
光熱敏元件可以在基體上構(gòu)造成一層或更多層。單層結(jié)構(gòu)必須包括銀源材料、鹵化銀、顯影劑和粘結(jié)劑，還有任意附加的材料如調(diào)色劑、助涂劑和其它輔劑。雙層結(jié)構(gòu)必須在一個乳劑層(通常是靠近基體的層)中包含銀源和鹵化銀，在第二層或這兩層中包含某些其它成份，雖然也可以預(yù)見有包括含有所有成份的單一乳劑層和保護性面涂層的雙層結(jié)構(gòu)。多色光熱敏結(jié)構(gòu)可以對每種顏色含有多組這種雙層，或是可以如美國專利No.4708928所述在一個單層中包含所有成份。在多層多色光熱敏產(chǎn)品情況下，通常如美國專利No.4460681所述在各光敏層之間使用官能或非官能阻擋層而使各乳劑層互相遠離。
如果不是很必要，在乳化劑層中加入汞(II)鹽作為防翳劑也是有益的。用于此目的的優(yōu)選的汞(II)鹽是醋酸汞和溴化汞。
在光熱敏元件中所用的光敏鹵化銀通?？稍?.75-25mol％的范圍內(nèi)使用，最好是2-20mol％的有機銀鹽。
鹵化銀可以是任何一種光敏鹵化銀，如溴化銀、碘化銀、氯化銀、溴碘化銀、氯溴碘化銀、氯溴化銀等等。鹵化銀可以是任何一種光敏形式的，它包括(但不限于)立方的、正交的、片狀的、四面體的等等，也可以在其上有外延生長的結(jié)晶。
在光熱敏元件中所用的鹵化銀可以在使用時不用改性。不過，它也可以用化學敏化劑如含硫、硒或碲等的化合物，或含金、鉑、鈀、銠或銥等的化合物，或如鹵化錫等的還原劑，或二者的組合，化學敏化。這些過程的細節(jié)已在T.H.James“The Theory of the photogrphicProcess”(照相工藝理論)第四版、第5章、149至169頁中作了描述。
鹵化銀可用任何一種能將其在催化上接近銀源的方式加入乳劑層中。在粘結(jié)劑中分別形成或“預(yù)形成”的鹵化銀和有機銀鹽可在使用以前混和，以制備涂層溶液，但是將它們兩者放在球磨機或均化器中長時間混合也是有效的。此外，采用一種包括將含鹵素的化合物加入制備好的有機銀鹽中，以部分地將有機銀鹽的銀轉(zhuǎn)變成鹵化銀的方法，是有效的。
制備這些鹵化銀和有機銀鹽的方法和混合它們的方式在本技術(shù)領(lǐng)域是眾所周知的，在研究公報(Research Diclosure)1978年六月刊，17029項，和美國專利No.3700458中已作了描述。
在光熱敏元件中采用預(yù)形成的鹵化銀不必沖洗，或是用沖洗去掉可溶解的鹽。在后一種情況，可溶解的鹽可以用例如在美國專利No.2618556、2614928、2565418、3241969和2489341中所描述的程序用激冷固化和浸出去掉，或者乳劑可以絮凝洗滌。鹵化銀晶?？梢跃哂腥魏蔚慕Y(jié)晶形狀，包括(但不限于此)立方的。四面體的、正交的、片狀的、層狀的、片晶的等等。
有機銀鹽可以是任何含有銀離子的可還原源的有機材料。有機酸的銀鹽，特別是長鏈(10至30，最好15至28個碳原子)脂肪羧酸的銀鹽是首選的。其中配位體具有在4.0至10.0之間的總穩(wěn)定常數(shù)的有機或無機銀鹽的配合物也是合乎要求的。銀源材料最好占成像層重量的約5-30％。
可在光熱敏元件中使用的有機銀鹽是對光比較穩(wěn)定，但是在曝光的光致催化劑(例如照相用鹵化銀)和還原劑的存在下，在加熱至80℃或更高時形成銀圖象的銀鹽。
優(yōu)選的有機銀鹽包括具有羧基的有機化合物的銀鹽。其不受限制的例子包括脂肪族羧酸的銀鹽和芳香羧酸的銀鹽。脂肪族羧酸的銀鹽的優(yōu)選例子包括山俞酸銀、硬脂酸銀、油酸銀、月桂酸銀、己酸銀、肉豆蔻酸銀、棕櫚酸銀、馬來酸銀、富馬酸銀、酒石酸銀、亞油酸銀、丁酸銀和樟腦酸銀以及它們的混合物，等等。在脂肪族羧酸上具有鹵原子或羥基的銀鹽也可以有效地使用。芳香羧酸和其它含羧基化合物的銀鹽的優(yōu)選例子包括苯甲酸銀，一種象二羥苯甲酸銀、鄰甲基苯甲酸銀、間甲基苯甲酸銀、對甲基苯甲酸銀、2，4-二氯苯甲酸銀、乙酸氨基苯甲酸銀、對苯基苯甲酸銀等這樣的取代苯甲酸銀、棓酸銀，單寧酸銀、鄰苯二甲酸銀，對苯二甲酸銀，水楊酸銀，苯基醋酸銀，1，2，4，5-苯四酸銀，一種在美國專利No.3785830中所描述的3-羧基甲基-4-甲基苯-4-噻唑啉-2-硫酮或其類似物的銀鹽，以及一種在美國專利No.3330663等中所描述的含硫醚的脂肪族羧酸的銀鹽。
也可以用含巰基或硫酮基及其衍生物的化合物的銀鹽。這些化合物的優(yōu)選例子包括3-巰基-4-苯基-1，2，4-三唑的銀鹽，2-巰基苯并咪唑的銀鹽、2-巰基-5-氨基噻二唑的銀鹽，2-(乙基乙-羥乙酰氨基)苯并噻唑的銀鹽，象S-烷基巰基乙酸的銀鹽(其中，烷基有12至22個碳原子)這樣的巰基乙酸的銀鹽，象二硫代醋酸的銀鹽這樣的二硫代羧酸的銀鹽，硫代酰胺的銀鹽，5-羥基-1-甲基-2-苯基-4-硫代吡啶的銀鹽，巰基三嗪的銀鹽，2-巰基苯并噁唑的銀鹽，一種如美國專利No.4123274中所描述的銀鹽，例如象3-氨基-5-芐硫基-1，2，4-三唑的銀鹽這樣的1，2，4-巰基三唑衍生物的銀鹽，一種如美國專利No.3301678中所公開的例如象3-(2-羧乙基)-4-甲基-4-噻唑啉-2-硫酮的銀鹽這樣的硫酮化合物的銀鹽。
還有，也可以用含有亞氨基的化合物的銀鹽。這些化合物的優(yōu)選例子包括苯并三唑及其衍生物的銀鹽，例如象甲基苯并三唑銀等的苯并三唑的銀鹽，象5-氯苯并三唑銀等的鹵代苯并三唑的銀鹽，碳化亞氨基苯并三唑的銀鹽等，如美國專利No.4220209所描述的1，2，4-三唑或1-H-四唑的銀鹽，咪唑和咪唑衍生物的銀鹽及其類似物。也可用如美國專利No.4761361和4775613中所描述的各種乙炔化銀化合物。
已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，用銀半皂是很方便的，其中，由將商品山俞酸的鈉鹽的水溶液沉淀和分解約14.5％的銀而制備的山俞酸銀和山俞酸的等摩爾摻合物代表了一個優(yōu)選例子。在透明的膠片底片上做出的透明薄片材料要求有透明的涂層，為此目的，可以用含有不超過約4％或5％的游離山俞酸并分解約25.2％的銀的山俞酸銀全皂。
用于制造銀皂懸浮液的方法在本技術(shù)領(lǐng)域中是眾所周知的，在1983年4月的研究公報，第22812項，1983年10月的研究公報，第23419項和美國專利No.3985565中均已公開。
光敏鹵化銀可以有利地在光譜上用各種已知的染料敏化，這些染料包括花青，部花青，苯乙烯基，半花青，oxonol.hemioxonol和呫噸染料。有用的花青染料包括那些具有堿核如噻唑啉核，噁唑啉核，吡咯啉核、吡啶核、噁唑核、噻唑核、硒唑核和咪唑核的染料。優(yōu)選的有用的部花青染料包括那些不僅具有上述堿核，而且還有酸核如海硫因核、繞丹寧核、惡唑烷二酮核、噻唑烷二酮核、巴比土酸核、噻唑啉酮核，丙二腈核和吡唑啉酮核的染料。在上述花青和部花青染料中，那些具有亞氨基或羧基的染料是特別有效的。實際上，在本發(fā)明中要用的敏化染料可適當?shù)貜氖熘娜玖侠缭诿绹鴮＠鸑o.3761279、3719495和3877943中和英國專利No.1466201、1469117和1422 057中描述的那些當中選取，并且可按照已知方法放在光致催化劑的附近。光譜敏化染料的用量通常為約10-4mol至約1mol/1mol鹵化銀。
用于有機銀鹽的還原劑可以是任何材料，但最好是有機材料，它們能將銀離子還原成全屬銀。傳統(tǒng)的照相顯影劑如phonidone、氫醌和鄰苯二酚都可以用，但優(yōu)先采用受阻酚還原劑。還原劑應(yīng)當占成像層重量的1％至10％。在多層結(jié)構(gòu)中，如果還原劑加在不是乳劑層的其它層中，則最好用較高的比例，從約20％至15％。
在包括偕胺肟的干銀系統(tǒng)中已經(jīng)公開了寬范圍的還原劑，例如苯基偕胺肟、2-噻吩基偕胺肟和對苯氧基苯基偕胺肟、吖嗪染料(例如4-羥基-3，5-二甲氧基苯甲醛吖嗪)；脂族羧酸芳基酰肼與抗壞血酸的組合，例如2，2′-二(羥甲基)丙酰基-β-苯基酰肼與抗壞血酸的組合；多羥基苯和羥胺，還原酮和/或肼的組合(例如氫醌和二(乙氧乙基)羥胺、哌啶子基己糖還原酮或甲?；?4-甲基苯基肼的組合)；象苯基異羥肟酸、對羥基苯基異羥肟酸和β-丙氨酸異羥肟酸的異羥肟酸；吖嗪和亞磺酰氨基苯酚(例如吩噻嗪和2，6-二氯-4-苯亞磺酰氨基苯酚)的組合；α-氰基苯基乙酸衍生物如α-氰基-2-甲基苯基乙酸乙酯，α-氰基苯基乙酸乙酯；用2，2′-二羥基-1-聯(lián)萘、6，6′-二溴-2，2′-二羥基-1，1′-聯(lián)苯和二(2-羥基-1-萘基)甲烷作為示例的二-β-萘酚；二-β-萘酚和1，3-二羥基苯衍生物(例如2，4-二羥基二苯酮或2，4-二羥基苯乙酮)的組合；5-吡唑啉酮如3-甲基-1-苯基-5-吡唑啉酮；用二甲氨基己糖還原酮、脫水二氫氨基己糖還原酮和脫水二氫哌啶酮己糖還原酮作例示的還原酮；亞磺酰氨基苯酚還原劑如2，6-二氯-4-苯磺酰氨基苯酚和對苯磺酰氨基苯酚；2-苯基-1，2-二氫化茚-1，3-二酮及其類似物；苯并二氫吡喃如2，2-二甲基-7-叔丁基-6-羥基苯并二氫吡喃；1，4-二氫吡啶如2，6-二甲氧基-3，5-二乙酯基-1，4-二氫吡啶；雙酚(例如雙(2-羥基-3-叔丁基-5-甲基苯基)甲烷，2，2-雙(4-羥基-3-甲基苯基)丙烷，4，4-亞乙基雙(2-叔丁基-6-甲基苯酚)和2，2-雙(3，5-二甲基-4-羥苯基)丙烷)；抗壞血酸衍生物(例如棕櫚酸1-抗壞血酸基酯，硬脂酸抗壞血酸基酯)，和不飽和醛類與酮類，如聯(lián)苯酰和聯(lián)乙酰；3-吡唑烷酮和某些1，2-二氫化茚-1，3-二酮。
除了上述成份外，包括能改善圖像的稱為“調(diào)色劑”的添加劑也是有利的。調(diào)色劑材料的用量可例如按重量為銀承載組分的0.1％至10％。如美國專利No.3080254，3847612和4123282所示，調(diào)色劑在光熱敏技術(shù)中是眾所周知的材料。
調(diào)色劑的例子包括苯鄰二甲酰亞胺和N-羥基苯鄰二甲酰亞胺；環(huán)狀酰亞胺如琥珀酰亞胺、吡唑啉-5-酮和喹唑啉酮、3-苯基-2-吡唑啉-5-酮、1-苯基尿唑、喹唑啉和2，4-噻唑烷二酮；萘二甲酰亞胺(例如N-羥基1，8-萘二甲酰亞胺)；鈷配合物(例如三氟乙酸六氨合鈷)；用3-巰基-1，2，4-三唑，2，4-二巰基嘧啶，3-巰基-4，5-二苯基-1，2，4-三唑和2，5-二巰基-1，3，4-噻二唑作例示的硫醇；N-(氨甲基)芳基二甲酰亞胺(例如(N，N-二甲氨基甲基)苯鄰二甲酰亞胺和N，N(二甲氨基甲基萘-2，3-二甲酰亞胺)；和封阻的吡唑、異硫脲翁鹽衍生物和某些光漂白劑(例如N，N′-六亞甲基雙(1-氨基甲?；?3，5-二甲基吡唑)、1，8-(3，6-二氮雜辛烷)雙(異硫脲翁三氟乙酸鹽)和2-(三溴甲基磺?；?苯并噻唑的組合)；和部花青染料如3-乙基-5-〔(3-乙基-2-苯并噻唑啉亞基)-1-甲基亞乙基〕-2-硫代-2，4-惡唑烷二酮；2，3-二氮雜萘酮和2，3-二氮雜萘酮衍生物或金屬鹽或這些衍生物，如4-(1-萘基-2，3-二氮雜萘酮、6-氯-2，3-二氮雜萘酮、5，7-二甲氧基-2，3-二氮雜萘酮和2，3-二氫-1，4-二氮雜萘二酮；2，3-二氮雜萘酮加上亞磺酸衍生物(例如苯二甲酸、4-甲基本二酸、4-硝基苯二甲酸和四氯鄰苯二甲酸酐)的組合；喹唑啉二酮、苯并惡嗪或萘并惡嗪衍生物；其功能不僅作為色調(diào)改進劑，而且也作為就地形成鹵化銀用的鹵離子源的銠配合物，例如六氯銠(III)酸銨，溴化銠、硝酸銠和六氯銠(III)酸鉀；無機過氧化物和過硫酸鹽(例如過二硫酸銨和過氧化氫)；苯并惡嗪-2，4-二酮，如1，3-苯并惡嗪-2，4-二酮、8-甲基-1，3-苯并惡嗪-2，4-二酮和6-硝基-1，3-苯并惡嗪-2，4-二酮；嘧啶與不對稱三嗪(例如2，4-二羥基嘧啶、2-羥基-4-氨基嘧啶)、氮雜尿嘧啶和四氮雜并環(huán)戊二烯衍生物(例如3，6-二巰基-1，4-二苯基-1H，4H-2，3a，5，6a-四氮雜并環(huán)戊二烯和1，4-二)鄰氯苯基(-3，6-二巰基-1H，4H-2，3a，5，6a-四氮雜并環(huán)戊二烯)。
在用干銀系統(tǒng)獲得彩色圖像的技術(shù)中，已知有許多方法，該系統(tǒng)包括苯并三唑銀，眾所周知的洋紅包染料、黃色與青色染料形成偶合劑、氨基酚顯影劑、象三氯乙酸胍的堿性釋放劑和如美國專利No.4847188和5064742所描述的在聚乙烯醇縮丁醛中的溴化銀；如美國專利No.4678739r所描述的那些預(yù)形成染料釋放系統(tǒng)；溴碘銀、亞磺酰氨基苯酚還原劑、山俞酸銀、聚乙烯醇、像正十八烷基胺這樣的胺和2當量或4當量青色、洋紅或黃色染料形成偶合劑的組合；氧化后形成染料圖象的無色染料堿例如孔雀綠、結(jié)晶紫和副品紅；鹵化銀、山俞酸銀、3-甲基-1-苯基吡唑啉酮和N，N′-二甲基對苯二胺鹽酸鹽的就地組合；配合酚類無色染料還原劑如2(3，5-二叔丁基-4-羥苯基)-4，5-二苯基咪唑和二(3，5-二叔丁基-4-羥苯基)苯基甲烷，配合甲亞胺染料或偶氮染料還原劑；銀染料漂白工藝(例如，含有山俞酸銀、山俞酸、聚乙烯縮丁醛、聚乙烯縮丁醛膠溶的溴碘化銀乳劑、2，6-二氯-4-苯亞磺酰胺基苯酚、1，8-(3，6-二氮雜辛烷)二(對甲苯磺酸異硫脲翁)和偶氮染料的元件可以經(jīng)過曝光和熱處理，得到染料均勻分布的負的銀像，然后層壓到含有聚丙烯酸、硫脲和對甲苯磺酸的酸性活化劑薄片上并經(jīng)過加熱得到非常確定的正的染料圖像)；和象氨基乙酰苯胺(黃色染料形成)、3，3′-二甲氧基聯(lián)苯胺(藍色染料形成)或磺胺(sulfanilide)(洋紅色染料形成)這樣的胺，它們與象2，6-二氯-4-苯亞磺酰胺基苯酚這樣的配合還原劑的氧化形式起反應(yīng)，形成染料圖像。加入象山俞胺和茴香胺的胺，可以得到中性染料圖象。
無色染料在這種鹵化銀系統(tǒng)中用于形成彩色的氧化已在美國專利No.4021240、4374821、4460681和4883747中公開。
光熱敏元件中的乳劑可包增塑劑和潤滑劑如聚醇(例如在美國專利No.2960404中所描述的甘油和二醇這一類)；如美國專利No.2588765和3121060中所描述的脂肪酸或酯；如英國專利No.955061中所描述的硅氧烷樹脂。
光熱敏元件中的乳劑可含有在光熱敏技術(shù)中已熟知的另加的穩(wěn)定劑和防翳劑。它們可以是原始的穩(wěn)定劑和防翳劑或處理后的穩(wěn)定劑。在優(yōu)選的防翳劑中，有具有三鹵代的和特別是三溴代甲基的有機化合物。它們常常是具有直接結(jié)合在芳香核或通過橋連基(例如磺?；?結(jié)合的鹵代基團的芳基(芳香族)核。其它有用的防翳劑量包括異氰酸酯、乙烯基砜和β-鹵代砜。
光熱敏元件可以包括圖像染料穩(wěn)定劑。這種圖像染料穩(wěn)定劑已由英國專利No.1326889，美國專利No.3432300、3698909、3574627、3573050、3764337和4042394中作了例示。
含有乳劑層的光熱敏元件在那些含有如在美國專利No.3253921、2274782、2527583和2956879中描述的光吸收材料和濾光染料的照相元件中使用。如果需要，染料可以如美國專利No.3282699所描述的那樣媒染?？构鈺瀸釉诮?jīng)過掃描的曝光元件中特別有用。這些層在本技術(shù)中是熟知的，而且在粘結(jié)劑中包括輻射吸收材料(配合于或包括成像輻射的吸收)，通常是在乳劑層的下方，但有時在乳劑層的上方，在乳劑層和基體之間，或在基體后面。
此處所述的含乳劑層的光熱敏元件可包含象淀粉、二氧化鈦、二氧化鋅、二氧化硅、包括如美國專利No.2992101和2701245所描述的小球的聚合小球這樣的消光劑。
乳劑可在含有抗靜電層或?qū)щ妼?、蒸發(fā)金屬層、離子聚合物或不溶性無機鹽的光熱敏元件中使用，抗靜電層有象包括可溶性鹽(例如氯化物、硝酸鹽等)的那種層，離子聚合物有象在美國專利No.2861056和3206312中所描述的那種，不溶性無機鹽有象在美國專利No.3428 451中所描述的那種。
粘結(jié)劑可以從任何一種眾所周知的天然或合成樹脂如明膠、聚乙烯醇縮醛、聚氯乙烯、聚乙酸乙烯酯、醋酸纖維素、聚烯烴、聚酯、聚苯乙烯、聚丙烯腈、聚碳酸酯及其類似物中選取。共聚物和三元共聚物自然包括在這些定義之內(nèi)。優(yōu)選的光熱敏含銀聚合物有聚乙烯醇縮丁醛、乙基纖維素、甲基丙烯酸酯共聚物、馬來酸酐酯共聚物、聚苯乙烯和丁二烯-苯乙烯共聚物。
這些聚合物可以任意用其中兩種或其中的更多種組合使用。這種聚合物的用量要足以負載分散在其中的組分，也就是說，要在作為粘結(jié)劑使用的有效范圍內(nèi)。有效范圍可由熟悉本技術(shù)的人適當?shù)卮_定。在負載至少一種有機銀鹽的情況下，作為一種指導(dǎo)，可以認為，粘結(jié)劑與有機銀鹽的優(yōu)選比例范圍由15∶1至1；2，具體一些，由8∶1至1∶1。
光熱敏乳劑可以涂覆在極其不同的支承物上。支承物或基體可根據(jù)成像要求從很廣的材料范圍內(nèi)選取?；w可以是有色的、透明的、半透明的或不透明的。有代表性的支承物包括聚酯膠片、涂膠的聚酯膠片、聚對苯二甲酸乙二醇酯膠片、硝酸纖維素膠片、纖維素酯膠片、聚乙烯醇縮乙醛膠片、聚碳酸酯膠片和有關(guān)的或樹脂質(zhì)材料，還有玻璃、紙、金屬及其類似物。通常用可彎曲的支承物，尤其是紙質(zhì)支承物，它們可以部分地乙?；蛲恳匝趸^和/或α-烯烴聚合物，特別是含2～10個碳原子的α-烯烴如聚乙烯，聚丙烯、乙烯-丁烯共聚物及其類似物。用于支承物的優(yōu)選聚合物材料包括具有良好的熱穩(wěn)定性的聚合物如聚酯。特別優(yōu)選的聚酯為聚對苯二甲酸乙二醇酯。
本發(fā)明的光熱敏乳劑可以用不同的涂覆過程涂覆，它們包括浸漬涂層、空氣及涂層、幕式涂層或采用美國專利No.2681294所描述的料斗的擠壓涂層。如果需要，可以用美國專利No.2761791和英國專利No.837095中所描述的過程同時涂復(fù)兩個層或更多的層。
在本發(fā)明的光熱敏元件中可以結(jié)合以輔助層，例如用于接受可移動的染料圖像的染料接收層，在要求有反光印像的遮光層，防光暈層，保護性頂層和在光熱敏技術(shù)中已經(jīng)熟知的底層。此外，在某些情況下，也可能需要在透明基體的兩面涂覆以不同的乳劑層，特別是當要求隔離不同乳劑層的成像化學反應(yīng)時。采用這類為成像源的特殊波長優(yōu)化的介質(zhì)，本發(fā)明的設(shè)備、系統(tǒng)和工藝就可以得到實現(xiàn)。
下面描述了可以用在本發(fā)明中的光熱敏元件12的一個例子。在下面的例子中所引用的特殊材料和用量，以及其它條件與細節(jié)不應(yīng)當構(gòu)成對本發(fā)明的不應(yīng)有的限制。
例1用美國專利No.3839049所描述的程序制備了鹵化銀-干山俞酸銀皂。鹵化銀總共為總銀量的9mol％，而山俞酸銀占總銀量的91mol％。鹵化銀為0.055微米含2％碘的溴碘化銀乳劑。
光熱敏乳劑的制備是將上面所說的鹵化銀-山俞酸銀干皂455g與27g的甲苯、1918g的2-丁酮和48g的聚乙烯醇縮丁醛(β-79，Monsarto)均勻化。用攪拌將均勻化的光熱敏乳劑(698g)和60g的2-丁酮冷卻至55°F(12.8℃)。加入吡啶翁氫溴化物過溴化物(0.92g)并攪拌2小時。加入3.25ml的溴化鈣溶液(1g CaBr2和10ml的甲醇)，然后攪拌30分鐘，另外加入聚乙烯醇縮丁醛(158g B-79)，攪拌20分鐘。將溫度升高至70°F(21.1℃)，然后每隔15分鐘，一面攪拌，一面加入下列各種物品3.42g 2-(三甲基砜)喹啉2.81g1，1-雙(2-羥基-3，5-二甲基苯基)-3，5，5-三甲基己烷41.1g含0.545g 5-甲基巰基苯并咪唑的溶液
6.12g 2-(4-氯苯甲?；?苯甲酸，0.104gS-1(敏化染料)和34.3g甲醇2.14g異氰酸酯(Desmalur N3300，Mobay)0.97g四氯鄰苯二甲酸酐2.88g 2，3-二氮雜萘染料S-1的結(jié)構(gòu)為 S－1活性的保護性的頂涂層溶液用下列成份制備80.0g 2-丁酮10.7g甲醇8.0g醋酸丁酸纖維素(CAB-171-155 Eastman Chemicals)0.52g 4-甲基鄰苯二甲酸0.80g MRA-1斑紋減少劑，是N-乙基全氟辛烷甲基丙烯酸磺酰氨基乙酯/甲基丙烯酸羥乙酯/丙烯酸按重量比70/20/10的三元聚合物。
光熱敏乳劑和頂涂層同時在7mil(0.18mm)藍色聚酯膠片基上涂覆。用相距6英寸(15.2cm)的兩個同時涂覆的棒刀安裝一臺刀式涂層器。將銀乳劑倒在后刀前面的膠片上并將頂涂層倒在前棒前面的膠片上，則銀釋放層和頂涂層就都被涂覆為復(fù)式層。以后將膠片向前拉，以使兩個層同時被涂覆。這就產(chǎn)生了一次通過的復(fù)式層。涂覆的聚酯基片在175°F(79.4℃)干燥4次。調(diào)節(jié)各刀以對銀層能得出重量為23g每平方米的干涂層，對頂涂層能得出重量為2.4g每平方米的干涂層。
雖然本發(fā)明是參考優(yōu)選實施例描述的，熟悉本技術(shù)的都會承認，在形狀和細節(jié)上都可以作各種改變和改進，而不背離本發(fā)明的精神與范圍。
權(quán)利要求
1.一種用于處理光熱敏元件的熱處理機，其中，上述的光熱敏元件以一輸送速度被輸送，并且上述的熱處理機包括一可移動的加熱構(gòu)件，其位置要設(shè)定成能接納上述的光熱敏元件并將上述光熱敏元件至少加熱至一臨界顯影溫度，并保持一停留時間，以在上述光熱敏元件上顯影出圖像；和多個可旋轉(zhuǎn)的導(dǎo)向構(gòu)件，它們處于與上述加熱構(gòu)件相鄰的導(dǎo)向位置，以引導(dǎo)上述光熱敏元件，并在上述光熱敏元件上作用以不大于200克每厘米上述光熱敏元件寬度的總偏壓力，使之貼靠在上述加熱構(gòu)件上；其特征為，上述加熱構(gòu)件是可移動的，并且上述導(dǎo)向構(gòu)件可以以與上述光熱敏元件的上述輸送速度幾乎匹配的速度旋轉(zhuǎn)。
2.如權(quán)利要求1所述的熱處理機，其特征為，上述導(dǎo)向構(gòu)件中至少有一個包括一用于提供第一偏壓力的偏壓裝置，上述導(dǎo)向構(gòu)件的重量和上述導(dǎo)向構(gòu)件相對于上述加熱構(gòu)件的位置提供了第二偏壓力，上述總的偏壓力包括上述第一偏壓力和上述第二偏壓力，并且上述偏壓裝置可以選擇成能補償由上述導(dǎo)向構(gòu)件的上述位置而產(chǎn)生的上述第二偏壓力。
3.如權(quán)利要求1所述的熱處理機，其特征為，所述加熱構(gòu)件包括一可旋轉(zhuǎn)的圓筒，所述導(dǎo)向構(gòu)件包括可旋轉(zhuǎn)的輥子，上述可旋轉(zhuǎn)的輥子中的至少一個有一第一端和一第二端，每個導(dǎo)向構(gòu)件進一步包括一用于朝上述加熱構(gòu)件偏壓對應(yīng)輥子的上述第一端的第一偏壓裝置和一用于朝上述加熱構(gòu)件偏壓對應(yīng)輥子的上述第二端的第二偏壓裝置。
4.如權(quán)利要求1所述的熱處理機，其特征為，上述導(dǎo)向構(gòu)件包括用于從上述加熱構(gòu)件上去掉靜電的裝置。
5.如權(quán)利要求1所述的熱處理機，它進一步包括一其位置與上述加熱構(gòu)件相鄰的導(dǎo)軌，用于從上述加熱構(gòu)件引導(dǎo)上述光熱敏元件，并以10至50度的角將上述光熱敏元件從上述加熱構(gòu)件上引開。
6.如權(quán)利要求1所述的熱處理機，其特征為，所述可移動的加熱構(gòu)件包括一具有某一厚度和導(dǎo)熱率的彈性層，用于接觸上述光熱敏元件，上述彈性層要足夠厚，以使外來的顆粒可以被壓入上述彈性層中，以減少上述圖像中因由上述外來顆粒引起的傳熱不足而產(chǎn)生的圖像缺陷，上述彈性層還要足夠薄和有足夠的導(dǎo)熱性，以使上述彈性層能向上述光熱敏元件傳送足夠的熱量，從而按上述輸出率熱顯影上述光熱敏元件。
7.如權(quán)利要求6所述的熱處理機，其特征為，上述加熱構(gòu)件包括一其位置在上述彈性層下面的支承構(gòu)件，上述彈性層的上述厚度至少為0.0254cm。
8.如權(quán)利要求6所述的熱處理機，其特征為，在上述加熱構(gòu)件上的上述彈性層表面具有小于6.3μm的表面粗糙度。
9.如權(quán)利要求6所述的熱處理機，其特征為，上述彈性層的導(dǎo)熱率至少為0.29瓦每平方厘米攝氏度。
10.如權(quán)利要求1所述的熱處理機，其特征為，上述導(dǎo)向構(gòu)件可在一封閉位置和一開啟位置之間相對于上述加熱構(gòu)件定位，在上述封閉位置，上述導(dǎo)向構(gòu)件可以貼靠著上述加熱構(gòu)件引導(dǎo)上述光熱敏元件，在上述開口位置，上述導(dǎo)向構(gòu)件提供了更容易接近上述加熱構(gòu)件的出入口。
11.如權(quán)利要求10所述的熱處理機，它進一步包括一蓋住上述加熱構(gòu)件的蓋子，上述蓋子與用于在上述封閉位置和開啟位置之間移動上述導(dǎo)向構(gòu)件的上述導(dǎo)向裝置結(jié)合。
12.一種包括權(quán)利要求1所述的熱處理機的設(shè)備，并進一步包括一成像裝置，其特征為，上述成像裝置能將數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成圖象式的輻射圖案并用上述輻射線使上述光熱敏元件曝光，以在上述光熱敏元件上產(chǎn)生圖象。
13.如權(quán)利要求12所述的設(shè)備，其特征為，上述成像裝置包括一激光掃描器，它將上述光熱敏元件在上述輻射線中曝光；和一板件，將其定位在能在被上述激光掃描器曝光時接納上述光熱敏元件的地方，上述板件與上述激光掃描器擺動地結(jié)合，以使上述板件與上述激光掃描器一起振動，減少由上述激光掃描器的振動引起的曝光缺陷。
14.如權(quán)利要求12所述的設(shè)備，它進一步包括一位于上述成像裝置和上述熱處理機之間，用以同時將第一光熱敏元件送入上述成像裝置，并將第二光熱敏元件送出上述成像裝置，使之到達上述熱處理機的雙向膠片分級機構(gòu)。
15.如權(quán)利要求12所述的設(shè)備，其特征為，上述設(shè)備有一小于7200cm2的占地面積和小于152cm的高度。
16.如權(quán)利要求12所述的設(shè)備，其特征為，上述成像裝置能產(chǎn)生不超過百分之二的曝光偏差，上述熱處理機能將上述光熱敏元件加熱至顯影溫度，該溫度在整個上述光熱敏元件上的變化不超過2°F；在0.50至3.0光密度的范圍內(nèi)，在規(guī)定的光密度下，在上述光熱敏元件上產(chǎn)生的由上述設(shè)備引起的上述可見圖像的變化不超過0.20光密度。
17.如權(quán)利要求12所述的設(shè)備，它進一步包括一具有一第一室、一第二室和一通道的外殼，在上述第一室中放有上述成像裝置，在上述第二室中放有上述加熱構(gòu)件和導(dǎo)向構(gòu)件，上述第二室通過上述通道與上述第一室連通，并可通過該通道輸送上述光熱敏元件，上述第一室有相對于上述第二室的正空氣壓力。
18.如權(quán)利要求17所述的設(shè)備，其特征為，上述第二室的位置高于上述第一室。
19.一種冷卻裝置，它適于與如權(quán)利要求1所述的熱處理機配合使用，以冷卻光熱敏元件，它包括一第一散熱輥，它具有一能導(dǎo)熱的第一芯子和一第一外層，上述外層比上述芯子的導(dǎo)熱性差并有較小的熱質(zhì)量；一第一咬送輥，其位置與上述第一散熱輥相鄰，以形成第一輥隙，上述第一輥隙的位置要設(shè)成能接納并通過傳導(dǎo)熱來冷卻上述光熱敏元件；一第二散熱輥，它具有一能導(dǎo)熱的第二芯子和一第二外層，上述第二外層與上述能導(dǎo)熱的第二芯子相比有較差的導(dǎo)熱性和較小的熱質(zhì)量；和一第二咬送輥，其位置與上述第二散熱輥相鄰，以形成第二輥隙，上述第二輥隙的位置要設(shè)定成能從上述第一輥隙接納上述光熱敏元件并進一步地通過傳導(dǎo)來冷卻上述光熱敏元件。
20.一種適用于將光熱敏元件從如權(quán)利要求1所述的上述加熱構(gòu)件引導(dǎo)開的導(dǎo)軌，上述光熱敏元件具有一前緣和主要部分，其特征為，上述導(dǎo)軌包括一具有一緊靠上述加熱構(gòu)件的上述表面的前緣的板，它用于在上述光熱敏元件位于上述加熱構(gòu)件的上述表面上時接納上述元件的上述前緣；并將上述光熱敏元件導(dǎo)離上述加熱構(gòu)件；一其位置與上述板的上述前緣相鄰的輥子，用于從上述板的上述前緣接納上述加熱元件的上述前緣，并將上述加熱元件從上述板的上述前緣移開，以使上述主要部分不與上述板接觸；以及一在位置上與上述板的上述前緣結(jié)合的滾子軸承，上述滾子軸承可在上述加熱構(gòu)件的上述表面上行走，以將上述板的上述前緣定位在離上述加熱構(gòu)件的上述表面有某一預(yù)定距離的地方。
21.一種將如權(quán)利要求1所述的熱處理機用于熱顯影光熱敏元件，以產(chǎn)生圖像的方法，包括下列步驟將一可移動的加熱構(gòu)件至少加熱至臨界顯影溫度；以一輸送速度將上述光熱敏元件輸送給上述加熱構(gòu)件；將上述光熱敏元件偏壓，使之貼靠在具有多個可旋轉(zhuǎn)的導(dǎo)向構(gòu)件的上述加熱構(gòu)件上，并保持一停留時間，使上述加熱構(gòu)件在上述光熱敏元件中顯影出圖像，其中，每個導(dǎo)向構(gòu)件通過在上述光熱敏元件上施加一不大于200克每厘米上述光熱敏元件寬度的總偏壓力，而有助于減少在上述光熱敏元件上壓痕；以及以幾乎與上述光熱敏元件的上述輸送速度相匹配的速度移動上述加熱構(gòu)件并旋轉(zhuǎn)上述導(dǎo)向構(gòu)件。
22.一種用如權(quán)利要求12所述的設(shè)備將數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成與數(shù)據(jù)對應(yīng)的可見像的方法，它包括以下各步驟將上述數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成用表示上述數(shù)據(jù)的方式調(diào)制的輻射線；將一光熱敏元件根據(jù)圖像方式在上述調(diào)制的輻射線中曝光，以在上述光熱敏元件上產(chǎn)生能代表上述數(shù)據(jù)的潛像；將一可移動的加熱構(gòu)件至少加熱至臨界顯影溫度；用某一輸送速度朝上述加熱構(gòu)件輸送上述光熱敏元件；貼靠著其位置可接收所述光熱敏元件的上述可移動的加熱構(gòu)件偏壓上述光熱敏元件，以便按輸出率將上述光熱敏元件至少加熱至臨界顯影溫度，上述加熱構(gòu)件包括用于接觸上述光熱敏元件并具有一定厚度和導(dǎo)熱率的彈性層，上述彈性層要足夠厚，以使外來顆粒能被壓入上述彈性層，以減少上述圖像中因由上述外來顆粒引起的傳熱不足而產(chǎn)生的圖像缺陷，上述彈性層還要足夠薄并有足夠的導(dǎo)熱性，以使上述彈性層能向上述光熱敏元件傳送足夠的熱量，以便按上述輸出率熱顯影上述光熱敏元件。
23.如權(quán)利要求22所述的方法，還進一步包括下列步驟在偏壓上述光熱敏元件之后測量上述圖像的實際光密度；將上述實際的光密度與預(yù)定的光密度比較；當上述實際的光密度與上述預(yù)定的光密度的偏差達到預(yù)定的偏差值時，調(diào)節(jié)上述曝光步驟。
24.一種用如權(quán)利要求19所述的冷卻裝置冷卻光熱敏元件的方法，包括下列步驟將上述光熱敏元件輸送至第一輥隙，該輥隙包括一具有能導(dǎo)熱的第一芯子和第一外層的第一散熱輥，上述外層與上述芯子相比有較差的導(dǎo)熱性和較小的熱質(zhì)量；和一鄰近上述第一散熱輥，以形成上述第一輥隙的第一咬送輥，上述第一輥隙的位置要設(shè)定成能接納并通過熱傳導(dǎo)來冷卻上述加熱過的紙卷；以及將上述光熱敏元件從上述第一輥隙送至第二輥隙，該輥隙包括一具有能導(dǎo)熱的第二芯子和第二外層的第二散熱輥，上述第二外層與上述能導(dǎo)熱的第二芯子相比具有較差的導(dǎo)熱性和較小的熱質(zhì)量；和一鄰近上述第二散熱輥，以形成上述第二輥隙的第二咬送輥，上述第二輥隙的位置要設(shè)定成能從上述第一輥隙接納并進一步通過熱傳導(dǎo)來冷卻上述紙卷。
25.一種包括權(quán)利要求12所述設(shè)備的系統(tǒng)，還進一步包括光熱敏元件，其特征為，在0.050至3.0的光密度范圍內(nèi)，在規(guī)定的光密度下，上述光熱敏元件在熱處理后有一不超過0.15光密度的光密度偏差。
26.如權(quán)利要求25所述的系統(tǒng)，其特征為，上述包括一基體的光熱敏元件至少一個表面上具有光熱敏乳劑，該乳劑包括粘結(jié)劑、預(yù)制的鹵化銀、對輻射敏感的可還原銀鹽和用于銀離子的還原劑，上述預(yù)制的鹵化銀具有0.1μm或更小的平均直徑。
全文摘要
用于處理光熱敏元件的設(shè)備、系統(tǒng)和方法。該設(shè)備通過加熱在具有一彈性層的加熱構(gòu)件和多個輥子之間的光熱敏元件熱顯影光熱敏元件。此設(shè)備可以是包括那些具有曝光光熱敏元件以形成潛像的能力的其它設(shè)備和系統(tǒng)的一個組成部分。
文檔編號G03B27/30GK1147867SQ95193007
公開日1997年4月16日 申請日期1995年4月7日 優(yōu)先權(quán)日1994年5月9日
發(fā)明者保羅·C·斯達, 約翰·A·斯文森, 阿爾弗雷多·G·韋格林佐尼, 約翰·J·阿倫, 米歇爾·P·朱艾爾, 安德森·L·格里芬, 約翰·O·科科沃爾德, 斯蒂文·W·索林森, 拉爾夫·E·彼得森 申請人:伊美申公司