專利名稱：：用于內(nèi)輻射式靜電復(fù)印的光電導(dǎo)體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種用于靜電復(fù)印的圖象記錄基片，特別涉及一種用作如復(fù)印機(jī)、激光打印機(jī)等內(nèi)輻射靜電復(fù)印機(jī)的光敏鼓的圖象記錄基片。迄今為止，許多用于如復(fù)印機(jī)、激光打印機(jī)等記錄裝置的光電導(dǎo)體都是用鋁基片作光敏鼓或光電導(dǎo)體，一般情況下，在曝光處理中將這種光電導(dǎo)體從設(shè)置于基片上的光敏層正面上曝光。在這種曝光方法中，用于如充電、曝光、顯影、圖象轉(zhuǎn)印、固定、靜電消除及清潔等各步驟的裝置必須設(shè)置在靜電復(fù)印機(jī)的光敏鼓周圍。因此造成了對(duì)試驗(yàn)減小記錄裝置尺寸的限制，并會(huì)使顯影劑從顯影裝置中泄漏出來(lái)，污染曝光裝置中的光學(xué)系統(tǒng)，對(duì)復(fù)印質(zhì)量造成不良影響。解決這些問題的常規(guī)方法是提供一種其光敏鼓包括透明基片和光敏層的內(nèi)輻射式靜電復(fù)印機(jī)，透明基片上涂有導(dǎo)電層，曝光光源設(shè)置于用作光電導(dǎo)體的鼓內(nèi)，從而可以減小復(fù)印機(jī)的尺寸，避免因顯影劑泄漏造成的光學(xué)系統(tǒng)污染。在制造這種用于內(nèi)輻射式靜電復(fù)印機(jī)的光敏鼓時(shí)，已采用了一種技術(shù)，即，為了在如無(wú)機(jī)玻璃等透明基片上形成透明導(dǎo)電層，利用濺射或真空淀積淀積氧化銦錫(此后簡(jiǎn)稱為“ITO”)等。日本特許公開319195/1995(Fujitsu)公開了一種光敏鼓，該光敏鼓包括圓柱形玻璃基片，基片上疊加有摻雜的聚苯胺。上述常規(guī)方法的問題是，圓柱形無(wú)機(jī)玻璃基片價(jià)格高、尺寸精度差、且易碎，濺射或真空淀積形成透明導(dǎo)電層的成膜過(guò)程生產(chǎn)率低，而且形成摻雜聚苯胺的步驟成本高。要求內(nèi)輻射式靜電復(fù)印機(jī)的基片具有的特性應(yīng)該是所用材料成本低，尺寸精度高，光敏鼓有足夠的機(jī)械強(qiáng)度，化學(xué)穩(wěn)定性好，甚至在不可控的戶外用作光敏鼓其質(zhì)量也不會(huì)降低，有足夠的透明度，曝光時(shí)可以使輻照無(wú)反射地透過(guò)，與基片上的透明導(dǎo)電層的粘附性好，具備在利用高生產(chǎn)率的浸漬涂敷形成光敏層時(shí)所需的抗溶劑性和耐熱性等等。另一方面，透明導(dǎo)電層必須具有的特性包括低成本、曝光透明度即可無(wú)反射地使輻照穿過(guò)、合適表面電阻在可允許用作光敏鼓的范圍內(nèi)等。目前從這些方面和其它方面對(duì)改進(jìn)靜電復(fù)印的光電導(dǎo)體的研究提出了要求。因此，本發(fā)明的目的是提供一種用于靜電復(fù)印的內(nèi)輻射式光電導(dǎo)體，該光電導(dǎo)體具有低成本、足夠機(jī)械強(qiáng)度和極佳尺寸精度的透明基片。本發(fā)明的另一目的是提供一種靜電復(fù)印的光電導(dǎo)體，該光電導(dǎo)體表面特性即表面粗糙度已得到改善。為了解決上述問題，試驗(yàn)了各種低成本合成樹脂用作靜電復(fù)印光電導(dǎo)體的透明基片的可行性。在深入細(xì)致的研究后，現(xiàn)已發(fā)現(xiàn)，利用高精度擠壓成型法可以獲得透明且尺寸精度高的空心圓柱形基片。本發(fā)明正是基于這種發(fā)現(xiàn)作出的。因此，根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方案，提供一種內(nèi)輻射靜電復(fù)印的光電導(dǎo)體，該光電導(dǎo)體包括包括合成樹脂的空心圓柱形透明基片；設(shè)置于基片外表面上的導(dǎo)電層，該導(dǎo)電層的表面電阻不大于2×106Ω/□；覆蓋于導(dǎo)電層上的光敏層；及設(shè)置于基片內(nèi)表面上的保護(hù)層，該層具有耐形成光敏層時(shí)所用溶劑的性能。(2)如(1)所述的用于內(nèi)輻射式靜電復(fù)印的光電導(dǎo)體，其中，透明合成樹脂基片至少可以包括選自聚苯硫、聚碳酸酯、飽和聚酯、聚甲基戊烯、聚丙烯腈、聚降冰片烯(polynorbornene)和非結(jié)晶聚烯(polyolefin)組的一種樹脂。(3)如(1)或(2)所述的用于內(nèi)輻射式靜電復(fù)印的光電導(dǎo)體，其中，透明合成樹脂基片可以用由氟樹脂敷面的模具擠壓而成。(4)如(1)、(2)或(3)所述的用于內(nèi)輻射式靜電復(fù)印的光電導(dǎo)體，其中，導(dǎo)電層可以是包括選自氧化銦錫和氧化錫組的透明導(dǎo)電層。(5)如(1)至(4)中任一項(xiàng)所述的用于內(nèi)輻射式靜電復(fù)印的光電導(dǎo)體，其中，保護(hù)層可以包括選自氧化銦錫、氧化錫、和硅氧烷樹脂組的一種材料。根據(jù)本發(fā)明，可以連續(xù)模制包括合成樹脂的基片材料，制備用于內(nèi)輻射式靜電復(fù)印機(jī)的透明基片，并可以用透明導(dǎo)電涂敷溶液浸漬涂敷基片，從而形成透明導(dǎo)電層。所以，可以提供機(jī)械強(qiáng)度和電特性極佳且低成本可印的光敏鼓，用于內(nèi)輻射式靜電復(fù)印機(jī)。另外，合適地選擇用作基片材料的合成樹脂制備的光敏鼓，在制造光敏鼓期間，具有極佳的耐所用溶劑的性能和耐熱性，且表面特性極佳，從而可以提供更便宜的基片，用作光敏鼓的透明支撐基片，用于內(nèi)輻射式靜電復(fù)印機(jī)。因?yàn)榉鷺渲竺娴哪＞邷p小了接觸阻力，可以使擠壓制成的基片有極佳的表面特性，所以可以解決合成樹脂因在擠壓處理期間與模具接觸而縱向流動(dòng)對(duì)其內(nèi)表面和外表面的劃傷而受損的問題。根據(jù)本發(fā)明，較好利用PPS樹脂、PC樹脂、PET樹脂、TPX樹脂、PAN樹脂、聚降冰片烯樹脂、和非結(jié)晶聚烯樹脂等透明合成樹脂，擠壓制備圓柱形透明基片，用作內(nèi)輻射式靜電復(fù)印機(jī)的光電導(dǎo)體，這樣，與常規(guī)圓柱形無(wú)機(jī)玻璃基片相比，所制得的基片成本低，具有足夠的強(qiáng)度。且諸如表面粗糙度(roughness)和圓度(roundness)等尺寸精度高。另外，在上述透明圓柱形合成樹脂基片上形成透明導(dǎo)電層利用含ITO或SnO2的涂敷液，便可以連續(xù)浸漬基片進(jìn)行該工藝，所以可以以工業(yè)規(guī)模進(jìn)行批量生產(chǎn)。而且，透明導(dǎo)電材料涂層可以使透明導(dǎo)電層的表面電阻不大于2×106Ω/□，因而基片具備用作光敏鼓的極佳電特性。圖1是展示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例用于光敏鼓的基片的剖面圖；圖2是展示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例用于光敏鼓的多層結(jié)構(gòu)的剖面圖；圖3是展示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例用于光敏鼓的多層結(jié)構(gòu)的剖面圖；圖4是展示用于本發(fā)明實(shí)例的測(cè)試電特性的試驗(yàn)機(jī)的測(cè)試原理的示意圖，及圖5是展示與本發(fā)明實(shí)例中適印性測(cè)試的試驗(yàn)機(jī)有關(guān)的處理裝置的設(shè)置示圖。以下結(jié)合附圖詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明。圖1示出了本發(fā)明用于靜電復(fù)印機(jī)的圖象記錄鼓用空心圓柱形基片或光敏鼓。參考數(shù)字1表示光敏鼓。圖2是展示光敏鼓10的多層結(jié)構(gòu)的剖面圖。該多層結(jié)構(gòu)包括由透明合成樹脂制成的用于光敏鼓10的基片1；設(shè)置于基片1外表面上的透明導(dǎo)電層2；疊合于透明導(dǎo)電層2上的底涂層3；設(shè)置于底涂層3上的光敏層4；及設(shè)置于圓柱形基片1或管內(nèi)表面上的保護(hù)層5。按本發(fā)明，用于內(nèi)輻射式靜電復(fù)印機(jī)的透明支撐基片1可以是包括透明且較便宜的合成樹脂的圓柱形模制件或管。構(gòu)成透明基片或管的材料例如包括聚苯硫樹脂(此后簡(jiǎn)稱為“PPS樹脂”)、聚碳酸酯樹脂(此后簡(jiǎn)稱為“PC樹脂”)、飽和聚酯(此后簡(jiǎn)稱為“PET樹脂”)、聚甲基戊烯樹脂(此后簡(jiǎn)稱為“TPX樹脂”)、聚丙烯腈樹脂(此后簡(jiǎn)稱為“PAN樹脂”)、聚降冰片烯樹脂、及非結(jié)晶聚烯樹脂。這些樹脂可以單用，或兩種或多種組合使用。耐制備光敏鼓期間所用的如異佛爾酮、二氯甲烷、和四氫呋喃等有機(jī)溶劑的樹脂，優(yōu)選實(shí)例包括TPX樹脂、PAN樹脂、聚降冰片烯樹脂、和非結(jié)晶聚烯樹脂。PPS樹脂是優(yōu)選的，因?yàn)檫@種樹脂在擠壓成型期間驟然冷卻擠壓成的基片時(shí)可以避免變成不透明，并可以變得透明，取代其原始的結(jié)晶態(tài)和色彩。而且，在能用于本發(fā)明的透明基片中，那些通過(guò)用由氟樹脂敷面以減小熔融材料與之接觸阻力的模具擠壓成型制備的基片具有極佳的表面特性，這是因?yàn)槟Ｖ萍蚬芫哂袠O佳的表面特性的緣故。從適印性出發(fā)，這樣模制的透明合成樹脂基片最好具有總透光率不低于80％的透明度。盡管透明合成樹脂基片1的機(jī)械強(qiáng)度對(duì)用作光敏鼓來(lái)說(shuō)是足夠的，但由于在某種溶劑中會(huì)膨脹或溶解，所以基片1易損壞，其構(gòu)型可能發(fā)生改變。因此，在把溶劑中的導(dǎo)電層材料溶液涂敷基片表面的步驟中，或在基片的背面上形成清潔的敷膜步驟中，必需選擇合適的溶劑，這樣便不會(huì)發(fā)生構(gòu)型上的改變。關(guān)于用于隨后形成光敏層4的溶劑，導(dǎo)電層或清潔敷膜用作對(duì)這些溶劑的保護(hù)層，因此，可以選擇最適于形成光敏層的那些溶劑，而不管基片耐這些溶劑的性能如何。而且，按本發(fā)明，含ITO或SnO2的透明導(dǎo)電涂敷液可以通過(guò)涂敷方法淀積于透明基片1上，從而形成導(dǎo)電層2，以獲得用作靜電復(fù)印的光電導(dǎo)體所必需的表面電阻，例如不大于2×106Ω/□的表面電阻，這樣做從成本方面考慮很有利，并將透明支撐基片1用于內(nèi)輻射式靜電復(fù)印機(jī)的光敏鼓。在此情況下，用不會(huì)引起如上所述的透明合成樹脂基片的透明度損失或構(gòu)型改變的溶劑來(lái)制備含ITO或SnO2的透明導(dǎo)電涂敷液，從而形成導(dǎo)電層2。所得涂敷液可以利用諸如浸漬涂敷、噴涂、金屬絲棒涂敷(wirebarcoating)、密封涂敷(sealcoating)等已知方法進(jìn)行涂敷?？刂颇ず窨傻玫奖砻骐娮璨淮笥?×106Ω/□的導(dǎo)電層。在用密封涂敷法時(shí)，低于102Ω/□)的表面電阻會(huì)使透明度降低，這是不希望的。形成的導(dǎo)電層厚度一般為0.5-5μm，最好為1-3μm。在用浸漬涂敷法時(shí)，膜厚大于5μm會(huì)使透明度下降，而膜厚小于0.5μm會(huì)導(dǎo)致表面電阻大于2×106Ω/□。底涂層3可以包括醇溶聚酰胺、溶劑溶解的芳香族聚酰胺及聚氨基甲酸乙酯和蜜胺樹脂等熱固樹脂等等，它們可以單用或可以組合使用。醇溶聚酰胺最好是諸如尼龍-6、尼龍-8、尼龍-12、尼龍-66、尼龍-610、和尼龍-612等共聚物，N-烷基-或N-烷氧基烷基-改性尼龍(N-alkoxyalkyl-modifiednylon)。其中的具體實(shí)例包括AmilanCM8000(Toray6/66/610/12共聚物尼龍)、Elvamide9061(DuPontJapan，6/66/612共聚物尼龍)、DiamideT-170(Daicel-Hürtz，尼龍-12基共聚物尼龍)等等。而且，底涂層3可以只含諸如TiO2、氧化鋁、碳酸鈣、二氧化硅等無(wú)機(jī)粉末，或含這些粉末中的幾種。無(wú)機(jī)粉末的量可以占復(fù)合物總重量的20-80％，最好是30-60％。底涂層3的膜厚為0.05μm-20μm，最好為0.05-10μm。光敏層4可以是電荷產(chǎn)生物質(zhì)顆粒和電荷輸運(yùn)顆粒皆分散或溶解于粘合劑樹脂中的單層式，或可以是功能分離式，有兩層，即電荷產(chǎn)生層6和電荷輸運(yùn)層7。電荷產(chǎn)生層6和電荷輸運(yùn)層7疊合的順序不作限定。前者可以在后者之上，反之亦然。電荷產(chǎn)生層6可以利用涂敷或真空淀積包括粘合劑樹脂的材料形成，粘合劑樹脂中分散有電荷產(chǎn)生物質(zhì)顆粒，該層在接收光后產(chǎn)生電荷。重要的是，電荷產(chǎn)生層6應(yīng)有很高的電荷產(chǎn)生效率，同時(shí)產(chǎn)生的電荷注入到電荷輸運(yùn)層的可注入性要高，并要求電荷產(chǎn)生層6幾乎不靠電場(chǎng)，電荷可以在低電場(chǎng)下以高速率注入到電荷輸運(yùn)層7中。關(guān)于電荷產(chǎn)生物質(zhì)，可以例舉諸如無(wú)金屬酞菁和鈦氧酞菁等酞菁化合物、諸如偶氮化合物、苯醌化合物、靛藍(lán)化合物、花青化合物、squarylium化合物、azulenium化合物、和pyrilium化合物等顏料或染料、硒或硒化合物?？梢愿鶕?jù)形成圖象的曝光光源的波長(zhǎng)范圍來(lái)適當(dāng)?shù)剡x擇這些電荷產(chǎn)生物質(zhì)。由于電荷產(chǎn)生層只需要具有電荷產(chǎn)生功能即可，所以，電荷產(chǎn)生層膜厚一般不大于5μm，最好為0.1-1μm，電荷產(chǎn)生層的厚度取決于電荷產(chǎn)生物質(zhì)的光吸收性。電荷產(chǎn)生層6可以以電荷產(chǎn)生物質(zhì)為主，另外還有電荷輸運(yùn)物質(zhì)。粘合劑樹脂可以是單獨(dú)從聚碳酸酯、聚酯、聚酰胺、聚氨基甲酸乙酯、聚氯乙烯、苯氧基樹脂、聚乙烯醇縮丁醛、鄰苯二甲酸二烯丙酯、異丁烯酸酯的均聚物和共聚物中選擇的一種，或其中幾種組合使用。電荷輸運(yùn)層7是一涂層，涂層中含粘合劑樹脂及單獨(dú)或幾種分散于粘合劑樹脂中用作電荷輸運(yùn)物質(zhì)的各種腙化合物、苯乙烯基化合物、胺化合物和它們的衍生物，電荷輸運(yùn)層7在無(wú)光時(shí)保持作為絕緣層的光敏層中的電荷，而在接收光后具有輸運(yùn)由電荷產(chǎn)生層注入的電荷的作用。電荷輸運(yùn)層厚度最好為10-40μm。粘合劑樹脂可以采用聚碳酸酯。聚酯、聚苯乙烯、異丁烯酸酯的均聚物和共聚物等等。為了防止電荷輸運(yùn)層因重復(fù)利用所得光電導(dǎo)體時(shí)電暈放電產(chǎn)生的臭氧而退化，電荷輸運(yùn)層7可以含諸如胺化合物、苯酚化合物、亞磷酸酯化合物、磷酸化合物等抗氧化劑。最好用UV射線輻照光電導(dǎo)體，以加強(qiáng)各層間的粘附性。在結(jié)構(gòu)為具有透明合成樹脂基片和含如上所述的有機(jī)光敏物質(zhì)的光敏層的光電導(dǎo)體中，在每次曝光、顯影、上色劑轉(zhuǎn)印到記錄紙上及消除電位的處理期間，表面電荷通過(guò)基片接地，如果基片的電阻率很高，則無(wú)法很順利地形成靜電潛象或消除電位。為此，必需使疊合于合成樹脂基片1上的透明導(dǎo)電層2的表面電阻為2×106Ω/□。在這一點(diǎn)上，透明合成樹脂基片的材料最合適的是PPS樹脂、PC樹脂、PET樹脂、TPX樹脂、PAN樹脂、聚降冰片烯樹脂、和非結(jié)晶聚烯樹脂，隨著時(shí)間的推移，這些樹脂只有很少的尺寸變化，具有極佳的耐溶劑性和透明度并且較便宜。而且，最合適的是采用可以浸漬涂敷的、含ITO或SnO2的導(dǎo)電涂敷復(fù)合物。關(guān)于保護(hù)層5，因?yàn)榛膬?nèi)表面不必是導(dǎo)電的，所以可以在基片或空心圓柱的內(nèi)表面形成硅氧烷漆膜。從生產(chǎn)率的角度出發(fā)，最好用與導(dǎo)電層2相同的材料作保護(hù)層5。實(shí)施例下面將用只是說(shuō)明性的實(shí)例和比較例詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明，這些例子并不用于限定本發(fā)明的范圍。在以下的這些實(shí)例和比較例中，所有份額數(shù)皆以重量計(jì)，將樹脂擠壓成型所用的模具皆具有涂敷了氟樹脂的表面。實(shí)例1在氣缸溫度為360℃時(shí)擠壓PPS樹脂(Toray，PPSM2588)，在浸入水中驟然冷卻的條件下成型為外徑60mm、厚2mm的圓柱形。把該模制件切割成長(zhǎng)350mm，從而得到圓柱形透明基片或管。然后，在用透明導(dǎo)電涂敷液涂敷之前去油和去除表面上的灰塵，以便將涂敷液涂敷在管的內(nèi)外兩個(gè)表面上，形成3μm厚的透明導(dǎo)電層，所述涂敷中含有作溶劑的異佛爾酮(C9H14O)和ITO基材料(ShokubaiKaseiKogyo，ELCOMP-1202)。然后，用涂敷液浸漬涂敷這樣處理過(guò)的管子，形成0.1μm的底涂層，涂敷液中含10份醇溶聚酰胺(Toray，CM8000)，及由10份甲醇和40份丁醇組成的混合溶劑。而且，由1份作電荷產(chǎn)生物質(zhì)的X型無(wú)金屬酞菁(DainipponInkandChemicalsIndustry，F(xiàn)ASTGENBLUE8120)、1份作粘合劑樹脂的聚乙烯醇縮丁醛(SekisuiChemicalIndustry，S-LEKBM-1)、和98份二氯甲烷構(gòu)成的混合物在砂磨床上分散1小時(shí)。所得分散體浸漬涂敷在上述的底涂層上，并在80℃下干燥30分鐘，形成0.5μm厚的電荷產(chǎn)生層。隨后，由10份由結(jié)構(gòu)式(1)表示的電荷輸運(yùn)材料、10份由雙酚A和聯(lián)苯構(gòu)成的共聚物聚碳酸酯(IdemitsuKosan，TOUGHZET)和80份二氯甲烷構(gòu)成的溶液浸漬涂敷于電荷產(chǎn)生層上，并在100℃下干燥1小時(shí)，形成20μm厚的電荷輸運(yùn)層，從而制得光電導(dǎo)體。實(shí)例2除擠壓成型PC樹脂(Teijin，PanliteL-1225)形成圓柱形透明基片外，以與實(shí)例1同樣的方式制造光電導(dǎo)體。實(shí)例3除擠壓成型PET樹脂(Unitika，PETSA1206)形成圓柱形透明基片外，以與實(shí)例1同樣的方式制造光電導(dǎo)體。實(shí)例4除擠壓成型TPX樹脂(MitsuiPetroChemicalIndustry，TPXRT18)形成圓柱形透明基片，且用含SnO2的透明導(dǎo)電涂敷液(ShokubaiKaseiKogyo，ELCOMP-3530)代替含ITO的透明導(dǎo)電涂敷液外，以與實(shí)例1同樣的方式制造光電導(dǎo)體。實(shí)例5除在200-220℃氣缸溫度下擠壓成型PAN樹脂(MitsuiToatsu，Parex#4205)形成圓柱形透明基片外，以與實(shí)例1同樣的方式制造光電導(dǎo)體。這里，擠壓成型工藝用的是氟樹脂敷面的模具。氟樹脂敷面是通過(guò)在模具的表面上涂敷聚四氟乙烯(PTFE)分散體、干燥、然后在350-400℃的溫度下燒結(jié)約1小時(shí)實(shí)現(xiàn)的。為了比較，用未作表面處理的模具擠壓制成光電導(dǎo)體管，比較上述兩種擠壓而成的管子表面的粗糙度(Rmax)和圓度的精度s。結(jié)果如下。擠壓成型管的精度PTFE處理過(guò)的模具未用PTFE處理的模具表面粗糙度(Rmax)0.2-1.0μm1-2.5μm圓度30-50μm100-140μm實(shí)例6除在260-280℃氣缸溫度下擠壓成型聚降冰片烯樹脂(JapanSyntheticResin，ARTONG)形成圓柱形透明基片外，以與實(shí)例1同樣的方式制造光電導(dǎo)體。實(shí)例7除在250-270℃的氣缸溫度下擠壓成型非結(jié)晶聚烯樹脂(NipponZeon，ZEONEX250)形成圓柱形透明基片外，以與實(shí)例1同樣的方式制造光電導(dǎo)體。比較例1除去除圓柱形無(wú)機(jī)玻璃基片表面上油和灰塵，然后利用DC磁控濺射在這樣清潔過(guò)的表面上形成ITO膜，隨后涂敷有機(jī)光敏物質(zhì)外，以與實(shí)例1同樣的方式制造光電導(dǎo)體。比較例2除去除圓柱形透明基片表面上油和灰塵，然后在這樣清潔過(guò)的表面上密封涂敷含ITO的涂敷液(ShokubaiKagakuKogyo，ELCOMP-1202)，使所得表面的表面電阻為107Ω/□外，以與實(shí)例1同樣的方式制造光電導(dǎo)體。比較例3除在360℃的氣缸溫度下擠壓成型PPS樹脂(Toray，PPSM2588)但不驟然冷卻形成圓柱形透明基片外，以與實(shí)例1同樣的方式制造光電導(dǎo)體。比較例4除由與實(shí)例5相同的材料和相同的方法獲得圓柱形透明基片外，以與比較例2相同的方式制備光電導(dǎo)體。測(cè)量實(shí)例1-7和比較例1-4制備的基片和光電導(dǎo)體涂敷有機(jī)光敏物質(zhì)之前的總透光率、表面粗糙度、圓度、尺寸精度、在用100℃或80℃溫度加熱的條件下隨時(shí)間的推移尺寸的變化，結(jié)果如以下的表3和4所示。用如圖4所示的試驗(yàn)機(jī)測(cè)量的原理如下所述。光敏鼓10按圖4中箭頭所指方向以60mm/秒的圓周速度旋轉(zhuǎn)，在此期間，Corotron充電器11充電到-600V，在具有曝光光源13的探頭12未曝光的條件下的電位規(guī)定為暗電位Vo。然后，停止旋轉(zhuǎn)，鼓10保持暗狀態(tài)5秒，隨后，測(cè)量電位殘余Vk5(％)。然后，用波長(zhǎng)為660nm的光，以2μw/cm2的輻射照度對(duì)鼓10曝光，0.2秒后的電位規(guī)定為亮電位Vi，15秒后的電位規(guī)定為殘余電位Vr。而且，圖5所示的試驗(yàn)機(jī)包括光電導(dǎo)體10，靜電充電器16，曝光光源17，消除光源18，顯影裝置19，轉(zhuǎn)印裝置20，和清潔刀片21。光電導(dǎo)體或鼓10以60mm/秒的圓周速度旋轉(zhuǎn)，在此期間，靜電充電器16把鼓10充電到-600V，并由曝光光源17以2μw/cm2輻射照度的光曝光。用顯影裝置19中的上色劑對(duì)所得潛象顯影，然后，由轉(zhuǎn)印器轉(zhuǎn)印到記錄紙上。在轉(zhuǎn)印過(guò)程完成后，消除光源18消除鼓10上的充電電位，并由清潔刀片21去掉鼓10表面上殘留的上色劑。重復(fù)該周期，直到印完要求數(shù)量的紙張。表1例1例2例3例4比較例1比較例2比較例3樹脂PPSPCPETTPX玻璃PPSPPS透明導(dǎo)電膜ITOITOITOSnOITOITOITO成型性好好好好-好好總透光率85898892958517表面電阻(Ω/□)2×1063×1043×1049×1039×1061×1072×106表面粗糙度Rmax(μm)0.90.81.51.81.20.90.9圓度(μm)40405050804050尺寸精度(φ30±m(xù)m)0.050.030.050.070.150.050.05尺寸變化100℃/48小時(shí)(％)0-0.2-0.1-0.2000</table>p><p>表2</tables>附注1)“Polynor”代表聚降冰片烯。2)“Nonol”代表非結(jié)晶聚烯。表3</tables>表4接著，測(cè)試用于各實(shí)例中的每個(gè)透明基片管的耐溶劑性，以下的表5示出了測(cè)試的內(nèi)容、測(cè)試的方法和所得的結(jié)果。表5附注1)“A”表示不溶解。“B”表示少量溶解?！癈”表示大量溶解。2)“A”表示未加白?！癇”表示少量加白。“C”表示大量加白。3)“Polynor”代表聚降冰片烯。4)“Nonol”代表非結(jié)晶聚烯。簡(jiǎn)寫DCM二氯甲烷THF四氫呋喃權(quán)利要求1.一種用于內(nèi)輻射式靜電復(fù)印的光電導(dǎo)體，包括包括合成樹脂的空心圓柱形透明基片；設(shè)置于所述基片外表面上的導(dǎo)電層，所述導(dǎo)電層的電阻不大于2×106Ω/□；覆蓋于所述導(dǎo)電層上的光敏層；及設(shè)置于所述基片內(nèi)表面上的保護(hù)層，該層耐形成光敏層時(shí)所用的溶劑。2.如權(quán)利要求1的用于內(nèi)輻射式靜電復(fù)印的光電導(dǎo)體，其特征在于，所述透明合成樹脂基片至少包括選自聚苯硫、聚碳酸酯、飽和聚酯、聚甲基戊烯、聚丙烯腈、聚降冰片烯和非結(jié)晶聚烯組的一種樹脂。3.如權(quán)利要求1或2的用于內(nèi)輻射式靜電復(fù)印的光電導(dǎo)體，其特征在于，所述透明合成樹脂基片是用具有氟樹脂涂敷表面的模具擠壓成的。4.如權(quán)利要求1、2或3的用于內(nèi)輻射式靜電復(fù)印的光電導(dǎo)體，其特征在于，所述導(dǎo)電層是包括選自氧化銦錫和氧化錫組的材料的透明導(dǎo)電層。5.如權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)的用于內(nèi)輻射式靜電復(fù)印的光電導(dǎo)體，其特征在于，所述保護(hù)層包括選自氧化銦錫、氧化錫和硅氧烷樹脂組中的一種材料。全文摘要一種用于內(nèi)輻射式靜電復(fù)印的光電導(dǎo)體,包括:合成樹脂圓柱形透明基片(1);設(shè)置于基片外表面上的導(dǎo)電層(2),該導(dǎo)電層的電阻不大于2×10文檔編號(hào)G03G5/14GK1177755SQ9711767公開日1998年4月1日申請(qǐng)日期1997年8月26日優(yōu)先權(quán)日1996年8月26日發(fā)明者川田紀(jì)右,山口啟,池田豐申請(qǐng)人:富士電機(jī)株式會(huì)社