專利名稱：同時在兩側(cè)進(jìn)行防水處理的機(jī)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及兩側(cè)同時進(jìn)行防水處理的機(jī)構(gòu)，它在像塑料眼鏡片這樣的光學(xué)透鏡的兩面進(jìn)行防水膜形成工藝，并且在用真空蒸發(fā)在眼鏡片的表面沉積防水膜時，用修正調(diào)節(jié)防水膜的厚度。
在像塑料眼鏡片這樣的光學(xué)透鏡中，在其表面上涂有抗反光膜。該抗反光膜通常是通過采用像ZrO2或SiO2這樣的無機(jī)氧化物形成的。由于用于形成抗反光膜的無機(jī)氧化物在防水或防油方面有低劣的性能，施以抗反光膜的光學(xué)透鏡的表面容易由汗或指紋這種油或類似物而變臟。還有，一旦這類臟的紋路粘附在光學(xué)透鏡的表面上，就難以將其去掉。因此，光學(xué)透鏡希望在其表面上具有防污特性。為了解決這一問題，傳統(tǒng)上是在上述在光學(xué)透鏡表面上形成的抗反光膜上沉積一防水膜(例如在JP-A-5-215905、JP-A-60-221740和JP-A-4-218 358公報中所公開的)。作為在光學(xué)透鏡的表面上形成防水膜的常用方法，曾經(jīng)采用了浸潰法、利用熱蒸發(fā)的真空蒸發(fā)法或CVD(化學(xué)氣相沉積)法。
此外，在制造光學(xué)透鏡的現(xiàn)代方法中，曾經(jīng)提出一種通過在最后的工藝中采用真空蒸發(fā)法將防水膜沉積到透鏡表面上的技術(shù)。在通過真空蒸發(fā)法形成防水膜時，將多個光學(xué)透鏡基體材料(以組為單位)放在可旋轉(zhuǎn)的圓的平面托座上，并在托座旋轉(zhuǎn)時將防水膜沉積在每組光學(xué)透鏡基體材料上。
此外，近年來，作為將抗反光膜沉積在光學(xué)透鏡的表面上的系統(tǒng)，曾經(jīng)提出采用一種利用濺射法沉積抗反光膜的沉積系統(tǒng)，該濺射法是半導(dǎo)體制造技術(shù)中所用的一種方法。在濺射膜沉積系統(tǒng)中，將多個光學(xué)透鏡放在透鏡托架中，以使透鏡的兩面都可同時用濺射法沉積，特別是，在可以在濺射室中自由旋轉(zhuǎn)的透鏡托架上的光學(xué)透鏡的兩面都可以同時用濺射法沉積以抗反光膜，該濺射法采用兩個設(shè)置在透鏡托架的上側(cè)和下側(cè)的兩個靶。
以后，如上所述，進(jìn)行形成防水膜的工藝，以作為沉積抗反光膜工藝以后的最終工藝。將每個都具有各自在其兩面上形成的抗反光膜的多個光學(xué)透鏡按其放在透鏡托架上的狀態(tài)從濺射沉積室中取出，然后將它們放入真空處理室，用于形成防水膜。作為光學(xué)透鏡的排列狀態(tài)，它們水平地被支承在透鏡托架上，而且由于透鏡托架的結(jié)構(gòu)，透鏡的兩面保持成分別朝上側(cè)與下側(cè)。因此，還希望光學(xué)透鏡的兩面在用于形成防水膜的最后工藝中同時被沉積以防水膜。因此，可以預(yù)期，在形成防水膜的工藝中，效率得到提高，此外，還改善了防水膜的性能特征。
此外，通常都認(rèn)為，用真空蒸發(fā)法形成的防水膜的厚度分布是令人滿意的。不過，當(dāng)將真空蒸發(fā)法應(yīng)用到具有彎月形的眼鏡片的薄膜成形時，要求實現(xiàn)具有高精度的均勻性的膜厚分布，而不受透鏡曲率的影響。如果防水膜的膜厚有離差，則由于光學(xué)產(chǎn)品之間所產(chǎn)生的離差涉及到干涉特性或品質(zhì)，因此難于將光學(xué)透鏡的品質(zhì)等保持在所要求的特殊水平上。
本發(fā)明的一個目的是提供一兩面同時防水處理的機(jī)構(gòu)，它能夠通過同時在光學(xué)透鏡的兩面上形成防水膜的工藝提高防水處理的效率，從而提高加工效率和生產(chǎn)率。
本發(fā)明的另一目的為在防水膜中或在各個膜之間減少膜厚差并使膜厚分布具有高精度的均勻性，這些膜是利用真空蒸發(fā)法沉積在放在托座上的多個光學(xué)透鏡的表面上的。
其中排列有多個光學(xué)透鏡基體材料的基體托座可旋轉(zhuǎn)地裝在真空氛圍中并提供一真空處理室，用于將防水膜沉積在光學(xué)透鏡基體材料的每個表面上。在此真空處理室中設(shè)置了兩面同時防水處理的機(jī)構(gòu)。兩面同時防水處理的機(jī)構(gòu)相對于基體托座有一上側(cè)的防水處理裝置和一下側(cè)的防水處理裝置，并如此構(gòu)形，以使上側(cè)的防水處理裝置在光學(xué)透鏡基體材料的上側(cè)形成防水膜，而下側(cè)的防水處理裝置則在其下側(cè)形成防水膜。這種構(gòu)形使之有可能用設(shè)置在上側(cè)和下側(cè)的防水處理裝置同時將光學(xué)透鏡基體材料的兩面沉積以防水膜。
在上述兩面同時防水處理的機(jī)構(gòu)中，上側(cè)和下側(cè)的防水處理裝置分別有防水材料片和用于加熱防水材料片的加熱器。用加熱器加熱的防水材料片被蒸發(fā)，產(chǎn)生防水物質(zhì)，從而通過氣相沉積使光學(xué)透鏡基體材料的上下面被粘附以防水物質(zhì)，導(dǎo)致形成防水膜。
此外，上、下防水處理裝置分別有溫度測量芯片和一控制部分，在溫度測量芯片上加有熱電偶，控制部分用于根據(jù)以熱電偶輸出的檢測信號控制由加熱器產(chǎn)生的加熱溫度。
防水材料片最好設(shè)有加熱板如鉬板等。上側(cè)的防水處理裝置使之能向下進(jìn)行氣相沉積并進(jìn)一步設(shè)置不銹鋼支承板，在板中通過防落下機(jī)構(gòu)裝有防水材料片和測溫芯片并朝向光學(xué)透鏡基體材料的上側(cè)。還有，下側(cè)的防水處理裝置設(shè)有加熱板，在其上裝有防水材料片和溫度測量芯片。
此外，在真空處理室中采用了用于防水處理的膜厚修正機(jī)構(gòu)，在室中，防水處理裝置通過真空蒸發(fā)在光學(xué)透鏡基體材料的表面上形成防水膜。膜厚修正機(jī)構(gòu)包括一用于修正防水膜的膜厚差的膜厚修正板，它設(shè)置在上述防水處理裝置與光學(xué)透鏡基體材料之間。
膜厚修正板由于能使從防水處理裝置中蒸發(fā)出來的防水物質(zhì)變?nèi)?，故對光學(xué)透鏡基體材料產(chǎn)生直接的影響，同時使沉積在光學(xué)透鏡基體材料上的防水物質(zhì)均勻。因此，有可能使防水膜中的厚度差和沉積在多個光學(xué)透鏡基體材料上的膜之間的厚度差得以減少，提高膜厚分布的均勻性。
膜厚修正板最好是一用于調(diào)節(jié)膜厚差的屏蔽構(gòu)件，它沿由圓形平面基體托座中的周邊區(qū)和中間區(qū)之間的連接所規(guī)定的方向排列，該托座是水平的并能旋轉(zhuǎn)，在托座上以水平狀態(tài)在同心圓上放置多個其表面具有任意的曲率的光學(xué)透鏡基體材料。
上述防水處理裝置包括一上側(cè)的和一下側(cè)的防水處理裝置，它們同時分別在光學(xué)透鏡基體材料的上側(cè)和下側(cè)形成防水膜，而屏蔽構(gòu)件則包括上、下屏蔽構(gòu)件。
圖1是典型的示意圖，它示出了采用了本發(fā)明的薄膜形成設(shè)備的整個構(gòu)形；圖2是一俯視圖，示出了裝在用于形成防水膜的真空室中的基體托座；圖3是一重要段的縱向剖視圖，該段示出了本發(fā)明的典型的實施例；圖4是上側(cè)的防水處理裝置中的一個重要段的放大的俯視圖；圖5是沿圖4的A-A線的剖視圖；圖6是下側(cè)的防水處理裝置中的一個重要段的放大的俯視圖；圖7是沿圖6的B-B線的剖視圖；圖8是局部俯視圖，它示出了膜厚修正板的布置位置和形狀；以及圖9是一表圖，它用于根據(jù)有無膜厚修正板比較其效果。
下面根據(jù)


本發(fā)明的優(yōu)選實施例。
圖1典型地示出了一薄膜形成設(shè)備的整個構(gòu)形，在設(shè)備中采用本發(fā)明的兩面同時防水處理的機(jī)構(gòu)。此薄膜形成設(shè)備10是一連續(xù)式設(shè)備，其中串聯(lián)有多個真空室11～17。
薄膜形成設(shè)備10的每個真空室都被裝在室上的抽真空系統(tǒng)20抽氣并保持成真空狀態(tài)。在真空室11～17的任何兩個相鄰室之間分別設(shè)置有閘閥21。這種構(gòu)形可將每個真空室調(diào)節(jié)成具有單獨的真空氛圍。
在具有上述構(gòu)形的薄膜形成設(shè)備10中，例如在右端的真空室11是一進(jìn)口室，在左端的真空室17是一出口室，真空室12是用于沉積硬膜的真空處理室，真空室14是用于沉積抗反光膜的真空處理室，真空室16是用于沉積防水膜的真空處理室。其它兩個真空室13和15和布置在薄膜沉積真空處理室之間的中間室。
在上述薄膜形成設(shè)備10中，薄膜形成處理是對著要在每個真空室12、14、16中被處理的對象進(jìn)行的。在本實施例中，被處理的對象是塑膠基體材料。此塑膠基體材料是一塑料眼鏡片基體材料，它具有-4.00的屈光度和圓的彎月形，這是光學(xué)透鏡的一個例子。光學(xué)透鏡可以用玻璃制造。將許多塑膠基體材料裝在作為透鏡托架來工作的基體托座22上?；w托座22最好有圓的平面形并且經(jīng)常保持水平狀態(tài)。如圖1所示，將可沿向上/向下和水平方向移動的基體托座22穿過在右端的閘閥21送入進(jìn)口室中，在其中，確定它的向上/向下的位置，接著，將其從右側(cè)送至左側(cè)，進(jìn)一步在確定其向上/向下的位置以后，將其穿過在左端的閘閥21送至外面。當(dāng)基體托座22在移動時，依次在裝在基體托座22上的多個塑膠基體材料的兩面上在真空室12中形成硬膜，在真空室14中形成抗反光膜和在真空室16中形成防水膜。被保持成水平的基體托座22沿薄膜形成設(shè)備10的真空室11～27的每一個被輸送。作為輸送設(shè)備，可采用例如輥子機(jī)構(gòu)或鏈條機(jī)構(gòu)等。
在真空室12中，通過利用例如CVD法在塑膠基體材料的兩側(cè)同時沉積具有耐磨性的硬膜。在真空室14中，通過利用例如濺射法在塑膠基體材料的兩側(cè)同時沉積抗反光膜。此外，在真空室16中，在真空氛圍中在塑膠基體材料的兩側(cè)同時沉積防水膜。在下面的描述中，將詳細(xì)說明在真空室16中進(jìn)行防水膜的沉積。
在上述真空室16中裝備有兩側(cè)同時防水處理的機(jī)構(gòu)。以后在兩側(cè)同時進(jìn)行防水處理的機(jī)構(gòu)都參考圖2-7予以說明。
圖2是一俯視圖，它示出了裝在真空室16中的基體托座22。平板狀的具有圓的平面形的基體托座22被安裝成能自由地用中心支承構(gòu)件23旋轉(zhuǎn)。在沉積防水膜時，基體托座22以預(yù)定的旋轉(zhuǎn)速度被移動。在基體托座22上裝有許多塑膠基體材料24。在基體托座22上，許多塑膠基體材料24在一些大體是同心的圓上排列。如圖3所示，在基體托座22上的每個塑膠基體材料24都被放在夾持孔22a中并在其中如此放置，以使塑膠基體材料24的上表面(凹面)和下表面(凸面)分別向上部空間和下部空間露出。在圖3中，箭頭3表示朝著基體托座22的中間段的方向。
相對于放在上述基體托座22上的許多塑膠基體材料24，防水處理裝置30和40分別布置在基體托座22的上方和下方。在圖2中用虛線26表示的地點是這些防水處理裝置的每一個的設(shè)置地點。兩面同時防水處理的機(jī)構(gòu)由上防水處理裝置30和下防水處理裝置40組成。防水處理裝置30在塑膠基體材料24的上表面上沉積防水膜，而防水處理裝置40則在其下表面上沉積防水膜。因此，布置在上側(cè)的防水處理裝置是上側(cè)的防水處理裝置，而布置在下側(cè)的防水處理裝置則是下側(cè)的防水處理裝置。這樣，排列在基體托座22中的許多塑膠基體材料24的每一個的上面和下面都被同時沉積以防水膜。
防水處理裝置30由布置在基體托座22的上側(cè)的不銹鋼板31和布置在不銹鋼板31上方的作為加熱裝置的鹵燈32組成。在不銹鋼板31中，有防水材料片33和布置在片上的加熱板如鉬板34，以及具有熱電偶35的溫度測量芯片36。優(yōu)選的防水材料片主要是多孔材料，通過將浸漬以例如在JP-A-5-215 905中公開的氟化合物防水溶液的多孔材料加熱，就有可能得到適中的氣相沉積率。說得更具體一些，作為用多孔材料制造的防水材料片，最好采用由具有高熱導(dǎo)率的金屬粉末如銅等做成的燒結(jié)過濾物質(zhì)。另外，根據(jù)實現(xiàn)適中的氣相沉積率的觀點，比較合適的是，多孔材料的網(wǎng)目度為40～200微米，最好為80～120微米。
圖4和5示出了上防水處理裝置30的重要段的放大的圖，該裝置具有用于防止防水材料片下落和防止朝下側(cè)氣相沉積的功能的保持機(jī)構(gòu)，這是本發(fā)明的特色之一。圖4是一俯視圖，圖5是一沿圖4的A-A線的剖視圖。不銹鋼板31有圓的通孔31a和31b，它們具有不同的標(biāo)高，以防止防水材料片下落，孔31a容納材料片33，以使其不致下落，而孔31b則容納用多孔材料制造的溫度測量芯片，該多孔材料與用于防水材料片33的相同，但未浸潰以防水劑。防水材料片33在孔31a中布置成通過孔31a的下部開口面向塑膠基體材料24的上側(cè)(凹面)，在高度方向有20cm(通常為10～60cm，更好一些為15～30cm)的間隙，用鉬制造的加熱板34則布置在片33的上面。還有，溫度測量芯片36同樣布置成通過孔31b的下部開口面向塑膠基體材料24，有不同的標(biāo)高，以防止芯片下落。從放在溫度測量芯片36中的熱電偶輸出的檢測信號被輸入至控制部分37?？刂撇糠?7控制由鹵燈32產(chǎn)生的加熱溫度，使之響應(yīng)被熱電偶35檢測到的氛圍溫度而成為合適的溫度。以后，用鹵燈32通過鉬板34加熱防水材料片33，使防水物質(zhì)向下蒸發(fā)，而鉬板34則防止在上側(cè)氣相沉積，由此，塑膠基體材料24的上表面被沉積以防水膜。此外，雖然在此實施例中，為了方便起見，略去了將鉬板布置在溫度測量芯片的上面的情況，但是，這種情況實際上與那些按照條件與下防水處理裝置的是相同的。
另一方面，下防水處理裝置40是由例如布置在基體托座22的下方的鉬板41和一作為加熱裝置而布置在鉬板41的下方的鹵燈42組成的。鉬板41起著加熱板的作用。其中有防水材料片43和帶熱電偶44的溫度測量芯片45，只有各自的構(gòu)件在鉬板41上的布置與上防水處理裝置的相應(yīng)的布置不同。
圖6和7示出了上述防水處理裝置40的重要段的放大的圖。圖6是俯視圖，圖7是沿圖6的B-B線的剖視圖。防水材料片43和溫度測量芯片45都面向塑膠基體材料24的下側(cè)(凸表面)。從設(shè)在溫度測量芯片中的熱電偶輸出的檢測信號被輸入至控制部分46。控制部分46響應(yīng)由熱電偶檢測到的氛圍溫度控制由鹵燈42產(chǎn)生的加熱溫度。用鹵燈42通過鉬板41加熱防水材料片43，使防水物質(zhì)蒸發(fā)，由此，塑膠基體材料的下表面被沉積以防水膜。這樣，防水功能與上防水處理裝置的情況相同。
按照上述構(gòu)形，排列在基體托座22上的所有塑膠基體材料24的兩面都可以在布置在上、下位置的防水處理裝置30和40的相同控制下同時沉積以防水膜，這是因為，基體托座22是旋轉(zhuǎn)的。特別是，設(shè)置在塑膠基體材料上方的上防水處理裝置可由于采用上述構(gòu)形而從上側(cè)對比材料進(jìn)行防水處理。如上所述，在用于沉積防水膜的真空室16中，可以在裝在基體托座22上的許多塑膠基體材料24的兩側(cè)同時沉積防水膜。
還有，在防水膜形成設(shè)備的內(nèi)壁段裝有模厚修正機(jī)構(gòu)，它布置成與具有上述構(gòu)形的防水處理裝置成一預(yù)定的位置關(guān)系。膜厚修正機(jī)構(gòu)由分別布置在基體托座22的上側(cè)和下側(cè)的膜厚修正板51和52組成。在上述設(shè)備中。膜厚修正板51布置在防水處理裝置30和基體托座22之間，與它們成平行的狀態(tài)，而膜厚修正板52則布置在防水處理裝置40和基體托座22之間，與它們成平行的狀態(tài)。膜厚修正板51和52從功能觀點都是用于蓋住塑料基體材料24的屏蔽構(gòu)件，這些基體材料根據(jù)基體托座22的旋轉(zhuǎn)作用而接近防水處理裝置30和40。如圖8所示，由于沿托座的徑向和按同心圓排列模式布置的塑膠基體材料24部分地蓋以膜厚修正板，該板作為具有所要求的覆蓋圖案形狀的屏蔽構(gòu)件工作，故被蒸發(fā)的防水物質(zhì)部分地被修正板阻擋，同時這種構(gòu)造使之有可能修正沉積在每個塑膠基體材料24的表面上的防水膜的膜厚，并使在表面上的膜厚均勻。此膜厚修正板51和52要如此布置，以使其縱向方向平行于將基體托座22中的中間段與邊緣段連接起來的直線的方向，也就是說，平行于基體托座的直徑方向。在圖8中，圓53～55是在其上排列塑膠基體材料24的同心圓，至于它們的由于其旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的線速度，則較外面的速度比較里面的快。
產(chǎn)生膜厚差(偏差)的原因之一認(rèn)為是蒸發(fā)源(它是防水材料片)與透鏡之間的相對位置關(guān)系(當(dāng)高度方向的距離不變時)。在圖8中，蒸發(fā)源布置成略在排列在三個同心圓上的透鏡的中部的外側(cè)。也就是說，將蒸發(fā)源放在較外面的地點，這是因為，排列在靠外段的透鏡的線速度大；另外，在修正板的對應(yīng)于外側(cè)區(qū)的段的面積變寬，這是因為，靠近蒸發(fā)源的透鏡要沉積得比其它透鏡厚一些；但是，在修正板的對應(yīng)于內(nèi)側(cè)區(qū)的段則做得較狹，有一狹的面積，這是因為，排列在內(nèi)側(cè)區(qū)的透鏡遠(yuǎn)離蒸發(fā)源。
至于膜厚修正板41和42的平面形狀，則最好是圖8所示的形狀，也就是說，該形狀沿直徑方向有預(yù)定的長度，其內(nèi)端具有狹的形狀和從蒸發(fā)源離開有較小的面積，這是考慮到基體托座上的透鏡與蒸發(fā)源之間的相對位置(包括高度方向的距離)以及由托座的旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的線速度與透鏡的布置有關(guān)。不過，膜厚修正板的平面形狀不特別限于上述形狀。此外，蒸發(fā)源的布置位置略在透鏡布置的中間的外側(cè)，并且以基體托座的中心為基準(zhǔn)，最好具體地使此布置位置在基體托座的半徑的1/2至不大于半徑的2/3之間。
當(dāng)將在防水處理機(jī)構(gòu)中采用如上所述的修正板的情況與不采用上述修正板的情況相比時，在后一情況，就所產(chǎn)生的膜厚而言，缺少均勻性，因而就塑膠基體材料24而言，產(chǎn)生作為第一線(內(nèi)側(cè))至第三線(外側(cè))的防水性能離散和抗反光膜的干涉色離散。反之，在前一情況，這些缺點都消失并可形成具有均勻的膜分布的防水膜。圖9所示的表示出了根據(jù)采用膜厚修正板的情況和不采用它的情況的性能試驗結(jié)果。如此表所示，這兩種情況之間的差別非常顯著，特別是當(dāng)被沉積的膜的量加大時，以及當(dāng)采用膜厚修正板時；以及在布置在第一線至第三線上的每個塑膠基體材料中的接觸角變成均勻的，和干涉色的變化的差別變小。
此外，膜厚修正機(jī)構(gòu)的應(yīng)用不限于本發(fā)明的兩面同時防水處理的機(jī)構(gòu)，它也可用于一面防水處理的機(jī)構(gòu)。
按照上述膜厚修正機(jī)構(gòu)，由于膜厚修正板是布置在防水處理裝置與基體托座之間，與排列在基體托座上的光學(xué)透鏡基體材料成預(yù)定的位置關(guān)系的，故當(dāng)在用真空蒸發(fā)法在光學(xué)透鏡基體材料的表面沉積防水膜時，防水膜的厚度可以相等并可實現(xiàn)優(yōu)異的膜厚分布，并且可以進(jìn)一步改進(jìn)像防水性能這樣的透鏡特性。特別是，在基體托座上按同心圓的位置關(guān)系排列許多光學(xué)透鏡基體材料時，沉積在布置在內(nèi)側(cè)和外側(cè)的光學(xué)透鏡基體材料的表面上的防水膜的厚度差變小，包括在以批為單位的許多光學(xué)透鏡基體材料中的膜厚分布可以變得均勻，該批是用基體托座(透鏡托架)為單位規(guī)定的。
由于上側(cè)防水處理裝置和下側(cè)防水處理裝置都是布置在用于在光學(xué)透鏡基體材料的表面上沉積防水膜的真空處理室中的，因此本發(fā)明的構(gòu)件適用于在光學(xué)透鏡基體材料的兩面同時形成防水膜，并且適用于提高防水膜的沉積處理效率，提高加工效率和生產(chǎn)率。此外，當(dāng)在防水處理中利用真空蒸發(fā)法在光學(xué)透鏡基體材料的表面上沉積防水膜時，本發(fā)明適用于使光學(xué)透鏡基體材料上的防水膜的厚度相等，適用于改進(jìn)像防水性能等這樣的透鏡特性。特別是，就光學(xué)透鏡而言，本發(fā)明優(yōu)先用于具有彎月形的眼鏡片。
權(quán)利要求
1．一在真空處理室(16)中的兩面同時進(jìn)行防水處理的機(jī)構(gòu)，在該室中，在真空氛圍中可旋轉(zhuǎn)地安裝有在其上排列有多個光學(xué)透鏡基體材料(24)的托座(22)，并且在上述光學(xué)透鏡基體材料(24)的表面上沉積防水膜，防水處理機(jī)構(gòu)的特征為對上述托座(22)提供一上側(cè)的防水處理裝置(30)和一下側(cè)的防水處理裝置(40)，其中，上述上側(cè)的防水處理裝置(30)在上述光學(xué)透鏡基體材料(24)的上側(cè)形成防水膜，而上述下側(cè)的防水處理裝置(40)則在上述光學(xué)透鏡基體材料(24)的下側(cè)形成防水膜。
2．如權(quán)利要求1的兩面同時進(jìn)行防水處理的機(jī)構(gòu)，其特征為，上述上側(cè)的防水處理裝置(30)和下側(cè)的防水處理裝置(40)分別有防水材料片(33、43)和用于加熱上述材料片的加熱器(32、42)。
3．如權(quán)利要求2的兩面同時進(jìn)行防水處理的機(jī)構(gòu)，其特征為，上述上側(cè)的防水處理裝置(30)和下側(cè)的防水處理裝置(40)分別有一溫度測量芯片(36、35)、一加在上述溫度測量芯片上的溫度檢測裝置(35,44)，和一用于根據(jù)從上述溫度檢測裝置輸出的檢測信號控制由上述加熱器產(chǎn)生的加熱溫度的控制裝置(37、46)。
4．如權(quán)利要求2的兩面同時進(jìn)行防水處理的機(jī)構(gòu)，其特征為，上述防水材料片(33、43)設(shè)有加熱板(34、41)。
5．如權(quán)利要求3的兩面同時進(jìn)行防水處理的機(jī)構(gòu)，其特征為，上述上側(cè)的防水處理裝置(30)設(shè)有支承板(31)，上述防水材料片(33)和上述溫度測量芯片(36)均安裝在其中并面向上述光學(xué)透鏡基體材料(24)的上側(cè)。
6．如權(quán)利要求3的兩面同時進(jìn)行防水處理的機(jī)構(gòu)，其特征為，上述下側(cè)的防水處理裝置(40)設(shè)有加熱板(41)，在其上裝有上述防水材料片(43)和上述溫度測量芯片(45)。
7．用于防水處理的膜厚修正機(jī)構(gòu)，其特征為在真空處理室(16)中采用了膜厚修正板(51、52)，在真空處理室中，防水處理裝置(30、40)用真空蒸發(fā)在光學(xué)透鏡基體材料(24)上形成防水膜，修正板布置在上述防水處理裝置和上述光學(xué)透鏡基體材料之間，以便修正上述防水膜的膜厚差；上述光學(xué)透鏡基體材料的表面有曲率，多個上述光學(xué)透鏡基體材料以水平狀態(tài)排列在上述圓的平面托座中的同心圓上，該托座放置成水平的并可旋轉(zhuǎn)。上述膜厚修正板(51、52)是一用于調(diào)節(jié)膜厚差的屏蔽(掩模)構(gòu)件，它沿由上述托座中的周邊段與中心段之間的連線劃定的方向布置。
8．如權(quán)利要求7的用于防水處理的膜厚修正機(jī)構(gòu)，其特征為上述防水處理裝置包括一上側(cè)的防水處理裝置(30)和一下側(cè)的防水處理裝置(40)，其中，上述上、下防水處理裝置分別在上述光學(xué)透鏡基體材料的上側(cè)和下側(cè)形成防水膜，以及上述屏蔽構(gòu)件包括一上屏蔽構(gòu)件(51)和一下屏蔽構(gòu)件(52)。
全文摘要
在其上排列有多個光學(xué)透鏡基體材料的基體托座(22)可旋轉(zhuǎn)地裝在真空氛圍中,并具有一用于在光學(xué)透鏡基體材料的表面上形成防水膜的真空處理室(16),另外,在此真空處理室中裝有兩面同時防水處理的機(jī)構(gòu)。相對于基體托座(22),設(shè)置了一上側(cè)的防水處理裝置(30)和一下側(cè)的防水處理裝置(40),上側(cè)的防水處理裝置在光學(xué)透鏡基體材料的上側(cè)形成防水膜,而下側(cè)的防水處理裝置則在光學(xué)透鏡基體材料的下側(cè)形成防水膜。這種構(gòu)形在光學(xué)透鏡基體材料的兩面同時形成防水膜。用于防水處理的膜厚修正機(jī)構(gòu)由用于修正膜厚差的膜厚修正板(5l,52)組成,它布置在防水處理裝置與光學(xué)透鏡基體材料之間。
文檔編號G02B1/10GK1226971SQ9880065
公開日1999年8月25日 申請日期1998年5月18日 優(yōu)先權(quán)日1997年5月16日
發(fā)明者嘉村齊, 葭原雅章, 神谷肇 申請人:保谷株式會社