專利名稱：輻射敏感性樹脂組合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及適用于生產(chǎn)半導(dǎo)體裝置或液晶顯示器的輻射敏感性樹脂組合物，更具體地說，本發(fā)明涉及可形成優(yōu)良圖案、顯示出優(yōu)異的基底粘附性以及可易于通過脫膜劑除去的用于生產(chǎn)半導(dǎo)體裝置或液晶顯示器的輻射敏感性樹脂組合物。
背景技術(shù)：
在生產(chǎn)半導(dǎo)體裝置如IC或LSI或液晶顯示器的加工過程中，精細(xì)圖案是這樣形成的在基底上形成光致抗蝕劑層，所述基底為硅基底，具有金屬層如鋁、鉬、鉻等的基底或具有金屬氧化物層如ITO(銦錫氧化物)的基底，將這種光致抗蝕劑層通過屏蔽圖案用UV光等進(jìn)行照射，對(duì)圖案進(jìn)行顯影，采用形成的光致抗蝕劑圖案作為掩模對(duì)基底進(jìn)行蝕刻。
各種輻射敏感性樹脂組合物常規(guī)用于這種光刻法中。這種組合物的實(shí)例包括正型輻射敏感性組合物，其中，堿溶性酚醛清漆樹脂與含醌二疊氮化物基團(tuán)化合物的輻射敏感性組份組合(JP專利申請(qǐng)第120914/1995號(hào))，以及負(fù)型輻射敏感性組合物，其中，堿溶性酚醛清漆樹脂、烷氧基甲基化的蜜胺交聯(lián)劑和鹵代的三嗪酸生成劑相互組合(JP專利申請(qǐng)第303196/1993號(hào))。
借助于光致抗蝕劑對(duì)基底進(jìn)行精確蝕刻需要在抗蝕劑圖案與基底間有優(yōu)良的粘合。為了改善抗蝕劑圖案與基底間的粘附性，業(yè)已提出所謂的后烘烤步驟，其包括將顯影后獲得的光致抗蝕劑圖案進(jìn)行烘烤(熱處理)。作為一種所采用的材料，業(yè)已提出在輻射敏感性樹脂組合物中加入一種粘性改性劑。例如，將粘性改性劑如苯并咪唑、聚苯并咪唑等摻入正型光致抗蝕劑中(JP專利申請(qǐng)第27567/1994號(hào))，以及將苯并三唑摻入負(fù)型光致抗蝕劑中(JP專利申請(qǐng)第339087/1996號(hào))。
然而，正如公知的那樣，如果進(jìn)行后烘烤以改善抗蝕劑與基底間的粘性，則隨后對(duì)光致抗蝕劑的除去對(duì)負(fù)型光致抗蝕劑來(lái)說將很難。進(jìn)而，正型抗蝕劑通常是將其溶解于脫膜劑中而除去，而負(fù)型光致抗蝕劑通常會(huì)膨脹并不能溶解，只能通過剝離除去。但是，在剝離光致抗蝕劑時(shí)，會(huì)造成剝離的光致抗蝕劑片再次沉積于基底上引起圖案缺陷。此外，具有ITO層的基底會(huì)吸收空氣中的堿性組份如胺等，這使在光致抗蝕劑中通過曝光產(chǎn)生的酸失去活性，因此，引起在光致抗蝕劑與基底間的界面上存在圖案穿透。在此情形下，就要求光致抗蝕劑可形成優(yōu)良的抗蝕劑圖案，優(yōu)良的對(duì)基底的粘附性以及足夠高的可除去性以易于溶解于脫膜劑等中。
因此，本發(fā)明的目的是提供一種負(fù)型或正型含堿溶性樹脂的輻射敏感性樹脂組合物，這種組合物可在以下基底上形成劃痕腐蝕或無(wú)腳的優(yōu)異的抗蝕劑圖案所述基底為硅基底，具有金屬層的基底或具有金屬氧化物層的基底，這種基底即使在顯影后用于改善粘附性的熱處理后也可易于溶解于脫膜劑或用脫膜劑除去。
經(jīng)過深入研究，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，上述目的可以通過在含堿溶性樹脂組合物的輻射敏感性樹脂組合物中摻入一種如下的堿溶性樹脂作為堿溶性樹脂實(shí)現(xiàn)，所述堿溶性樹脂是通過采用通式(Ⅰ)表示的化合物作為一種單體組份(下面簡(jiǎn)稱為“苯胺改性樹脂”)，基于這一發(fā)現(xiàn)完成了本發(fā)明。
即，本發(fā)明是一種包含堿溶性樹脂的輻射敏感性樹脂組合物，其中，所述的堿溶性樹脂包含至少一種采用通式(Ⅰ)表示的化合物作為單體組份合成的堿溶性樹脂 其中，R代表羥基或1～4個(gè)碳原子的烷基，n為0或1～3的整數(shù)，當(dāng)n為2或3時(shí)，每一個(gè)R基團(tuán)可相同或不同。
作為用于本發(fā)明的苯胺改性樹脂，首選通過使式(Ⅰ)表示的化合物與苯酚以及與醛如甲醛進(jìn)行縮聚獲得的那些。以下，借助于通過這種縮聚獲得的含苯胺改性樹脂的輻射敏感性樹脂組合物更詳細(xì)地描述本發(fā)明。
作為構(gòu)成苯胺改性的樹脂的單體組份的通式(Ⅰ)的化合物，可以采用苯胺、2,3-二甲基苯胺、2,4-二甲基苯胺、2,5-二甲基苯胺、2,6-二甲基苯胺、3,4-二甲基苯胺、3,5-二甲基苯胺、2,6-二乙基苯胺、2,6-二異丙基苯胺、3,5-二叔丁基苯胺、2,4,6-三甲基苯胺、2,4,6-三叔丁基苯胺等。這些化合物可單獨(dú)使用或以兩種或多種的混合物使用。
作為上述縮聚樹脂的原料的酚，可采用常規(guī)用于形成堿溶性樹脂的那些酚。所述酚的具體實(shí)例苯酚、對(duì)甲酚、間甲酚、鄰甲酚、2,3-二甲基苯酚、2,4-二甲基苯酚、2,5-二甲基苯酚、2,6-二甲基苯酚、3,4-二甲基苯酚、3,5-二甲基苯酚、2,3,4-三甲基苯酚、2,3,5-三甲基苯酚、3,4,5-三甲基苯酚、2,4,5-三甲基苯酚、亞甲基雙酚、亞甲基雙對(duì)甲酚、間苯二酚、鄰苯二酚、2-甲基間苯二酚、4-甲基間苯二酚、鄰氯苯酚、間氯苯酚、對(duì)氯苯酚、2,3-二氯苯酚、間甲氧基苯酚、對(duì)甲氧基苯酚、對(duì)丁氧基苯酚、鄰乙基苯酚、間乙基苯酚、對(duì)乙基苯酚、2,3-二乙基苯酚、2,5-二乙基苯酚、對(duì)異丙基苯酚、α-萘酚、β-萘酚等。這些化合物可單獨(dú)使用或以兩種或多種的組合使用。
作為醛，可使用低聚甲醛、乙醛、苯甲醛、羥基苯甲醛和氯乙醛，以及甲醛，它們可單獨(dú)使用或以兩種或多種的混合物使用。
用于本發(fā)明的苯胺改性的縮聚樹脂易于在公知的酚醛清漆苯酚樹脂相同的方法獲得，即通過將酚化合物與醛化合物在酸催化劑存在下加熱而進(jìn)行反應(yīng)獲得。具體而言，本發(fā)明的苯胺改性的樹脂是這樣制備的將100重量份的酚化合物，通常0.1～60重量份的通式(Ⅰ)的化合物，10～20重量份的醛化合物及1～3重量份的草酸進(jìn)行混合，在反應(yīng)溫度為85～95℃下至少反應(yīng)4小時(shí)。
本發(fā)明的苯胺改性的樹脂其重均分子量為500～10,000，優(yōu)選1,000～5,000。
所獲得的苯胺改性的樹脂可單獨(dú)使用或與常規(guī)公知的苯胺改性的堿溶性樹脂或樹脂組合使用。作為公知的與苯胺改性的樹脂組合使用的堿溶性樹脂，優(yōu)選酚醛清漆樹脂，其可通過使至少一種上述酚化合物與至少一種醛化合物進(jìn)行縮聚獲得。在堿溶性樹脂中式(Ⅰ)化合物的含量?jī)?yōu)選為0.1～40wt％，更優(yōu)選1～30wt％。
本發(fā)明包含苯胺改性樹脂的輻射敏感性樹脂組合物可分成正型或負(fù)型。正性輻射敏感性樹脂組合物的典型實(shí)例為所謂的醌二疊氮化物-酚醛清漆型輻射敏感性樹脂組合物，其中，含醌二疊氮化物基團(tuán)的化合物作為光敏劑摻入。在這種醌二疊氮化物-酚醛清漆型輻射敏感性樹脂組合物中，上述通過縮聚獲得的苯胺改性的樹脂及必要時(shí)加入的公知的堿溶性樹脂或樹脂如用于醌二疊氮化物-酚醛清漆抗蝕劑中的酚醛清漆樹脂可用作堿溶性樹脂。
作為包含醌二疊氮化物基團(tuán)的輻射敏感性試劑，可采用任一種公知常規(guī)用于醌二疊氮化物-酚醛清漆抗蝕劑中的輻射敏感性試劑。優(yōu)選的輻射敏感性試劑為那些通過使萘并醌二疊氮化物磺酰氯或苯并醌二疊氮化物磺酰氯與具有能夠與酰氯進(jìn)行縮合反應(yīng)的官能團(tuán)的低分子或高分子化合物反應(yīng)獲得的那些。作為能夠與酰氯進(jìn)行縮合反應(yīng)的官能團(tuán)，可提及羥基和氨基，特別優(yōu)選羥基。能夠與含羥基的酸進(jìn)行縮合反應(yīng)的化合物的實(shí)例包括氫醌；間苯二酚；羥基二苯酮，如2,4-二羥基二苯酮、2,3,4-三羥基二苯酮、2,4,6-三羥基二苯酮、2,4,4′-三羥基二苯酮、2,3,4,4′-四羥基二苯酮、2,2′,4,4′-四羥基二苯酮、2,2′,3,4,6′-五羥基二苯酮等；羥基苯基烷烴，如雙(2,4-二羥基苯基)甲烷、雙(2,3,4-三羥基苯基)甲烷、雙(2,4-二羥基苯基)丙烷等；羥基三苯基甲烷，如4,4′,3″,4″-四羥基-3,5,3′,5′-四甲基苯基甲烷，4,4′,2″,3″,4″-五羥基-3,5,3′5′-四甲基三苯基甲烷等。這些化合物可單獨(dú)使用或以兩種或多種的組合使用。
以100重量份堿溶性樹脂計(jì)，含醌二疊氮化物基團(tuán)的輻射敏感性試劑的加入量通常為5～50重量份，優(yōu)選10～40重量份。
本發(fā)明的負(fù)型輻射敏感性樹脂組合物的典型實(shí)例為叔化學(xué)增強(qiáng)的負(fù)型抗蝕劑，其包含堿溶性堿性樹脂、交聯(lián)劑和產(chǎn)酸劑。
作為堿溶性堿性樹脂，可采用上述通過縮聚獲得的苯胺改性的樹脂以及目前在叔化學(xué)增強(qiáng)的負(fù)型抗蝕劑如酚醛清漆樹脂中選擇性地用作堿溶性堿性樹脂的那些。
作為用于化學(xué)增強(qiáng)的負(fù)型抗蝕劑的交聯(lián)劑，可使用任一種已用作化學(xué)增強(qiáng)的負(fù)型抗蝕劑的交聯(lián)劑。交聯(lián)劑的優(yōu)選實(shí)例包括烷氧基烷基化的三聚氰胺樹脂、烷氧基烷基化苯并三聚氰二胺樹脂、烷氧基烷基化脲樹脂等，以及三聚氰胺型、三聚氰二胺型和脲型低分子衍生物。烷氧基烷基化氨基樹脂的具體實(shí)例包括甲氧基甲基化的三聚氰胺樹脂、乙氧基甲基化的三聚氰胺樹脂、丙氧基甲基化的三聚氰胺樹脂、丁氧基甲基化的三聚氰胺樹脂、乙氧基甲基化的苯并三聚氰二胺樹脂、甲氧基甲基化的脲樹脂、乙氧基甲基化的脲樹脂、丙氧基甲基化的脲樹脂、丁氧基甲基化的脲樹脂等。三聚氰胺型、三聚氰二胺型和脲型低分子量衍生物包括甲氧基甲基化三聚氰胺、乙氧基甲基化三聚氰胺、丙氧基甲基化三聚氰胺、丁氧基甲基化三聚氰胺、六羥甲基三聚氰胺、乙酰三聚氰二胺、苯并三聚氰二胺、甲基化苯并三聚氰二胺、一羥甲基脲和二羥甲基脲。其中，特別優(yōu)選三聚氰胺型和三聚氰二胺型低分子衍生物、烷氧基烷基化苯并三聚氰二胺樹脂和烷氧基烷基化三聚氰胺樹脂。
這些交聯(lián)劑可以單獨(dú)使用或以兩種或多種的混合物使用，以100重量份堿溶性樹脂計(jì)，其用量通常為2～50重量份，優(yōu)選5～30重量份。
作為產(chǎn)酸劑，可提及的實(shí)例包括鎓鹽如碘鎓、锍鹽、重氮鹽、銨鹽、吡啶鎓鹽等；含鹵化合物如含鹵代烷基的烴化合物，含鹵代烷基的雜環(huán)化合物等；二氮雜酮化合物如1,3-二酮基-2-重氮化合物、重氮苯醌化合物、重氮萘醌化合物等；砜化合物如β-酮基砜、β-磺?；康?；磺酸化合物如烷基磺酸酯、鹵代烷基磺酸酯、芳基磺酸酯、亞氨基磺酸鹽等。這些產(chǎn)酸劑可以單獨(dú)使用或以兩種或多種的混合物使用，以100重量份堿溶性樹脂計(jì)，其用量通常為0.1～10重量份，優(yōu)選0.5～5.0重量份。
此外，堿性化合物也優(yōu)選作為添加劑摻入本發(fā)明的化學(xué)增強(qiáng)負(fù)型樹脂中。堿性化合物的作用是控制在曝光時(shí)由產(chǎn)酸劑產(chǎn)生的酸在抗蝕劑涂層中的擴(kuò)散、改善分辨率或曝光寬容度。堿性化合物包括伯、仲或叔脂族胺、芳族胺、雜環(huán)胺、包含烷基、芳基等的含氮化合物、包含酰氨基或酰亞氨基的化合物等。
用于溶解本發(fā)明的正型或負(fù)型輻射敏感性樹脂組合物的溶劑可以是乙二醇一烷基醚，如乙二醇一甲基醚、乙二醇一乙基醚等；乙二醇一烷基醚乙酸酯如乙二醇一甲基醚乙酸酯、乙二醇一乙基醚乙酸酯等；丙二醇一烷基醚，如丙二醇一甲基醚、丙二醇一乙基醚等；丙二醇一烷基醚乙酸酯如乙二醇一甲基醚乙酸酯、丙二醇一乙基醚乙酸酯等；乳酸酯，如乳酸甲酯、乳酸乙酯等；芳烴，如甲苯、二甲苯等；酮，如甲基乙基酮、2-庚酮、環(huán)己酮等；酰胺，如N,N-二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮等；內(nèi)酯如γ-丁內(nèi)酯等。這些溶劑可以單獨(dú)使用或以兩種或多種的混合物使用。
如果需要的話，在本發(fā)明的輻射敏感性樹脂組合物中還加入染料、粘性助劑、表面活性劑等。染料的實(shí)施例包括甲基紫、結(jié)晶紫、孔雀綠等；粘性助劑的實(shí)例包括烷基咪唑啉、丁酸、烷基酯、聚羥基苯乙烯、聚乙烯基甲基醚、叔丁基酚醛清漆、環(huán)氧硅烷、環(huán)氧聚合物、硅烷等。表面活性劑的實(shí)例包括非離子表面活性劑，如聚二醇和其衍生物，即聚丙二醚或聚氧乙烯月桂基醚，含氟表面活性劑如Fluorad(商品名，由Sumitomo 3M制造)，Megafac(商品名，由Dainippon Ink and Chemicals Inc.制造)，Surflon(商品名，由Asahi Glass Co.,Ltd.制造)，有機(jī)聚硅氧烷表面活性劑，如KP341(商品名，由Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd制造)。
本發(fā)明最佳實(shí)施例合成實(shí)施例1(合成苯胺改性的樹脂A)將20重量份的苯胺、45重量份的37wt％的甲醛和1.8重量份的草酸加至100重量份的甲酚(間甲酚/對(duì)甲酚=6/4)混合物中，將反應(yīng)混合物在90℃的反應(yīng)溫度下反應(yīng)4小時(shí)。這種苯胺改性的樹脂A的分子量為1,800，采用聚苯乙烯標(biāo)準(zhǔn)測(cè)定。
合成實(shí)施例2(合成苯胺改性的樹脂B)以與合成實(shí)施例1相同的方式，只是采用100重量份的鄰甲酚代替100重量份的甲酚混合物，制得苯胺改性的樹脂B。
實(shí)施例1～3將間和對(duì)甲酚酚醛清漆樹脂(間甲酚/對(duì)甲酚=6/4，重均分子量為10,000，采用聚苯乙烯標(biāo)準(zhǔn)測(cè)定)、2,3,4-三羥基二苯酮-o-萘醌-1,2-二疊氮-磺酸三酯作為輻射敏感性試劑以及在合成實(shí)施例1中獲得的苯胺改性的樹脂A溶解于丙二醇單甲基醚乙酸酯中，各成份的比較如表1所述，用特氟隆(Teflon)制成的0.2μm膜過濾器對(duì)形成的溶液進(jìn)行過濾，制成本發(fā)明的正型輻射敏感性組合物。
將該組合物旋涂于具有ITO層的4英寸的硅片上，在加熱板上于100℃下烘烤90秒獲得1.5μm厚的抗蝕劑涂層。采用g-線步進(jìn)機(jī)(由GCA Co.制造，DSW6400,NA=0.42)對(duì)抗蝕劑涂層進(jìn)行曝光，隨后在0.9wt％的氫氧化鉀水溶液中進(jìn)行顯影60秒，形成圖案。用鹽酸與氯化鐵的混合溶液以所形成的圖案作為掩模進(jìn)行蝕刻，從而在硅片上形成具有抗蝕劑的ITO圖案。確定蝕刻時(shí)間以使在基底上的無(wú)抗蝕劑的ITO層在浸入蝕刻溶液中時(shí)完全蝕刻，即，蝕刻時(shí)間剛好。在蝕刻過程中，在掃描電鏡(SEM)下觀察5μm線圖案的圖案形式。
通常，在顯影后的后烘烤用來(lái)改善對(duì)基底的粘附性。因此，在顯影后和蝕刻前于130℃下進(jìn)行3分鐘的后烘烤，隨后以與上述相同的方式進(jìn)行蝕刻過程，在SEM下觀察所形成的線圖案的圖案形式。獲得的結(jié)果示于表1中。從表1可以看出，苯胺改性的樹脂的加入其功效是在不進(jìn)行后烘烤和進(jìn)行后烘烤時(shí)均能減少或幾乎防止劃痕腐蝕，當(dāng)進(jìn)行后烘烤時(shí)可確保完全防止劃痕腐蝕。
比較例1重復(fù)實(shí)施例1的過程，只是不加入苯胺改性的樹脂，在蝕刻過程后，觀察圖案形式。所獲得的結(jié)果示于表1。當(dāng)在顯影后不進(jìn)行后烘烤時(shí)觀察到嚴(yán)重的劃痕腐蝕。而在顯影后進(jìn)行后烘烤的情況下，也不能完全防止劃痕腐蝕，雖然可減小至某種程度。
表1

○幾乎無(wú)劃痕腐蝕△劃痕腐蝕減少×有劃痕腐蝕實(shí)施例4～6采用實(shí)施例1～3獲得的光致抗蝕劑組合物以與實(shí)施例1～3相同的方式形成圖案。在圖案形成后，以與實(shí)施例1～3相同的方式采用圖案作為掩模進(jìn)行蝕刻。然后，采用浸漬法在35℃下用脫模劑100(由Clariant Japan K.K.制備)處理300秒以除去抗蝕劑。另外，在相同的脫除抗蝕劑處理前分別在130、150和170℃下再進(jìn)行后烘烤各5分鐘。獲得的結(jié)果列于表2中。在兩種情形下，通過溶解除去抗蝕劑涂層，即未進(jìn)行后烘烤的情形和在進(jìn)行顯影后于在130、150和170℃下再進(jìn)行后烘烤各5分鐘的情形。
比較例2以與比較例1相同的方式制備輻射敏感性樹脂組合物，并以相同的方式形成圖案。表2列出了通過進(jìn)行蝕刻及在不進(jìn)行后烘烤的脫除抗蝕劑的處理獲得的結(jié)果以及進(jìn)行蝕刻并以與實(shí)施例4相同的方式于130、150和170℃下進(jìn)行后烘烤后進(jìn)行脫除抗蝕劑處理獲得的結(jié)果。當(dāng)進(jìn)行后烘烤處理時(shí)，在預(yù)定的時(shí)間內(nèi)抗蝕劑不能除去，而進(jìn)行長(zhǎng)時(shí)間的脫除處理時(shí)，通過溶解不能除去抗蝕劑，只能通過剝離除去。
表2

○通過溶解可除去×通過溶解不能除去實(shí)施例7間、對(duì)甲酚酚醛清漆樹脂(間甲酚/對(duì)甲酚=6/4；100重量份重均分子量為4,000，采用聚苯乙烯標(biāo)準(zhǔn)測(cè)定)乙氧基甲基化的苯并三聚氰二胺樹脂 25重量份2,4,6-三(三氟甲基)-三嗪 3重量份合成實(shí)施例1獲得的苯胺改性的樹脂A 20重量份四丁基氫氧化銨0.5重量份將上述成份溶解于丙二醇單甲基醚乙酸酯中，用特氟隆制成的0.2μm膜過濾器過濾，制成負(fù)型輻射敏感性組合物。
將該組合物旋涂于具有ITO層的4英寸的硅片上，在加熱板上于100℃下烘烤90秒獲得1.5μm厚的抗蝕劑涂層。采用g-線步進(jìn)機(jī)(由GCA Co.制造，DSW6400,NA=0.42)對(duì)抗蝕劑涂層進(jìn)行曝光，然后在130℃下進(jìn)行后曝光(PEB)烘烤90秒，隨后在2.38wt％的四甲基氫氧化銨水溶液中進(jìn)行顯影60秒，形成圖案。用鹽酸與氯化鐵的混合溶液以所形成的圖案作為掩模進(jìn)行蝕刻，從而在硅片上形成具有抗蝕劑的ITO圖案。在掃描電鏡(SEM)下觀察5μm線圖案，在蝕刻前后，優(yōu)良圖案顯示形成幾乎無(wú)劃痕腐蝕。在顯影后于140℃下進(jìn)行3分鐘的后烘烤時(shí)，觀察到更好的圖案。
以后，將形成的圖案采用浸漬法于23℃下用脫模劑100(由Clariant Japan K.K.制備)處理60秒以除去抗蝕劑，從而通過溶解過程除去抗蝕劑。在顯影后在于140℃下進(jìn)行3分鐘后烘烤后進(jìn)行類似的脫除過程，通過溶解可脫除抗蝕劑涂層。
實(shí)施例8按照實(shí)施例7相同的方式制備輻射敏感性樹脂組合物，只是使用合成實(shí)施例2獲得的苯胺改性的樹脂B，進(jìn)行線圖案的形成、蝕刻并觀察在蝕刻前后的線圖案。
形成的圖案以與實(shí)施例7相同的方式進(jìn)行脫除處理以將形成的圖案溶解而除去。
當(dāng)在顯影后于140℃下進(jìn)行3分鐘的后烘烤處理時(shí)，抗蝕劑涂層也通過相同的脫除處理溶解除去。
比較例3按照實(shí)施例7相同的方式制備輻射敏感性樹脂組合物，只是不加入苯胺改性的樹脂。當(dāng)形成線圖案、蝕刻并觀察在蝕刻前后的線圖案時(shí)，觀察到嚴(yán)重的劃痕腐蝕。這種劃痕腐蝕不能通過進(jìn)行在顯影后如實(shí)施例7相同的方式進(jìn)行的后烘烤完全防止。
進(jìn)而，以與實(shí)施例7相同的方式通過脫除處理不能除去形成的線圖案。當(dāng)延長(zhǎng)脫除處理時(shí)間時(shí)，以剝離方式可除去抗蝕劑涂層，但留下不溶解的光致抗蝕劑殘余物漂浮物。
實(shí)施例7和8及比較例3的結(jié)果列于表3中。
表3

*1(蝕刻前)○無(wú)圖案粘著△圖案粘著減少×圖案粘著*2(蝕刻后)○無(wú)圖案粘著△圖案粘著減少×圖案粘著本發(fā)明效果本發(fā)明提供了能夠形成優(yōu)良圖案，特別是具有對(duì)基底高粘附性的輻射敏感性樹脂組合物，當(dāng)用脫膜劑處理時(shí)，通過溶解而非剝離即可易于除去。
工業(yè)實(shí)用性如上所述，本發(fā)明的輻射敏感性樹脂組合物優(yōu)選在生產(chǎn)半導(dǎo)體裝置或液晶顯示器中用作蝕刻抗蝕劑等。
權(quán)利要求
1．一種包含堿溶性樹脂的輻射敏感性樹脂組合物，其中，所述的堿溶性樹脂包含至少一種采用通式(Ⅰ)表示的化合物作為單體組份合成的堿溶性樹脂 其中，R代表羥基或1～4個(gè)碳原子的烷基，n為0或1～3的整數(shù)，當(dāng)n為2或3時(shí)，每一個(gè)R基團(tuán)可相同或不同。
2．根據(jù)權(quán)利要求1的輻射敏感性樹脂組合物，其中，堿溶性樹脂包含一種通過使通式(Ⅰ)表示的化合物與苯酚以及醛如甲醛進(jìn)行縮聚獲得的堿溶性樹脂。
3．根據(jù)權(quán)利要求1的輻射敏感性樹脂組合物，其中，以堿溶性樹脂的總重量計(jì)，由通式(Ⅰ)表示的化合物的含量為0.1～40wt％。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種包含堿溶性樹脂的輻射敏感性樹脂組合物,例如酚醛清漆－醌二疊氮化物正型輻射敏感性樹脂組合物和化學(xué)增強(qiáng)的負(fù)型樹脂組合物,其中,堿溶性樹脂包含至少一種堿溶性樹脂,該堿溶性樹脂是通過使通式(I)表示的化合物與苯酚以及必要時(shí)與醛進(jìn)行縮聚獲得的。其中,R代表羥基或1—4個(gè)碳原子的烷基,n為0或1～3的整數(shù),當(dāng)n為2或3時(shí),每一個(gè)R基團(tuán)可相同或不同。
文檔編號(hào)G03F7/023GK1288529SQ99802048
公開日2001年3月21日 申請(qǐng)日期1999年11月1日 優(yōu)先權(quán)日1998年11月9日
發(fā)明者小林聰, 鹽田英和, 伊藤晴彥 申請(qǐng)人:克拉瑞特國(guó)際有限公司