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一種陰圖免處理平印版的制作方法

文檔序號:8411620閱讀:479來源:國知局
一種陰圖免處理平印版的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種平印版前提及印刷方法,具體涉及一種陰圖免處理平印版及免處 理平印版在印刷機(jī)上的印刷方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 在印刷工業(yè)中平印版的制備過程為業(yè)界人士所熟知。平印版的制版過程至少需要 兩步來完成,一是將涂布了感光組合物的印版通過蒙片(如,正片型和負(fù)片型蒙片)在特定 的光源下曝光,由此而形成一個(gè)光影像潛影;二是把上面曝光之后的印版進(jìn)行一個(gè)所謂的 后續(xù)的顯影步驟,通過這個(gè)過程,除去多余的涂層。預(yù)涂感光平版是以鋁或聚酯為支持體的 片狀材料,并且能通過上述兩個(gè)步驟制得同時(shí)具有親油和親水性的表面,適合于平版印刷。 通常,在一個(gè)負(fù)片型系統(tǒng)中,曝光部位由于涂層的聚合或交聯(lián)發(fā)生變化,變成顯影液不溶或 難溶,從而可以在顯影步驟中將印版未曝光部位的涂層除去。反之,在一個(gè)正片型系統(tǒng)中, 顯影步驟是將印版曝光部位的材料除去。顯影步驟通常包括用顯影劑漂洗和洗滌,通常在 一個(gè)含有顯影劑的處理單元中進(jìn)行顯影。陽圖型平印版所用的顯影劑通常是強(qiáng)堿,陰圖型 顯影液中除強(qiáng)堿外通常還含有有機(jī)溶劑,如苯甲醇等。當(dāng)然,光影像的顯影也有用加熱方法 或其它方式來完成的。上述的兩種(即濕和熱)顯影過程的缺點(diǎn)是耗時(shí)、成本很高。而且, 當(dāng)采用揮發(fā)性有機(jī)物或強(qiáng)堿作為顯影劑時(shí),這些廢液的處理將帶來環(huán)境問題。
[0003] 針對這種需求,作為簡單的制版方法之一,提出了一種稱作機(jī)上顯影的方法,它是 一種使用能夠在普通印刷過程中除去平版印刷版原版的非圖像部分的圖像記錄層,并且除 去印刷機(jī)上曝光后的非圖像部分以獲得平版印刷版的方法。作為機(jī)上顯影的具體實(shí)例,例 如有使用具有在例如潤濕液、油墨溶劑或者潤濕液和油墨的乳化產(chǎn)物中可溶的圖像記錄層 的平版印刷版原版的方法;通過與印刷機(jī)輥和橡皮布接觸機(jī)械除去圖像記錄層的方法;以 及在通過潤濕液和油墨溶劑的滲透減弱圖像記錄層的內(nèi)聚強(qiáng)度或者圖像記錄層與載體的 粘附強(qiáng)度后與輥和橡皮布接觸機(jī)械除去圖像記錄層的方法。
[0004] 近年來,用計(jì)算機(jī)電子處理圖像數(shù)據(jù)、累積和輸出的數(shù)字化技術(shù)盛行,并且許多與 這些數(shù)字化技術(shù)相應(yīng)的新型圖像輸出系統(tǒng)己經(jīng)付諸實(shí)際使用。在此情況下,直接制造平版 印刷版的計(jì)算機(jī)直接制版技術(shù)正吸引著公眾的注意,該技術(shù)包括用攜帶數(shù)字化圖像數(shù)據(jù)的 高度聚焦的射線(例如激光束)掃描曝光平版印刷版而不使用里斯軟片。在這種趨勢下, 獲得良好適應(yīng)該技術(shù)的平版印刷版原版是一個(gè)重要的技術(shù)課題。
[0005] 如上所述,從全球環(huán)境保護(hù)和適應(yīng)數(shù)字化兩個(gè)方面來說,最近幾年己經(jīng)越來越需 要簡化制版操作以及實(shí)現(xiàn)干式操作系統(tǒng)和非處理系統(tǒng)。因?yàn)楝F(xiàn)在可以便宜地獲得高功率激 光器例如半導(dǎo)體激光器和發(fā)射波長從760-1,200nm的紅外射線激光器,作為通過掃描曝光 能夠容易地引入數(shù)字化技術(shù)中的制造平版印刷版的方法,使用這些高功率激光器作為圖像 記錄光源的方法現(xiàn)在是越來與普及。例如,使用經(jīng)高功率激光器曝光而不溶或者可溶的圖 像記錄層,通過機(jī)上顯影來進(jìn)行制版過程,并且使曝光的圖像記錄層形成平版印刷版圖像, 在曝光后即使暴露于室光下也不影響圖像的印刷系統(tǒng)成為可能。
[0006] JP2938397公開了一種平版印刷版原版,在所述親水性載體上提供含有分散在親 水性粘合劑中的疏水性熱塑性聚合物顆粒的成像層。平版印刷版原版的印刷版可以根據(jù)機(jī) 上顯影方法,通過用紅外激光曝光平版印刷版原版,由熱熔化融合疏水熱塑性聚合物顆粒 從而成像,將印刷版原版安裝到印刷機(jī)的機(jī)筒上,并且供給潤濕液和/或油墨來制造。如上 所述僅由熱熔化融合聚合物細(xì)顆粒來成像的方法表現(xiàn)出良好的機(jī)上顯影性質(zhì),但是圖像強(qiáng) 度非常弱并且印版耐印力不足。
[0007] 作為改進(jìn)這種能夠機(jī)上顯影的平版印刷版原版的印版耐印力的一個(gè)例子, JP2001277740和JP2001277742公開了一種在包含親水性載體,并在其上提供含有微膠囊 的熱敏層的平版印刷版原版,所述微膠囊含有具有加熱時(shí)反應(yīng)的官能團(tuán)的化合物,其中所 述熱敏層或其鄰近層包含紅外吸收劑。
[0008] 作為改進(jìn)印版耐印力的另一種技術(shù),JP2002287334公開了一種能夠機(jī)上顯影的平 版印刷版原版,其包含其上提供有光敏層的,該光敏層含有紅外吸收劑、自由基聚合引發(fā)劑 和可聚合化合物。根據(jù)這種使用例如上述聚合反應(yīng)的反應(yīng)的方法,與通過聚合物細(xì)顆粒熔 化形成的圖像部分相比,因?yàn)閳D像部分處化學(xué)鍵合的高密度而可以增大圖像強(qiáng)度。但是,從 機(jī)上顯影性質(zhì)與細(xì)線再現(xiàn)性的相容性及印版耐印力來看,該方法仍是不足的。
[0009] W02006080107公開了一種能夠機(jī)上顯影的平版印刷版原版,其所述圖像記錄層 含紅外吸收劑、聚合引發(fā)劑及可聚合化合物,特征在于圖像層的未曝光部分是通過脫落而 不是溶解在印刷油墨和/或潤濕液中而被除去。這種方法雖然達(dá)到了機(jī)上顯影性與潤版液 污染的較好平衡,耐印力也有一定的提高,但與長印程的要求相比耐印力還是遠(yuǎn)遠(yuǎn)不夠。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0010] 本發(fā)明的目的在于提供一種免處理平印版和這種平印版的印刷方法,這種免處理 平印版在用紅外激光掃描曝光后,可以不經(jīng)過任何沖洗加工步驟直接安裝版到印刷機(jī)上進(jìn) 行印刷。本發(fā)明免處理平印版和印刷方法,克服了以上所述各種方法制得的免處理平印版 的耐印力不足的缺點(diǎn),在保證高質(zhì)量網(wǎng)點(diǎn)的同時(shí)實(shí)現(xiàn)了高耐印力,并能減少開機(jī)時(shí)的過版 紙數(shù)。
[0011] 本發(fā)明的目的可通過以下措施來實(shí)現(xiàn):
[0012] 一種陰圖免處理平印版,包含版基,和版基之上的成像層,其包含(1)聚合物粘結(jié) 劑;(2)成像曝光時(shí)能夠引發(fā)聚合/交聯(lián)的引發(fā)體系;(3)可聚合/交聯(lián)的組分,包含納米 SiO2/聚氨酯丙烯酸預(yù)聚物和置于成像層之上的保護(hù)層。
[0013] 其中納米SiO2/聚氨酯丙烯酸預(yù)聚物是由納米SiO2和異佛爾酮二異氰酸酯 (IPDI)、聚丙二醇(PPG)以及丙烯酸羥乙酯(HEA)經(jīng)過原位聚合得到的納米SiO 2/聚氨酯 丙烯酸酯預(yù)聚物。納米SiO2含有表面羥基,其平均粒徑在IO-IOOnm之間,最優(yōu)在30-60nm 之間。納米SiO2/聚氨酯丙烯酸預(yù)聚物中納米SiO2的質(zhì)量百分比為0. 5-5%,最優(yōu)百分比為 1-3% 〇
[0014] 其中聚合物粘合劑有如下結(jié)構(gòu)(A):
[0015]
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種陰圖免處理平印版,包含版基、版基之上的成像層和成像層之上的保護(hù)層,其特 征在于:所述成像層包含聚合物粘結(jié)劑、成像曝光時(shí)能夠引發(fā)聚合/交聯(lián)的引發(fā)體系以及 可聚合/交聯(lián)的組分,聚合/交聯(lián)的組分包含納米SiO 2/聚氨酯丙烯酸預(yù)聚物。
2. 權(quán)利要求1所述的陰圖免處理平印版,其特征在于:納米SiO2/聚氨酯丙烯酸預(yù)聚物 是由納米SiO 2和異佛爾酮二異氰酸酯、聚丙二醇以及丙烯酸羥乙酯經(jīng)過原位聚合得到的納 米SiO2/聚氨酯丙烯酸酯預(yù)聚物,占成像層中固體總重量的10 - 50%。
3. 權(quán)利要求1所述的陰圖免處理平印版,其特征在于:其中納米SiO2含有表面羥基。
4. 權(quán)利要求1所述的陰圖免處理平印版,其特征在于:其中納米SiO2的平均粒徑在 IO-IOOnm 之間。
5. 權(quán)利要求1所述的陰圖免處理平印版,其特征在于:其中納米SiO2/聚氨酯丙烯酸預(yù) 聚物中納米SiO 2的質(zhì)量百分比為0. 5-5%。
6. 權(quán)利要求1所述的陰圖免處理平印版,其特征在于:其中聚合物粘合劑有如下結(jié)構(gòu) (A):
占成像層中固體總重量的10 - 50%。
7. 權(quán)利要求6所述的陰圖免處理平印版,其特征在于:其中成像曝光時(shí)能夠引發(fā)聚合/ 交聯(lián)的引發(fā)體系含有成像曝光時(shí)能產(chǎn)生足以引發(fā)聚合反應(yīng)的自由基引發(fā)劑,占成像層中固 體總重量的1 一 10%。
8. 權(quán)利要求7所述的陰圖免處理平印版,其特征在于:其中成像曝光時(shí)能夠引發(fā)聚合 /受聯(lián)的引發(fā)體系還含有選自鵬鐵鹽、硫鐵鹽、憐鐵鹽、砸鐵鹽中的一種或多種,占成像層中 固體總重量的1 一 10%。
9. 權(quán)利要求8所述的陰圖免處理平印版,其特征在于:其中成像曝光時(shí)能夠引發(fā)聚合 /交聯(lián)的引發(fā)體系還含有一種吸收在750-850nm的菁染料,占成像層中固體總重量的1 一 20%。
10. 權(quán)利要求9所述的陰圖免處理平印版,其特征在于:其中保護(hù)層含有聚乙烯醇和含 氟非離子型表面活性劑。
11. 權(quán)利要求10所述的陰圖免處理平印版,其特征在于:其中保護(hù)層重〇. 2-2. Og/m2。
12. 權(quán)利要求1 一 11中任一項(xiàng)所述的陰圖免處理平印版,其特征在于:其中平印版 的支持體是經(jīng)過電解粗化和陽極氧化并進(jìn)行封孔處理的鋁版基,其中心線平均粗度在〇. 4-0. 5 μ m〇
13. 權(quán)利要求12所述的陰圖免處理平印版,其特征在于:其中平印版的版基封孔處理 使用的溶液是含有氟離子和磷酸鹽的水溶液。
【專利摘要】一種陰圖免處理平印版,包含版基、版基之上的成像層和成像層之上的保護(hù)層,所述成像層包含聚合物粘結(jié)劑、成像曝光時(shí)能夠引發(fā)聚合/交聯(lián)的引發(fā)體系以及可聚合/交聯(lián)的組分,聚合/交聯(lián)的組分包含納米SiO2/聚氨酯丙烯酸預(yù)聚物。這種免處理平印版在用紅外激光掃描曝光后,可以不經(jīng)過任何沖洗加工步驟直接安裝版到印刷機(jī)上進(jìn)行印刷。本發(fā)明免處理平印版和印刷方法,克服了各種方法制得的免處理平印版的耐印力不足的缺點(diǎn),在保證高質(zhì)量網(wǎng)點(diǎn)的同時(shí)實(shí)現(xiàn)了高耐印力,并能減少開機(jī)時(shí)的過版紙數(shù)。
【IPC分類】G03F7-033, G03F7-004, G03F7-09
【公開號】CN104730865
【申請?zhí)枴緾N201310710843
【發(fā)明人】楊青海, 張剛, 宋小偉, 吳兆陽, 黃文明, 劉東黎, 吳俊君, 劉紅來
【申請人】樂凱華光印刷科技有限公司
【公開日】2015年6月24日
【申請日】2013年12月19日
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