1、副間隔部402。主間隔部401包括主間隔區(qū)410及挖空區(qū)411，挖空區(qū)411設(shè)置在對應(yīng)的TFT 201的溝道區(qū)213上，以避免TFT 201的溝道區(qū)
[0031]213通過主間隔區(qū)410受到壓力。副間隔部402位于主間隔部401的挖空區(qū)411。
[0032]其中，副間隔部402的尚度小于主間隔部401的尚度，以使得在液晶顯不面板受到壓力時(shí)，主間隔部401能起主要承受壓力的作用，且當(dāng)壓力大到一定程度，副間隔部402能起到輔助承受壓力的作用，從而使得TFT201的溝道區(qū)213受到的壓力較小，避免了 TFT 201產(chǎn)生漏電，從而造成液晶顯示面板顯示不均勻的風(fēng)險(xiǎn)。
[0033]在本發(fā)明實(shí)施例中，副間隔部402的高度與主間隔部401的高度差d為0.35微米，以更好的平衡間隔物40的承壓能力及TFT 201的溝道區(qū)213的受壓大小。當(dāng)然本發(fā)明并不以此為限。
[0034]在本發(fā)明實(shí)施例中，副間隔部402與主間隔區(qū)410之間設(shè)置有空隙，也就是說，副間隔部402與主間隔區(qū)410不接觸，以更大程度的減小外部壓力對TFT的溝道區(qū)的影響。當(dāng)然本發(fā)明并不以此為限。
[0035]在本發(fā)明實(shí)施例中，主間隔部401為與副間隔部402形狀相同的空心結(jié)構(gòu)，也就是說，若副間隔部402為圓柱體，則主間隔部401為空心圓柱體，若副間隔部402為正棱柱體例如正八棱柱體，則主間隔部401為空心正八棱柱體。當(dāng)然本發(fā)明并不以此為限。
[0036]圖5為本發(fā)明實(shí)施例形成如圖4所示的間隔物的剖面結(jié)構(gòu)的流程示意圖。如圖5所示，形成間隔物包括如下步驟:
[0037]步驟S51:利用鍍膜工序在下基板20上形成間隔膜40a，并在間隔膜40a上涂布光阻層50。
[0038]在本發(fā)明實(shí)施例中，光阻層50由正向光阻材料(positive photoresist)組成，也就是說，光阻層50中照到光的部分會溶于光阻顯影液，而沒有照到光的部分不會溶于光阻顯影液。當(dāng)然本發(fā)明并不以此為限。
[0039]步驟S52:以第一道光罩圖案60a對間隔膜40a上的光阻層50進(jìn)行曝光顯影，以形成第一光阻層圖案50a。
[0040]步驟S53:以形成的第一光阻層50a為遮罩對間隔膜40a進(jìn)行蝕刻，以形成圖案化的第一間隔膜40b。
[0041]步驟S54:以第二道光罩圖案60b對圖案化的第一間隔膜40b上的第一光阻層50a進(jìn)行曝光顯影，以形成第二光阻層50b圖案，并以第二光阻層50b為遮罩對第一間隔膜40b進(jìn)行蝕刻，以形成圖案化的第二間隔膜40c。
[0042]在本發(fā)明一實(shí)施方式中，以第二道光罩圖案60b對圖案化的第一間隔膜40b上的第一光阻層50a進(jìn)行曝光顯影，以僅僅保留下基板20中對應(yīng)TFT位置的第一間隔膜40b，且根據(jù)曝光量或曝光時(shí)間的控制將下基板20中對應(yīng)TFT位置的部分第一間隔膜40b進(jìn)行曝光，以形成具有凹槽的第二間隔膜40c。
[0043]步驟S55:以第三道光罩圖案60c對圖案化的第二間隔膜40c上的圖案化的第二光阻層50b進(jìn)行曝光顯影，以形成第三光阻層圖案50c及圖案化的第三間隔膜40d。
[0044]步驟S56:去除涂布的第三光阻層50c。
[0045]其中，第三間隔膜40d包括主間隔部401、副間隔部402。主間隔部401包括主間隔區(qū)410及挖空區(qū)411，副間隔部402位于主間隔部401的挖空區(qū)411。
[0046]本發(fā)明的液晶顯示面板及其形成方法的主間隔部401的挖空區(qū)411設(shè)置在對應(yīng)的TFT 201的溝道區(qū)213上，副間隔部位402于主間隔部401的挖空區(qū)411，副間隔部402的高度小于主間隔部401的高度，因此，在有壓力垂直于液晶顯示面板時(shí)，主間隔部401的主間隔區(qū)410承受主要壓力，使得TFT 201的溝道區(qū)213受到的壓力較小，避免了 TFT 201產(chǎn)生漏電，從而造成液晶顯示面板顯示不均勾的風(fēng)險(xiǎn)。
[0047]以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非對本發(fā)明作任何形式上的限制，雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動或修飾為等同變化的等效實(shí)施例，但凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對以上實(shí)施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種液晶顯示面板，其特征在于，包括: 上基板； 下基板，所述下基板與所述上基板相對設(shè)置，所述下基板朝向所述上基板的表面上設(shè)置有多個(gè)TFT，每個(gè)TFT均包括溝道區(qū)；及 多個(gè)間隔物，用于在所述上基板與所述下基板之間形成間隔，每個(gè)間隔物均設(shè)置在對應(yīng)的TFT上，每個(gè)間隔物均包括: 主間隔部，包括主間隔區(qū)及挖空區(qū)，所述挖空區(qū)設(shè)置在對應(yīng)的TFT的溝道區(qū)上；及副間隔部，所述副間隔部位于所述主間隔部的挖空區(qū)，所述副間隔部的高度小于所述主間隔部的高度。
2.如權(quán)利要求1所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述副間隔部的高度與所述主間隔部的高度相差0.35微米。
3.如權(quán)利要求1所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述副間隔部與所述主間隔區(qū)之間設(shè)置有空隙。
4.如權(quán)利要求1所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述主間隔部為與所述副間隔部形狀相同的空心結(jié)構(gòu)。
5.如權(quán)利要求4所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述副間隔部為圓柱體或正棱柱
6.一種液晶顯示面板的形成方法，其特征在于，所述液晶顯示面板的形成方法包括: 形成上基板； 形成包括多個(gè)TFT的下基板；及 形成多個(gè)間隔物； 其中，每個(gè)TFT均包括溝道區(qū)，每個(gè)間隔物均設(shè)置在對應(yīng)TFT上，每個(gè)間隔物均包括:主間隔部，包括主間隔區(qū)及挖空區(qū)，所述挖空區(qū)設(shè)置在對應(yīng)的TFT的溝道區(qū)上；及副間隔部，所述副間隔部位于所述主間隔部的挖空區(qū)，所述副間隔部的高度小于所述主間隔部的高度。
7.如權(quán)利要求6所述的液晶顯示面板的形成方法，其特征在于，所述形成多個(gè)間隔物的步驟包括: 利用鍍膜工序在下基板上形成間隔膜，并在間隔膜上涂布光阻層； 以第一道光罩圖案對間隔膜上的光阻層進(jìn)行曝光顯影，以形成第一光阻層圖案； 以形成的第一光阻層為遮罩對間隔膜進(jìn)行蝕刻，以形成圖案化的第一間隔膜； 并以第二道光罩圖案對圖案化的第一間隔膜上的第一光阻層進(jìn)行曝光顯影，以形成第二光阻層圖案，并以第二光阻層為遮罩對第一間隔膜進(jìn)行蝕刻，以形成圖案化的第二間隔膜； 以第三道光罩圖案對圖案化的第二間隔膜上的圖案化的第二光阻層進(jìn)行曝光顯影，以形成第三光阻層圖案及圖案化的第三間隔膜；及去除涂布的第三光阻層。
8.如權(quán)利要求6所述的液晶顯示面板的形成方法，其特征在于，所述副間隔部的高度與所述主間隔部的高度相差0.35微米。
9.如權(quán)利要求6所述的液晶顯示面板的形成方法，其特征在于，所述主間隔部為與所述副間隔部形狀相同的空心結(jié)構(gòu)。
10.如權(quán)利要求9所述的液晶顯示面板的形成方法，其特征在于，所述副間隔部為圓柱體或正棱柱體。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種液晶顯示面板，其下基板上設(shè)置多個(gè)TFT，每個(gè)TFT包括溝道區(qū)。每個(gè)間隔物設(shè)置在對應(yīng)TFT上，其包括主間隔部、副間隔部。主間隔部包括主間隔區(qū)及挖空區(qū)，所述挖空區(qū)設(shè)置在對應(yīng)TFT的溝道區(qū)上。副間隔部位于主間隔部的挖空區(qū)，副間隔部在下基板的垂直方向上的高度小于主間隔部在下基板的垂直方向上的高度。本發(fā)明還提供一種液晶顯示面板的形成方法。本發(fā)明的液晶顯示面板及形成方法的主間隔部挖空區(qū)設(shè)置在對應(yīng)TFT的溝道區(qū)上，副間隔部位于主間隔部的挖空區(qū)，副間隔部在下基板垂直方向上的高度小于主間隔部在下基板的垂直方向上的高度，當(dāng)液晶面板受壓時(shí)，主間隔部的主間隔區(qū)承受主要壓力，使得TFT的溝道區(qū)受壓變小，從而避免漏電產(chǎn)生。
【IPC分類】G02F1-1339, G02F1-1333
【公開號】CN104793402
【申請?zhí)枴緾N201510158332
【發(fā)明人】杜鳴菲, 陳杰
【申請人】昆山龍騰光電有限公司
【公開日】2015年7月22日
【申請日】2015年4月3日