個第二開口，使該至少一個第二開口與第二信號線在公共電極所在面上的正投影有重疊部分。
[0098]例如，在該制作方法中，可以通過與形成公共電極的構圖工藝不同的構圖工藝形成像素電極，在這種情況下，像素電極可以位于公共電極之上或者位于公共電極之下。例如，該陣列基板可以采用ADS模式。
[0099]或者，例如，形成公共電極還可以包括形成像素電極。在這種情況下，公共電極可以包括多個條狀子公共電極，像素電極可以包括多個條狀子像素電極，條狀子公共電極與條狀子像素電極交替設置，即，該陣列基板采用IPS模式。
[0100]下面結合圖3a所示的ADS模式陣列基板對本實施例提供的制作方法進行詳細說明。例如，該制作方法可以包括以下步驟71至步驟78。
[0101]步驟71:通過第一次構圖工藝，在襯底基板上形成柵極11以及柵線(圖3a中未示出柵線)。
[0102]步驟72:通過第二次構圖工藝，形成覆蓋柵極11和柵線的柵絕緣層12。
[0103]步驟73:通過第三次構圖工藝，在柵絕緣層12上形成有源層14。
[0104]步驟74:通過第四次構圖工藝，形成位于有源層14上并且與其接觸的源極13a和漏極13b，以及數(shù)據(jù)線13c。
[0105]步驟75:通過第五次構圖工藝，形成覆蓋源極13a、漏極13b和數(shù)據(jù)線13c的第一絕緣層20，以及位于第一絕緣層20中的第一絕緣層過孔21。
[0106]步驟76:通過第六次構圖工藝，在第一絕緣層20上形成公共電極30、位于公共電極30中且與數(shù)據(jù)線13c垂直的至少一個第一開口 31以及與公共電極30連接的公共電極線。
[0107]步驟77:通過第七次構圖工藝，在公共電極30上形成第二絕緣層40以及位于第二絕緣層40中的第二絕緣層過孔41，第二絕緣層過孔41與第一絕緣層過孔21連通。
[0108]步驟78:通過第八次構圖工藝，在第二絕緣層40上形成像素電極50，使像素電極50通過上述步驟75和77中形成的第一絕緣層過孔21和第二絕緣層過孔41與薄膜晶體管10的漏極13b連接。
[0109]上述步驟以公共電極和公共電極線同層設置為例進行說明。當然，公共電極和公共電極線也可以異層設置。例如，公共電極線也可以在步驟71中與柵線同時形成，在這種情況下，步驟76中形成的公共電極可以通過第一絕緣層20中的過孔與公共電極線連接。
[0110]本實施例提供的陣列基板的制作方法中，陣列基板中的第一信號線、第二信號線、第一開口、第二開口等可參考實施例一至實施例五中的相關描述，重復之處不再贅述。
[0111]以上所述僅是本發(fā)明的示范性實施方式，而非用于限制本發(fā)明的保護范圍，本發(fā)明的保護范圍由所附的權利要求確定。
【主權項】
1.一種陣列基板，包括: 沿第一方向延伸的第一信號線，其中，所述第一信號線為柵線或數(shù)據(jù)線；以及 公共電極，位于所述第一信號線之上，其中，所述公共電極中設置有至少一個第一開口，所述至少一個第一開口與所述第一信號線在所述公共電極所在面上的正投影有重疊部分；并且，所述公共電極包括與所述第一信號線的所述正投影部分重疊的第一部分以及位于所述第一信號線的所述正投影之外的第二部分，所述第二部分與所述第一部分連接且同層設置。2.如權利要求1所述的陣列基板，其中，所述第一開口為封閉式開口。3.如權利要求1所述的陣列基板，其中，所述公共電極中設置有多個所述第一開口。4.如權利要求1至3任一項所述的陣列基板，其中，所述第一開口包括至少一個沿所述第一方向延伸的邊緣，所述邊緣為折線形或波浪形。5.如權利要求1至3任一項所述的陣列基板，其中，所述第一開口沿所述第一方向的尺寸小于或等于所述第一開口沿與所述第一方向垂直的方向的尺寸。6.如權利要求1至3任一項所述的陣列基板，其中，所述第一開口的沿所述公共電極所在面上的形狀包括多邊形、圓形或橢圓形。7.如權利要求1至3任一項所述的陣列基板，其中， 所述第一開口相對于所述第一信號線軸對稱。8.如權利要求1至3任一項所述的陣列基板，還包括: 沿第二方向延伸的第二信號線，其中，所述第二方向與所述第一方向相交，所述公共電極中還設置有至少一個第二開口，所述至少一個第二開口與所述第二信號線在所述公共電極所在面上的正投影有重疊部分。9.如權利要求8所述的陣列基板，其中， 所述第一信號線為所述柵線，所述第二信號線為所述數(shù)據(jù)線；或者 所述第一信號線為所述數(shù)據(jù)線，所述第二信號線為所述柵線。10.如權利要求1至3任一項所述的陣列基板，還包括:像素電極，其中， 所述像素電極與所述公共電極同層設置，所述公共電極包括多個條狀子公共電極，所述像素電極包括多個條狀子像素電極，所述條狀子公共電極與所述條狀子像素電極交替設置；或者 所述像素電極與所述公共電極異層設置，所述像素電極位于所述公共電極之上或者位于所述公共電極之下。11.如權利要求1至3任一項所述的陣列基板，還包括:彩色濾光層，其中，所述彩色濾光層包括多列濾光圖案，每列所述濾光圖案沿所述第一方向排列，同一列所述濾光圖案的顏色相同或不同，所述濾光圖案中與所述第一信號線相鄰且位于所述第一信號線兩側的兩列濾光圖案中位置對應的濾光圖案具有不同的顏色。12.如權利要求1-3任一項所述的陣列基板，其中，所述公共電極還包括位于所述第一信號線的所述正投影之外的第三部分，所述第三部分與所述第一部分連接且同層設置，并且所述第三部分和所述第二部分分別位于所述第一部分的相對的兩側。13.—種顯示裝置，包括如權利要求1至12任一項所述的陣列基板。14.如權利要求13所述的顯示裝置，還包括:彩色濾光層，其中，所述彩色濾光層包括多列濾光圖案，每列所述濾光圖案沿所述第一方向排列，同一列所述濾光圖案的顏色相同或不同，所述濾光圖案中與所述第一信號線相鄰且位于所述第一信號線兩側的兩列濾光圖案中位置對應的濾光圖案具有不同的顏色。15.—種陣列基板的制作方法，包括: 形成沿第一方向延伸的第一信號線，其中，所述第一信號線為柵線或數(shù)據(jù)線；以及 通過一次構圖工藝形成位于所述第一信號線之上的公共電極以及設置于所述公共電極中的至少一個第一開口，其中，所述至少一個第一開口與所述第一信號線在所述公共電極所在面上的正投影有重疊部分；并且，所述公共電極包括與所述第一信號線的所述正投影部分重疊的第一部分以及位于所述第一信號線的所述正投影之外的第二部分，所述第二部分與所述第一部分連接且同層設置。16.如權利要求15所述的制作方法，其中， 形成所述公共電極還包括形成像素電極，其中，所述公共電極包括多個條狀子公共電極，所述像素電極包括多個條狀子像素電極，所述條狀子公共電極與所述條狀子像素電極交替設置；或者 通過一次構圖工藝形成像素電極，其中，所述像素電極位于所述公共電極之上或者位于所述公共電極之下。17.如權利要求15或16所述的制作方法，還包括: 在形成所述第一信號線之前或之后，形成沿第二方向延伸的第二信號線，其中，所述第二方向與所述第一方向相交； 形成所述公共電極還包括形成設置于所述公共電極中的至少一個第二開口，其中，所述至少一個第二開口與所述第二信號線在所述公共電極所在面上的正投影有重疊部分。
【專利摘要】一種陣列基板及其制作方法和顯示裝置，該陣列基板包括沿第一方向延伸的第一信號線、以及公共電極；所述第一信號線為柵線或數(shù)據(jù)線；所述公共電極位于所述第一信號線之上，所述公共電極中設置有至少一個第一開口，所述至少一個第一開口與所述第一信號線在所述公共電極所在面上的正投影有重疊部分；并且，所述公共電極包括與所述第一信號線的所述正投影部分重疊的第一部分以及位于所述第一信號線的所述正投影之外的第二部分，所述第二部分與所述第一部分連接且同層設置。該陣列基板可減輕對位等因素造成的數(shù)據(jù)線或柵線兩側串色不良。
【IPC分類】G02F1/1362, G02F1/1335, G02F1/1343
【公開號】CN104898335
【申請?zhí)枴緾N201510400851
【發(fā)明人】姜文博, 韓帥, 王世君, 呂振華
【申請人】京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方光電科技有限公司
【公開日】2015年9月9日
【申請日】2015年7月9日