如苯乙烯-丁二烯橡膠，SBR)、聚 乙烯醚感壓粘劑、環(huán)氧感壓粘劑、三聚氰胺感壓粘劑、聚酯感壓粘劑、酚類感壓粘劑、硅感壓 粘劑及上述的混合物。涂布粘著層710的方式可考量實(shí)施的便利性加以選擇，使用包含但 不僅限于旋轉(zhuǎn)涂布、線棒涂布、浸沾式涂布、狹縫式涂布或卷對卷涂布等涂布方式。粘著層 710的厚度為約ΙΟμπι至約30μπι，例如10、15、20、25、30μπι。且粘著層710對玻璃的剝離 力（peel strength against glass)為約150至300gf/25mm，其中剝離力越大越好，以在接 下來的步驟中將配向液晶層550剝離。
[0045] 請參閱圖8及圖9,圖8及圖9繪示步驟將粘著層710與配向液晶層550相連接， 并使配向液晶層550與第一透光基材110分離。請參閱圖8,圖8繪示將粘著層710與配向 液晶層550相連接。使粘著層710與配向液晶層550徹底相粘。請參閱圖9,圖9繪示將配 向液晶層550與第一透光基材110分離。配向液晶層550從第一透光基材110上撕除，并 與光配向?qū)?50分離，且形成位相差板900。位相差板900包括第二透光基材610、粘著層 710、遮光條620及配向液晶層550。
[0046] 由圖1至圖9,提供了制造位相差板的實(shí)施方式，在此實(shí)施方式中，通過將遮光條 形成于第二透光基材上，來防止制造遮光條時，直接制造于液晶表面對液晶表面可能造成 的損傷。再以粘著層完全覆蓋遮光條，以防止的遮光條干燥后易有粉末產(chǎn)生而損傷膜面或 于面板顯示中造成微粒。最后再將粘著層與配向液晶層相粘，利用粘性將配向液晶層與第 一透光基材剝離，以形成在配向液晶層中不同液晶配向區(qū)的交界處具有遮光條的位相差 板，且此位相差板具有對位功能。并可應(yīng)用于卷對卷制程，此制作位相差膜的方法可減少成 本并提升制程合格率。
[0047] 請參閱圖10,圖10繪示本發(fā)明部分實(shí)施方式中的一位相差板的剖面示意圖。位 相差板900包括配向液晶層550,其具有至少一第一液晶配向區(qū)520及與第一液晶配向區(qū) 具有不同配向方向的第二液晶配向區(qū)540,第一液晶配向區(qū)520與第二液晶配向區(qū)540交 錯排列；粘著層710,設(shè)置于配向液晶層550之上；第二透光基材610,設(shè)置于粘著層710之 上；以及多個遮光條620,遮光條620設(shè)置于第二透光基材610與粘著層710相連的表面上， 并且對應(yīng)于第一液晶配向區(qū)520與第二液晶配向區(qū)540的交界處，且遮光條620不與配向 液晶層550接觸。其中，遮光條620的厚度約為Ιμπι至約5 μπι。在本發(fā)明的部分實(shí)施方 式中，遮光條620的厚度為約1 μ m。遮光條的寬度約為40 μ m至約120 μ m。在本發(fā)明的部 分實(shí)施方式中，遮光條的寬度約為50 μ m至約100 μ m。粘著層710的厚度約為10 μ m至約 30 μ m。在本發(fā)明的部分實(shí)施方式中，遮光條620的厚度為約20 μ m。遮光條620的材料包 含但不僅限于一紫外光（UV)吸收劑或一遮光墨水。第二透光基材610的材料包含但不僅 限于為三醋酸纖維素或聚碳酸酯。粘著層710的材料為透光感壓粘著劑，包含但不僅限于 丙烯酸感壓粘劑、氨酯感壓粘劑、聚異丁烯感壓粘劑、橡膠感壓粘劑、聚乙烯醚感壓粘劑、環(huán) 氧感壓粘劑、三聚氰胺感壓粘劑、聚酯感壓粘劑、酚類感壓粘劑或硅感壓粘劑。
[0048] 接下來將就以下實(shí)施例作進(jìn)一步說明，但應(yīng)了解的是，這些實(shí)施例僅為例示說明 之用，而不應(yīng)被解釋為本發(fā)明實(shí)施的限制。
[0049] 1.遮光液的制備
[0050] 將粘結(jié)劑（熱固型樹脂，型號medium)與溶劑甲苯以1 :1混合，配制成IOg混合 液。取紫外光（UV)吸收劑（購自于永光化學(xué)，型號Eversorb51)與上述混合液以I :50(即 UV吸收劑：粘結(jié)劑為1 :25)的比例（重量比）混合，得到遮光液。
[0051] 2.光配向涂布液的制備
[0052] (1)將甲乙酮（methylethylketone)與環(huán)戊酮（cyclopentanone)以 I : 1 的重量 比例，配制成3. 5g混合溶劑。
[0053] (2)取0.5g光致交聯(lián)型光配向樹脂（購自于瑞士 Rolic，型號R0P103,肉桂酸酯 系，固含量10% )，加入步驟（1)所配制的3. 5g混合溶劑，得到一固含量為1. 25%的光配向 涂布液。
[0054] 3.液晶涂布液的制備
[0055] 取Ig液晶固體（雙折射率差為0. 14)，加入4g環(huán)戊酮，配制成固含量為20%的液 晶涂布液。
[0056] 4.位相差板的制備
[0057] A. 32 吋面板
[0058] 實(shí)施例Al :〈第一次曝光是利用第一線性偏極紫外光，且遮光條的寬度為50 μ m>
[0059] 實(shí)施例Al的位相差板的制法包含以下步驟：
[0060] (1-1)制備遮光圖樣
[0061] 根據(jù)預(yù)設(shè)的圖樣以凹版印刷的方式將遮光液印刷至一聚碳酸酯基材（第一透光 基材，厚度60 μ m，雙折射率差Λ η為2. 17 XlO 4,位相差值為13nm)的第一表面上，印刷厚 度約1 μ m。的后，置于恒溫為60°C的烘箱內(nèi)烘烤30秒，得到一具有遮光圖樣的基材，測得 遮光圖樣遮蔽部分的光透過率為10%。
[0062] (1-2)制備光配向材料層
[0063] 取4g光配向涂布液，以旋轉(zhuǎn)涂布法（3000rpm，40秒）涂布于步驟（1-1)中第一透 光基材相對于第一表面的第二表面上，使其展平后，置于恒溫為100°c的烘箱內(nèi)烘烤兩分鐘 以去除溶劑，再取出靜置待其回復(fù)至室溫，以形成一光配向材料層。
[0064] (1-3)第一次曝光
[0065] 以一偏極方向與第一透光基材的慢軸的夾角為0°的第一線性偏極紫外光（first PUV)，自第一透光基材的第一表面向第二表面的方向照射步驟（1-2)所得的光配向材料層 (累積曝光能量為180mJ/cm2,如圖2A所示），使得光配向材料層中受到該第一線性偏極紫 外光照射的區(qū)域固化且具有一第一配向方向，形成一第一配向區(qū)；受遮光圖樣遮蔽的區(qū)域 則尚未固化且不具有配向方向。因此，形成一具有間隔配向效果的光配向材料層。
[0066] (1-4)第二次曝光
[0067] 以一偏極方向與該第一透光基材的慢軸的夾角為90°的第二線性偏極紫外光，自 第一透光基材的第二表面朝第一表面的方向照射該步驟（1-3)所得的具有間隔配向效果 的光配向材料層（累積曝光能量為90mJ/cm2,如圖2B所示），使在步驟（1-3)中受遮光圖 樣遮蔽的區(qū)域固化且具有一第二配向方向，形成一第二配向區(qū)，此時光配向材料層轉(zhuǎn)變?yōu)?具兩種不同配向區(qū)域的光配向?qū)印?br>[0068] (1-5)制備液晶材料層
[0069] 取5g的液晶涂布液，以旋轉(zhuǎn)涂布法（3000rpm，40秒）涂布于光配向?qū)拥谋砻嫔希?再將其置于恒溫為60°C的烘箱內(nèi)烘烤五分鐘以去除溶劑，然后，取出靜置待其回復(fù)至室溫， 得到一液晶材料層。
[0070] (1-6)制備配向液晶層
[0071] 以一非線性偏極紫外光照射上述液晶材料層（累積曝光能量為120mJ/cm2)，并同 時通以氮?dú)?，使液晶材料層固化，以得到一配向液晶層。且配向液晶層具有第一及第二液?配向區(qū)，各自與光配向?qū)拥牡谝患暗诙湎騾^(qū)具有相同的配向方向。
[0072] (1-7)制備遮光條
[0073] 根據(jù)步驟（1-1)的遮光圖樣，于對應(yīng)于配向液晶層的交界區(qū)的位置以凹版印刷的 方式將遮光液印刷至一三醋酸纖維素基材（第二透光基材）上，印刷厚度約1 μ m，寬度約 50 μ m，得到一具有遮光條的第二透光基材。
[0074] (1-8)制備粘著層
[0075] 取IOg丙烯酸感壓粘劑（固含量為40% )，以線棒涂布于三醋酸纖維素基材（第 二透光基材）印刷有遮光條的表面上，然后，將其置于恒溫為l〇〇°C的烘箱內(nèi)烘烤兩分鐘以 去除溶劑，再取出靜置待其回復(fù)至室溫，形成一粘著層。粘著層的干膜厚度約20 μ m，對玻璃 的剝離力（peel strength against glass)為 2〇0(gf/25mm)。
[0076] (1-9)制備位相差板
[0077] 將步驟（1-8)所制備具有遮光條及粘著層的三醋酸纖維素基材（第二透光基材）， 以其粘著層與步驟（1-6)所制備的配向液晶層相連接，將粘著層與配向液晶層相粘貼后， 將配向液晶層由聚碳酸酯基材（第一透光基材）撕除，即將配向液晶層與光配向?qū)臃蛛x，得 到一具有三醋酸纖維素基材/粘著層/配向液晶層結(jié)構(gòu)的具有兩個配向方向的位相差板， 其中配向液晶層中的第一液晶配向?qū)优c第二液晶配向?qū)又虚g的交界區(qū)之上方具有遮光條。
[0078] 實(shí)施例A2 :〈第一次曝光是利用第一線性偏極紫外光，且遮光條的寬度為100 μ m>
[0079] 實(shí)施例A2的制法與實(shí)施例Al的制法相同，僅改變步驟（1-7)中遮光條的寬度為 約 100 μ m。
[0080] 實(shí)施例A3 :〈第一次曝光是利用第二線性偏極紫外光，且遮光條的寬度為50 μ m>
[0081] 實(shí)施例A3的制法與實(shí)施例Al的制法相同，僅將步驟（1-3)與（1-4)改變?nèi)缦拢?br>[0082] (1-3)第一次曝光
[0083] 以一偏極方向與該第一透光基材的慢軸的夾角為90°的第二線性偏極紫外光，自 第一透光基材的第二表面朝第一表面的方向照射步驟（1-2)所得的光配向材料層（累積曝 光能量為90mJ/cm 2,如圖3A所示），使得光配向材料層受到第二線性偏極紫外光照射而固 化且具有一第二配向方向，形成一第二配向區(qū)。
[0084] (1-4)第二次曝光
[0085] 以一偏極方向與第一透光基材的慢軸的夾角為0°的第一線性偏極紫外光，自第 一透光基材的第一表面向第二表面的方向照射步驟（1-3)所得的光配向材料層（累積曝光 能量為90mJ/cm 2,如圖3B所TK )，使未受遮光圖樣遮蔽的區(qū)域改變配向方向?yàn)橐坏谝慌湎?方向，形成一第一配向區(qū)。
[008