，并且在過去預(yù)定時(shí)間之后再次給出恒定的照射劑量。
[0051](其它實(shí)施例)
[0052]接著，作為本發(fā)明的其它實(shí)施例，將給出實(shí)施例的壓印設(shè)備的各種變型示例的描述。首先，在前述實(shí)施例中，晶片加熱機(jī)構(gòu)6在存在于晶片10上的圖案區(qū)域20的形狀的校正期間采用光調(diào)整器23，但是本發(fā)明不限于此。例如，代替光調(diào)整器23，也可以采用如圖9所示的從模具8和晶片10之間的空隙向圖案區(qū)域20的平面區(qū)域發(fā)射加熱光的多個(gè)加熱光源70。在這種情況下，控制單元7使用多個(gè)加熱光源70適當(dāng)?shù)卣{(diào)整投射到圖案區(qū)域20的表面上的光的位置或其外周邊區(qū)域的加熱面積，從而形成到圖案區(qū)域20上的照射劑量分布和溫度分布。這消除了通過在孔隙區(qū)域13中布置反射板25來保證調(diào)整后的光24的光路的需要，因而多個(gè)加熱光源70可以容易地設(shè)置在典型的壓印設(shè)備中。代替采用多個(gè)加熱光源70，晶片加熱機(jī)構(gòu)6還可以被配置以使得加熱器設(shè)置在晶片夾具16上以便通過利用加熱器進(jìn)行加熱來使圖案區(qū)域20變形。在這種情況下，優(yōu)選的是加熱器分為多個(gè)區(qū)域以便在晶片10中形成溫度分布并且所述多個(gè)區(qū)域由控制單元7單獨(dú)地控制。
[0053]此外，雖然在本實(shí)施例中圖案區(qū)域20的形狀的校正是在模具8不與晶片10上的樹脂14接觸的狀態(tài)下執(zhí)行的，但是甚至在模具加壓步驟期間模具8與樹脂14接觸時(shí)，也可以利用調(diào)整后的光24連續(xù)地照射圖案區(qū)域20，以便保持圖案區(qū)域20的位移量60。此外，可以與模具加壓步驟或固化步驟并行地執(zhí)行圖案區(qū)域20的形狀的校正。例如，當(dāng)在模具加壓步驟期間使得模具8經(jīng)由樹脂14與晶片10接觸時(shí)，圖案區(qū)域20的熱量可以轉(zhuǎn)移到模具8。在這種情況下，由于圖案區(qū)域20的溫度根據(jù)模具8的熱容量而降低，引起圖案區(qū)域20的變形量改變，導(dǎo)致對重合精度的不利影響。相反，在本實(shí)施例的壓印設(shè)備I中，圖案區(qū)域20的溫度的降低可以通過在第一實(shí)施例中描述的圖7所示的步驟中利用調(diào)整后的光24照射晶片10(步驟S307)之前執(zhí)行模具加壓操作(步驟S306)來被抑制。當(dāng)在圖案區(qū)域20的形狀的校正之后執(zhí)行加熱以保持其形狀時(shí)，圖案區(qū)域20上的照射劑量的值可以小于在圖案區(qū)域20的形狀的校正期間的值。
[0054]在本實(shí)施例中，圖案區(qū)域8a的形狀的校正由模具形狀校正機(jī)構(gòu)201執(zhí)行(步驟S304)，然后執(zhí)行模具加壓操作(步驟S306)。但是，本發(fā)明不限于此，并且可以在模具加壓操作(步驟S306)之后校正圖案區(qū)域8a的形狀(步驟S304)和形成在晶片10上的圖案區(qū)域20的形狀(步驟S305)。
[0055]在本實(shí)施例中，在步驟S303中計(jì)算圖案區(qū)域8a的校正量和形成在晶片10上的圖案區(qū)域20的校正量。但是，本發(fā)明不限于此，并且可以在步驟S304中校正圖案區(qū)域8a之后計(jì)算步驟S303中的形成在晶片10上的圖案區(qū)域20的校正量。
[0056](物品制造方法)
[0057]—種用于制造作為物品的裝置(半導(dǎo)體集成電路元件、液晶顯示元件等)的方法可以包括使用上面描述的壓印設(shè)備在襯底(晶片、玻璃板、膜狀襯底等)上形成圖案的步驟。此外，制造方法可以包括蝕刻其上已經(jīng)形成圖案的襯底的步驟。當(dāng)制造諸如圖案化的介質(zhì)(存儲(chǔ)介質(zhì))、光學(xué)元件等之類的其它物品時(shí)，制造方法可以包括處理其上已經(jīng)形成圖案的襯底的另一種步驟，代替蝕刻步驟。本實(shí)施例的物品制造方法與傳統(tǒng)的物品制造方法相比具有在物品的性能、質(zhì)量、生產(chǎn)率和生產(chǎn)成本中的至少一個(gè)方面的優(yōu)點(diǎn)。
[0058]雖然已經(jīng)參考示范性實(shí)施例描述了本發(fā)明的實(shí)施例，但是應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明不局限于公開的示范性實(shí)施例。以下權(quán)利要求書的范圍與最寬的解釋一致以便涵蓋所有這樣的修改、等效結(jié)構(gòu)和功能。
[0059]對相關(guān)申請的交叉引用
[0060]本申請要求于2011年10月14日提交的日本專利申請N0.2011-226637和2012年9月14日提交的日本專利申請N0.2012-202990的優(yōu)先權(quán)，它們通過引用而被全部合并于此。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種使襯底上的多個(gè)襯底側(cè)圖案區(qū)域上的樹脂與模具上的圖案區(qū)域接觸的壓印設(shè)備，其特征在于，所述壓印設(shè)備包括: 第一機(jī)構(gòu)，被配置為向該模具施加力，從而使該圖案區(qū)域變形； 第二機(jī)構(gòu)，被配置為通過加熱該襯底側(cè)圖案區(qū)域來將非均勻的溫度分布給予該襯底側(cè)圖案區(qū)域，從而使該襯底側(cè)圖案區(qū)域變形；和 控制單元，被配置為獲得該圖案區(qū)域和該襯底側(cè)圖案區(qū)域之間的形狀差別信息，并且基于獲得的形狀差別信息通過使用該第一機(jī)構(gòu)來控制該圖案區(qū)域的形狀，并且基于獲得的形狀差別信息通過使用該第二機(jī)構(gòu)來控制該襯底側(cè)圖案區(qū)域中的溫度分布。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓印設(shè)備，還包括: 檢測單元，被配置為檢測形成在該模具上的多個(gè)標(biāo)記和形成在該襯底上的多個(gè)標(biāo)記， 其中該控制單元基于由該檢測單元檢測的結(jié)果獲得該形狀差別信息。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的壓印設(shè)備，還包括: 其中該檢測單元檢測形成在該模具上的至少四個(gè)標(biāo)記和形成在該襯底上的至少四個(gè) ο4.根據(jù)權(quán)利要求1到3中任一項(xiàng)所述的壓印設(shè)備，其中該第二機(jī)構(gòu)能夠僅僅加熱該襯底的部分區(qū)域，并且該控制單元基于獲得的形狀差別信息來確定要由該第二機(jī)構(gòu)加熱的區(qū)域。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓印設(shè)備，其中該第二機(jī)構(gòu)包括光源并且通過利用從該光源發(fā)射的光照射該襯底來加熱該襯底側(cè)圖案區(qū)域。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的壓印設(shè)備，其中該第二機(jī)構(gòu)包括光調(diào)整器，該光調(diào)整器控制照射到該襯底側(cè)圖案區(qū)域上的光的光照分布。7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的壓印設(shè)備，其中該樹脂是由紫外光可固化的樹脂，并且使用該第二機(jī)構(gòu)照射到該襯底上的光的波長在從400nm到2000nm的范圍中。8.根據(jù)權(quán)利要求1到3及5到7中的任一項(xiàng)所述的壓印設(shè)備，其中該控制單元在使得該襯底側(cè)圖案區(qū)域上的樹脂與該模具上的圖案區(qū)域接觸的狀態(tài)下控制該第二機(jī)構(gòu)。9.根據(jù)權(quán)利要求1到3及5到7中的任一項(xiàng)所述的壓印設(shè)備，其中在由該第一機(jī)構(gòu)使該模具上形成的圖案區(qū)域變形之后或在由該第一機(jī)構(gòu)使該模具上形成的圖案區(qū)域變形期間，該控制單元使得該第二機(jī)構(gòu)使該襯底側(cè)圖案區(qū)域變形。10.根據(jù)權(quán)利要求1到3及5到7中的任一項(xiàng)所述的壓印設(shè)備，其中該控制單元為該多個(gè)襯底側(cè)圖案區(qū)域中的每一個(gè)計(jì)算由第一機(jī)構(gòu)進(jìn)行的校正量和由第二機(jī)構(gòu)進(jìn)行的校正量。11.根據(jù)權(quán)利要求1到3及5到7中的任一項(xiàng)所述的壓印設(shè)備，其中該控制單元通過利用該第二機(jī)構(gòu)加熱該襯底側(cè)圖案區(qū)域和該襯底側(cè)圖案區(qū)域的外側(cè)區(qū)域來控制該襯底側(cè)圖案區(qū)域中的溫度分布。12.根據(jù)權(quán)利要求5所述的壓印設(shè)備，其中該控制單元控制該第二機(jī)構(gòu)用第一照射劑量的光來照射襯底，然后控制該第二機(jī)構(gòu)用小于第一照射劑量的第二照射劑量的光來照射襯底。13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓印設(shè)備，其中該控制單元基于該形狀差別信息來分析包括在該襯底側(cè)圖像區(qū)域中的變形分量，并且通過使用與從分析結(jié)果獲得的每個(gè)變形分量對應(yīng)的校正量來控制該襯底側(cè)圖像區(qū)域中的溫度分布。14.一種用于制造裝置的裝置制造方法，其特征在于，該方法包括: 通過使用壓印設(shè)備使襯底上的多個(gè)襯底側(cè)圖案區(qū)域上的樹脂與模具上的圖案區(qū)域接觸并且使樹脂固化；以及 蝕刻其上已經(jīng)形成樹脂圖案的所述襯底， 其中該壓印設(shè)備包括: 第一機(jī)構(gòu)，被配置為向該模具施加力，從而使該圖案區(qū)域變形； 第二機(jī)構(gòu)，被配置為通過加熱該襯底側(cè)圖案區(qū)域來將非均勻的溫度分布給予該襯底側(cè)圖案區(qū)域，從而使該襯底側(cè)圖案區(qū)域變形；和 控制單元，被配置為獲得該圖案區(qū)域和該襯底側(cè)圖案區(qū)域之間的形狀差別信息，并且基于獲得的形狀差別信息通過使用該第一機(jī)構(gòu)來控制該圖像區(qū)域的形狀，并且基于獲得的形狀差別信息通過使用該第二機(jī)構(gòu)來控制該襯底側(cè)圖案區(qū)域中的溫度分布。15.一種用于使襯底上的多個(gè)襯底側(cè)圖案區(qū)域上的樹脂與模具上的圖案區(qū)域接觸的壓印方法，其特征在于，所述方法包括: 向該模具施加力，從而基于所獲得的該圖案區(qū)域和該襯底側(cè)圖案區(qū)域之間的形狀差別信息來使該圖案區(qū)域變形； 加熱該襯底側(cè)圖案區(qū)域并且將非均勻的溫度分布施加到該襯底側(cè)圖案區(qū)域，從而基于所獲得的該圖案區(qū)域和該襯底側(cè)圖案區(qū)域之間的形狀差別信息來使該襯底側(cè)圖案區(qū)域變形；和 在使該圖案區(qū)域和該襯底側(cè)圖案區(qū)域變形的狀態(tài)下，固化該襯底側(cè)圖案區(qū)域上的樹脂。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種壓印設(shè)備和使用該壓印設(shè)備的物品制造方法。該壓印設(shè)備將形成在模具上的圖案轉(zhuǎn)印到襯底上的樹脂。該壓印設(shè)備包括：形狀校正機(jī)構(gòu)，被配置為向該模具施加力從而使形成在該模具上的圖案區(qū)域變形；加熱機(jī)構(gòu)，被配置為加熱形成在該襯底上的襯底側(cè)圖案區(qū)域從而使該襯底側(cè)圖案區(qū)域變形；和控制單元，被配置為獲得關(guān)于形成在該模具上的圖案區(qū)域和該襯底側(cè)圖案區(qū)域的形狀之間的差別的信息，并且基于獲得的信息控制該形狀校正機(jī)構(gòu)和晶片加熱機(jī)構(gòu)以便減小形成在該模具上的圖案區(qū)域和該襯底側(cè)圖案區(qū)域的形狀之間的差別。
【IPC分類】G03F7/00
【公開號(hào)】CN105137713
【申請?zhí)枴緾N201510606372
【發(fā)明人】林達(dá)也, 村上洋介, 長谷川敬恭, 鳥居弘稔, 田中悠輔
【申請人】佳能株式會(huì)社
【公開日】2015年12月9日
【申請日】2012年10月15日
【公告號(hào)】CN103048879A, CN103048879B, US20130093113