一種濾色片基板及其制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示裝置的組成部分，特別是涉及了一種濾色片基板及其制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]目前濾色片(Color Filter)的BM (擋光層或遮光層)使用Resin (樹(shù)脂)制作，需要專用的生產(chǎn)線制作BM，相對(duì)成本及制造要求較高；雖然BM材料使用金屬鉻或鉻氧化物也能達(dá)到擋光效果，但鉻為有害物質(zhì)，不滿足環(huán)保要求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供了一種濾色片基板的制造方法，其采用了無(wú)害的金屬材料作為遮光矩陣材料，同時(shí)在基板和遮光矩陣之間增加鈍化層，以降低金屬材料的反射率，達(dá)到質(zhì)量要求及環(huán)保要求；該濾色片基板為Mono (黑白)濾色片，不需要彩色樹(shù)脂作為彩色濾光層，減少制作彩色樹(shù)脂的程序及相應(yīng)的成本，提高生產(chǎn)效率且降低生產(chǎn)成本。本發(fā)明還提供了一種濾色片基板。
[0004]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題通過(guò)以下技術(shù)方案予以實(shí)現(xiàn):
一種制造濾色片基板的方法，包括以下步驟:
提供一基板；
在基板一側(cè)上形成限定單元區(qū)域的鈍化層矩陣；
在鈍化層矩陣上形成防止光泄漏的遮光矩陣；其中，
所述遮光矩陣材料為具有擋光功能的金屬材料，其包括鋁、鋁合金、鉬、鉬合金、氧化鉬、銀或鈦的至少一種。
[0005]在本發(fā)明中，所述鈍化層矩陣材料包括a-Si或多晶硅或ΙΤ0。
[0006]在本發(fā)明中，在遮光矩陣上形成間隔柱。
[0007]在本發(fā)明中，所述基板另一側(cè)形成偏光片。
[0008]在本發(fā)明中，還包括在遮光矩陣及基板上形成透明電極層的步驟。
[0009]在本發(fā)明中，在所述透明電極層和遮光矩陣之間形成有絕緣層。
[0010]在本發(fā)明中，在所述遮光矩陣的透明電極層上形成有間隔柱。
[0011]—種濾色片基板，包括:
鈍化層矩陣，形成在基板一側(cè)上，用于限定單元區(qū)域；
遮光矩陣，形成在鈍化層矩陣上，用于防止光泄漏；其中，
所述遮光矩陣材料為具有擋光功能的金屬材料，其包括鋁、鋁合金、鉬、鉬合金、氧化鉬、銀或鈦的至少一種。
[0012]在本發(fā)明中，所述鈍化層矩陣材料包括a-Si或多晶硅或ΙΤ0。
[0013]本發(fā)明具有如下有益效果:該濾色片基板的制造方法采用了無(wú)害的金屬材料作為遮光矩陣材料，同時(shí)在基板和遮光矩陣之間增加鈍化層，以降低金屬材料的反射率，達(dá)到質(zhì)量要求及環(huán)保要求；該濾色片基板為Mono (黑白)濾色片，不需要彩色樹(shù)脂作為彩色濾光層，減少制作彩色樹(shù)脂的程序及相應(yīng)的成本，提高生產(chǎn)效率且降低生產(chǎn)成本；該濾色片基板可適應(yīng)但不限于常白顯示模式、常黑顯示模式、半透半反模式等。
【附圖說(shuō)明】
[0014]圖1為本發(fā)明的一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2為本發(fā)明一實(shí)施例的剖視圖；
圖3為本發(fā)明另一實(shí)施例的剖視圖；
圖4為本發(fā)明又一實(shí)施例的剖視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)的說(shuō)明。
[0016]請(qǐng)參考圖1、2，其顯示了一種濾色片基板的剖視圖，該濾色片基板包括一透明基板1、形成在該基板1 一側(cè)上用于限定單元區(qū)域的鈍化層矩陣2、形成在該鈍化層矩陣2上用于防止光泄漏的遮光矩陣3 ;其中，所述遮光矩陣3材料為具有擋光功能的金屬材料，其包括鋁、鋁合金、鉬、鉬合金、氧化鉬、銀或鈦的至少一種，也可以是其他具有擋光功能的無(wú)毒害金屬；所述鈍化層矩陣2材料包括但不限于A-Si (非晶硅)、多晶硅、ΙΤ0等高透、非高透過(guò)率物質(zhì)。
[0017]本發(fā)明所使用金屬的反射率較高，在基板1另一側(cè)貼合偏光片后外觀無(wú)法實(shí)現(xiàn)黑色顯示，因此先制作鈍化層，以降低金屬的反射率，使外觀觀看趨近黑色。本發(fā)明優(yōu)選采用50nm以上厚度的鉬作為遮光矩陣3，采用5~30nm厚的非晶硅作為鈍化層矩陣2 ;較佳地，本發(fā)明采用150nm的鉬層結(jié)合20nm非晶娃層將反射率降低至10，若只采用150nm的鉬層，貝lj其反射率為50。
[0018]本發(fā)明偏光片的透過(guò)率可根據(jù)具體濾色片的反射率選定，包括但不限于5%、10%、15%、20% 等。
[0019]做進(jìn)一步改進(jìn)，所述濾色片基板還包括在遮光矩陣3及基板1上形成一透明電極4層，如圖3所示，優(yōu)選為ΙΤ0電極。該透明電極4層可根據(jù)不同顯示模式制作或不制作。
[0020]做進(jìn)一步改進(jìn)，在所述遮光矩陣3上或與該遮光矩陣3對(duì)應(yīng)的透明電極4層上形成有間隔柱5 (Photo Space)，如圖4所示。該間隔柱5可根據(jù)需要制作或不制作。
[0021]做進(jìn)一步改進(jìn)，可以在遮光矩陣3與透明電極4層之間增加絕緣層。
[0022]本濾色片可適應(yīng)但不限于常白顯示模式、常黑顯示模式、半透半反模式等。
[0023]本發(fā)明可以在金屬層與ΙΤ0電極層之間增加絕緣層。
[0024]本發(fā)明還提供了一種制造濾色片基板的方法，包括以下步驟:
提供一透明基板；
在基板一側(cè)上沉積一層厚度約5~30nm非晶硅層，通過(guò)光刻及刻蝕工序使非晶硅層形成圖案而形成鈍化矩陣，該鈍化矩陣將所述基板分割成多個(gè)單元區(qū)域；
在鈍化矩陣上沉積一層厚度大于50nm的鉬層，通過(guò)光刻機(jī)刻蝕工序使其形成圖案而形成在該鈍化矩陣上的遮光矩陣，其用于防止光泄露。其中，
所述遮光矩陣材料還可以是鋁、鋁合金、鉬合金、氧化鉬、銀或鈦的至少一種，也可以是其他具有擋光功能的無(wú)毒害金屬。本發(fā)明所使用金屬的反射率較高，在基板另一側(cè)貼合偏光片后外觀無(wú)法實(shí)現(xiàn)黑色顯示，因此先制作鈍化層，以降低金屬的反射率，使外觀觀看趨近黑色。
[0025]需要說(shuō)明的是，所述鈍化層矩陣材料還可以是多晶硅、ΙΤ0等高透、非高透過(guò)率物質(zhì)。偏光片的透過(guò)率可根據(jù)具體濾色片的反射率選定，包括但不限于5%、10%、15%、20%等。
[0026]所述濾色片基板的制作方法還包括在遮光矩陣及基板上形成一透明電極層，優(yōu)選為ΙΤ0電極。
[0027]所述濾色片基板的制作方法還包括在所述遮光矩陣上或與該遮光矩陣對(duì)應(yīng)的透明電極層上形成間隔柱(Photo Space)。
[0028]所述濾色片基板的制作方法還包括在遮光矩陣與透明電極層之間增加一絕緣層。
[0029]需要說(shuō)明的是，該透明電極層可根據(jù)不同顯示模式制作或不制作。該間隔柱可根據(jù)需要制作或不制作。
[0030]以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本發(fā)明的實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對(duì)本發(fā)明專利范圍的限制，但凡采用等同替換或等效變換的形式所獲得的技術(shù)方案，均應(yīng)落在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種制造濾色片基板的方法，包括以下步驟: 提供一基板； 在基板一側(cè)上形成限定單元區(qū)域的鈍化層矩陣； 在鈍化層矩陣上形成防止光泄漏的遮光矩陣；其中， 所述遮光矩陣材料為具有擋光功能的金屬材料，其包括鋁、鋁合金、鉬、鉬合金、氧化鉬、銀或鈦的至少一種。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述制造濾色片基板的方法，其特征在于，所述鈍化層矩陣材料包括a-Si或多晶硅或ITO。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述制造濾色片基板的方法，其特征在于，在遮光矩陣上形成間隔柱。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述制造濾色片基板的方法，其特征在于，所述基板另一側(cè)形成偏光片。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述制造濾色片基板的方法，其特征在于，還包括在遮光矩陣及基板上形成透明電極層的步驟。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述制造濾色片基板的方法，其特征在于，在所述透明電極層和遮光矩陣之間形成有絕緣層。7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述制造濾色片基板的方法，其特征在于，在所述遮光矩陣的透明電極層上形成有間隔柱。8.—種濾色片基板，其特征在于，包括: 鈍化層矩陣，形成在基板一側(cè)上，用于限定單元區(qū)域； 遮光矩陣，形成在鈍化層矩陣上，用于防止光泄漏；其中， 所述遮光矩陣材料為具有擋光功能的金屬材料，其包括鋁、鋁合金、鉬、鉬合金、氧化鉬、銀或鈦的至少一種。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的濾色片基板，其特征在于，所述鈍化層矩陣材料包括a-Si或多晶硅或ITO。
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種制造濾色片基板的方法，包括以下步驟：提供一基板；在基板一側(cè)上形成限定單元區(qū)域的鈍化層矩陣；在鈍化層矩陣上形成防止光泄漏的遮光矩陣；其中，所述遮光矩陣材料為具有擋光功能的金屬材料，其包括鋁、鋁合金、鉬、鉬合金、氧化鉬、銀或鈦的至少一種。本發(fā)明還公開(kāi)了一種濾色片基板。該濾色片基板的制造方法采用了無(wú)害的金屬材料作為遮光矩陣材料，同時(shí)在基板和遮光矩陣之間增加鈍化層，以降低金屬材料的反射率，達(dá)到質(zhì)量要求及環(huán)保要求；該濾色片基板為黑白濾色片，不需要彩色樹(shù)脂作為彩色濾光層，減少制作彩色樹(shù)脂的程序及相應(yīng)的成本，提高生產(chǎn)效率且降低生產(chǎn)成本。
【IPC分類】G02F1/1335
【公開(kāi)號(hào)】CN105242450
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510781643
【發(fā)明人】柳發(fā)霖, 于春崎, 李林, 何基強(qiáng), 張?zhí)K杰, 萬(wàn)方馨
【申請(qǐng)人】信利半導(dǎo)體有限公司
【公開(kāi)日】2016年1月13日
【申請(qǐng)日】2015年11月16日