一種用于光刻設備的吸聲裝置的制造方法
【技術領域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種集成電路裝備制造領域，尤其涉及一種用于光刻設備的吸聲裝 置。
【背景技術】
[0002] 光刻設備是一種將所需圖案應用到襯底上的機器。例如，可以將光刻設備用在集 成電路（1C)的制造中。在這種情況下，可以將可選地稱為掩?；蜓谀０妫╮eticle)的圖案 形成裝置用于生成對應于所述1C的單層的電路圖案?？梢詫⒃搱D案成像到襯底（例如， 硅晶片）上的目標部分（例如，包括一部分管芯、一個或多個管芯）上。圖案成像是通過 把圖案成像到提供到襯底上的輻射敏感材料（抗蝕劑）層上進行的。通常，單獨的襯底將 包含被連續(xù)曝光的相鄰目標部分的網(wǎng)絡。常規(guī)的光刻設備包括：所謂步進機，在所述步進 機中，通過將全部圖案依次曝光到所述目標部分上來輻射每一個目標部分；以及所謂掃描 機：在所述掃描機中，通過輻射束沿給定方向（"掃描"方向）掃描所述圖案、同時沿與該 方向平行或反向平行的方向掃描所述襯底來輻射每一個目標部分。也可能通過將圖案壓印 (imprinting)到襯底的方式從圖案形成裝置將圖案形成到襯底上。
[0003] 高精度和高分辨率作為光刻技術當前瞄準的目標需要光刻設備的各部件之間相 互精確定位，例如保持圖案形成裝置（例如掩模）的掩模版臺、投影系統(tǒng)和保持襯底的襯底 臺。除了例如掩模版臺和襯底臺的定位外，投影系統(tǒng)也面臨這種需要。在當前設備中的投 影系統(tǒng)包括承載結構，例如透鏡座架（透射光的情形）或反射鏡框架（反射光的情形），和 包括多個光學元件，例如透鏡元件、反射鏡等。
[0004] 通常在光刻機系統(tǒng)中，由于結構振動將會導致圖像的短期誤差，同時由于運動系 統(tǒng)（如微動臺、反射鏡）的MA(MovingAverage)和MSD(MovingStandardDeviation)的伺 服位置誤差導致圖像畸變。降低和控制整機動態(tài)性能，將誤差降低到一個較低的水平。聲 噪載荷（AcousticsLoad)定義為空氣的壓力隨時間的變化作用在物鏡和主基板等內(nèi)部世 界上的效應。根據(jù)在光刻機在客戶端的測試表明，在干凈的空氣環(huán)境下傳播的聲音和噪音 對內(nèi)部世界的擾動占總的振動干擾的比例約為40%，如圖1所示。其光刻機聲噪試驗測試值 范圍在75-90dB左右。圖2是凈化間環(huán)境聲壓-時間曲線示意圖。
[0005] 在光刻機中，噪聲會對光刻機內(nèi)部世界產(chǎn)生影響，如物鏡，物鏡鏡片，干涉儀，主基 板。主要聲源有環(huán)境噪聲、電氣噪聲、掩模臺&工件臺運動噪聲。如US20090195760公開的內(nèi) 容所示，以運動臺噪聲為例，運動臺有三種噪聲，其一，剛體運動噪聲，由剛體運動加速度引 起，頻率遠低于150Hz，可能會對overlay產(chǎn)生影響；其二，結構振動噪聲，頻率高于150Hz， 可能會對overlay和fading產(chǎn)生影響；其三，空氣阻力產(chǎn)生的氣動噪聲，頻率高于500Hz。
[0006] 為了解決噪音問題，現(xiàn)有技術中提供出了共振器(或稱共鳴器）技術。單個共振器 可看成由幾個聲學作用不同的聲學元件構成。開口管內(nèi)及管口附近空氣隨聲波而振動，是 一個聲質(zhì)量兀件，空腔內(nèi)的壓力隨空氣變化，是一個聲順兀件。而空腔內(nèi)的空氣在一定程度 內(nèi)隨聲波而振動，也具有一定的聲質(zhì)量。空氣在開口壁面的振動摩擦，它的聲學作用是個聲 阻。當入射聲波的頻率接近共振器的固有頻率時，孔頸的空氣柱產(chǎn)生強烈振動，在振動過程 中，由于克服摩擦阻力而消耗聲能。反之，當入射聲波頻率遠離共振器固有頻率時，共振器 振動很弱，因此聲吸收作用很小，可見共振器吸聲系數(shù)隨頻率而變化，最高吸聲系數(shù)出現(xiàn)在 共振頻率處。
[0007] 如專利US20090161085中采用上述共鳴器原理，設計了三種共鳴器。特點為管口 有多個不同體積，可以擴展吸聲頻率，通過有源器件調(diào)節(jié)空腔體積，可以動態(tài)調(diào)整共鳴器吸 聲頻率。
[0008] 現(xiàn)有技術中所使用的另一種降噪方式就是有源消聲技術。一般來說，傳統(tǒng)的噪聲 控制方法對控制中高頻噪聲較為有效，而對低頻噪聲的控制效果不大，如果要做到很好的 控制，將比較昂貴，甚至不可能。原因是涉及波長很長，如果用無源控制，吸聲材料要很厚， 消聲器要很大，彈性材料(用于隔振）要很軟，很厚。早在20世紀30年代，就萌發(fā)了有源控 制的概念，由于電子設備和控制理論的限制，這種系統(tǒng)也無法推廣。近30年，有源噪聲和控 制成為聲學，特別是噪聲控制理論發(fā)展是有源控制成為可能。其原理主要是用換能器發(fā)出 反相噪聲以抵消原有噪聲，從而達到噪聲降低的目的，控制噪聲則用電子方法從原有噪聲 的測量中取得，如此而已。這個簡單概念用了大半個世紀，還要繼續(xù)努力才能實現(xiàn)。有源控 制只適用于低頻（500Hz以下)，高頻在空間相位變化大，就不容易控制了。有源噪聲控制 是利用一個或多個次級噪聲源發(fā)出噪聲以抑制原有噪聲。次級噪聲源使用電子線路和揚聲 器，其發(fā)出的噪聲功率須大于原有噪聲源的噪聲功率，才能實現(xiàn)控制。
[0009] 如專利US20090195763中設計了多種類型有源消聲器(前饋式)，以用于降低噪聲 對光刻機系統(tǒng)的影響。由于工件臺掩模臺運動產(chǎn)生聲波，氣流和其他擾動，可能會對投影系 統(tǒng)產(chǎn)生影響，通過布置一系列揚聲器，以減小這些擾動對設備的影響。通過傳感器SE探測 系統(tǒng)氣浴管道中的噪聲，通過控制系統(tǒng)C0N驅(qū)動揚聲器ACT，產(chǎn)生次級噪聲，抵消原噪聲，降 低氣浴噪聲產(chǎn)生的影響。多個傳感器和多個揚聲器通過一個控制系統(tǒng)控制，降低噪聲對物 鏡的影響。基礎框架等外部結構在激勵下會輻射噪聲，有源消聲系統(tǒng)布置在主機板附近吸 收噪聲，以降低噪聲對主機板的影響。通過在水平校準器PSE附近布置傳聲器，通過控制系 統(tǒng)，可以降低噪聲對測量儀器的影響。通過在垂直校準STA附近布置傳聲器，通過控制系 統(tǒng)，可以降低噪聲對測量儀器的影響。
[0010] 現(xiàn)有技術中所使用的再一種降噪方式就是吸聲技術。聲波通過媒質(zhì)或入射到媒質(zhì) 分界面上時聲能的減少過程，稱為吸聲或吸收。當媒質(zhì)分界面為材料(結構)表面時，部分聲 能被吸收，稱為吸聲。任何材料(結構）由于它的多孔性、薄膜作用或共振作用，對入射聲能 或多或少都有吸聲能力。
[0011] 如專利US20090195760中所示，吸聲板13, 14, 15, 16放置在掩膜臺和物鏡周圍。專 利CN102332259,其通過壓電薄膜的壓電效應來調(diào)節(jié)壓電膜結構的孔徑大小，從而達到調(diào)節(jié) 吸聲性能的目的；專利CN102646414,公開了一種基于微穿孔板和腔內(nèi)共振系統(tǒng)的組合吸 聲裝置，通過調(diào)整微穿孔板的孔徑及空腔深度來調(diào)整吸聲頻率的帶寬。專利CN102044239 通過彈簧或者彈性材料的調(diào)節(jié)方法來調(diào)節(jié)空腔深度，從而改變微穿孔板的吸聲性能。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0012] 為了克服現(xiàn)有技術中的缺陷，本發(fā)明提供一種用于光刻機的吸聲結構裝置，其吸 聲能力可以根據(jù)本發(fā)明所提出的角度、深度調(diào)節(jié)機構根據(jù)實際環(huán)境噪聲進行調(diào)節(jié)，從而達 到最佳吸聲效果。
[0013] 為了實現(xiàn)發(fā)明目的，本發(fā)明公開一種用于光刻設備的吸聲裝置，其特征在于，該吸 聲裝置包括一弧形微穿孔板以及支撐該弧形微穿孔板的調(diào)節(jié)裝置組成，該弧形微穿孔板上 包括若干微穿孔，該調(diào)節(jié)裝置與該微穿孔板球鉸鏈連接；所述調(diào)節(jié)裝置調(diào)節(jié)所述微穿孔板 相對于被吸聲器件的距離及角度。
[0014] 更進一步地，該調(diào)節(jié)裝置的數(shù)量為大于等于三個。
[0015] 更進一步地，該調(diào)節(jié)裝置包括一連接桿與位于該連接桿外部的套筒組成。
[0016] 更進一步地，該連接桿與該套筒通過若干調(diào)節(jié)定位孔保持相對位置固定。
[0017] 更進一步地，該連接桿與該套筒通過螺紋保持相對位置固定。
[0018] 更進一步地，該套筒包括一支撐單元以及位于所示支撐單元上方的一調(diào)節(jié)腔，該 支撐單元與該調(diào)節(jié)腔之間通過一移動板連接。
[0019] 更進一步地，該套筒包括一支撐單元以及第一第二調(diào)節(jié)腔，該第一第二調(diào)節(jié)腔之 間通過一移動板連接。
[0020] 更進一步地，該微穿孔板的材料可以是以下材料中的一種或幾種