光學(xué)濾片的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種光學(xué)濾片，尤其是一種具備有相對(duì)的主表面的玻璃基板，以及在 所述的玻璃基板的至少一面主表面設(shè)有多層薄膜的光學(xué)濾片。
【背景技術(shù)】
[0002] AR膜是一種光學(xué)薄膜，稱(chēng)為減反射膜，又可稱(chēng)為增透膜；廣泛用于減少或消除透 鏡、棱鏡、平面鏡等光學(xué)濾片表面的反射光，從而增強(qiáng)這些光學(xué)元件的透光量。隨著光電技 術(shù)的發(fā)展，為了更好的提高光透過(guò)玻璃的能力，減少光的反射，在一些光學(xué)濾片的基板，諸 如藍(lán)玻璃的基礎(chǔ)上加鍍防反AR膜，并且從原先的單面AR鍍膜，發(fā)展到現(xiàn)在的雙面AR鍍膜。 由于上述光學(xué)濾片通常需要達(dá)到較高如99. 9%以上的透過(guò)率，就必須消除基板正面和背面 的反射，故要在基板正反兩面均鍍AR膜，即雙面AR鍍膜，通過(guò)對(duì)已經(jīng)制備出的雙面AR鍍膜 藍(lán)玻璃濾光片進(jìn)行檢測(cè)發(fā)現(xiàn)，其可視區(qū)域內(nèi)的透過(guò)率的確能夠滿(mǎn)足要求。
[0003] 但是，本發(fā)明創(chuàng)造的發(fā)明人在制備上述光學(xué)濾片的過(guò)程中發(fā)現(xiàn)，由于薄膜（AR鍍 膜）與藍(lán)玻璃基板間應(yīng)力大等的原因會(huì)遇到膜缺陷多發(fā)這樣的難題。這里的膜缺陷是指玻 璃基板上完整的薄膜間有一塊大小在幾十微米的薄膜塊（下稱(chēng)細(xì)微膜塊）脫落的現(xiàn)象，利 用光學(xué)顯微鏡和/或電子顯微鏡即能得到驗(yàn)證，參看圖1。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 本發(fā)明的任務(wù)在于解決制備光學(xué)濾片時(shí)鍍膜易出現(xiàn)上述膜缺陷的問(wèn)題，提供一種 光學(xué)濾片。
[0005] 其技術(shù)解決方案是：
[0006] -種光學(xué)濾片，其具備有相對(duì)的主表面的玻璃基板，以及在所述的玻璃基板的至 少一面主表面設(shè)有多層薄膜，所述的玻璃基板的厚度范圍為0. 15~1.0 mm ;以及
[0007] 所述的玻璃基板的熱膨脹系數(shù)，與所述的多層薄膜的各薄膜的熱膨脹系數(shù)的差， 都小于 10(V(X10 7/°c )。
[0008] 優(yōu)選地，上述的玻璃基板的熱膨脹系數(shù)為50~20(V(X 10 7°C )。
[0009] 優(yōu)選地，上述的玻璃基板為磷酸系玻璃，或氟磷酸系玻璃。
[0010] 優(yōu)選地，在上述的相對(duì)的主表面都設(shè)有所述的多層薄膜。
[0011] 優(yōu)選地，上述的多層薄膜為反射防止膜（AR膜）。
[0012] 優(yōu)選地，上述的反射防止膜從所述的主表面至少依次由高折射率物質(zhì)層、低折射 率物質(zhì)層、高折射率物質(zhì)層與低折射率物質(zhì)層組成；較為優(yōu)選地，上述的高折射率物質(zhì)層、 低折射率物質(zhì)層、高折射率物質(zhì)層與低折射率物質(zhì)層依次為L(zhǎng)aTiO 3層、MgF2層、LaTiO3層 與MgF2層；更為優(yōu)選地，上述的LaTiO 3層、MgF2層、LaTiO3層與MgF2層的厚度依次為10~ 20nm、20 ~40nm、120 ~140nm、與 80 ~100nm。
[0013] 優(yōu)選地，上述的反射防止膜從所述的主表面至少依次由高折射率物質(zhì)層、中折射 率物質(zhì)層、高折射率物質(zhì)層與低折射率物質(zhì)層組成；較為優(yōu)選地，上述的高折射率物質(zhì)層、 中折射率物質(zhì)層、高折射率物質(zhì)層與低折射率物質(zhì)層依次為L(zhǎng)aTiO3層、Al2O3層、LaTiO 3層 與MgF2層；更為優(yōu)選地，上述的LaTiO3層、Al2O3層、LaTiO 3層與MgF2層的厚度依次為3~ 15nm、40 ~70nm、110 ~130nm、與 80 ~100nm。
[0014] 本發(fā)明具有以下有益技術(shù)效果：
[0015] 發(fā)明人依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案分別制備了十余個(gè)批次、且每個(gè)批次不少于1000 件的單面AR鍍膜或雙面AR鍍膜光學(xué)濾片，并利用光學(xué)顯微鏡和/或電子顯微鏡對(duì)這些光 學(xué)濾片逐件進(jìn)行檢測(cè)，初步驗(yàn)證本發(fā)明光學(xué)濾片出現(xiàn)脫落細(xì)微膜塊的膜缺陷率均有大幅度 降低，尤其是雙面AR鍍膜光學(xué)濾片出現(xiàn)脫落細(xì)微膜塊的膜缺陷率至少降低了 80 %。
【附圖說(shuō)明】
[0016] 下面結(jié)合附圖與【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明作更進(jìn)一步的說(shuō)明：
[0017] 圖1為現(xiàn)有的雙面AR鍍膜光學(xué)濾片的電子顯微鏡圖片，圖中的微小片狀物為脫落 的細(xì)微膜塊。
【具體實(shí)施方式】
[0018] -種光學(xué)濾片，其具備有相對(duì)的主表面的玻璃基板，以及在所述的玻璃基板的 至少一面主表面設(shè)有多層薄膜，所述的玻璃基板的厚度范圍為〇. 15~1.0 mm ;以及，所述 的玻璃基板的熱膨脹系數(shù)，與所述的多層薄膜的各薄膜的熱膨脹系數(shù)的差，都小于100/ (X 10 7/°C )。上述的玻璃基板的熱膨脹系數(shù)為50~20(V(X 10 7/°C )。在上述的相對(duì)的 主表面都設(shè)有所述的多層薄膜。上述的多層薄膜為反射防止膜（AR膜）。在此基礎(chǔ)上，可以 有以下兩種更進(jìn)一步的技術(shù)方案：
[0019] 其中的一種更進(jìn)一步的技術(shù)方案是：上述的反射防止膜從所述的主表面至少依次 由高折射率物質(zhì)層、低折射率物質(zhì)層、高折射率物質(zhì)層與低折射率物質(zhì)層組成。優(yōu)選地，上 述的高折射率物質(zhì)層、低折射率物質(zhì)層、高折射率物質(zhì)層與低折射率物質(zhì)層依次為L(zhǎng)aTiO 3 層、MgF2層、LaTiO3層與MgF2層；更為優(yōu)選地，上述的LaTiO 3層、MgF2層、LaTiO3層與MgF2 層的厚度依次為10~20nm、20~40nm、120~140nm、與80~100nm。
[0020] 其中的另一種更進(jìn)一步的技術(shù)方案是：上述的反射防止膜從所述的主表面至少 依次由高折射率物質(zhì)層、中折射率物質(zhì)層、高折射率物質(zhì)層與低折射率物質(zhì)層組成。優(yōu)選 地,上述的高折射率物質(zhì)層、中折射率物質(zhì)層、高折射率物質(zhì)層與低折射率物質(zhì)層依次為 LaTiO3層、Al2O3層、LaTiO3層與MgF 2層；更為優(yōu)選地，上述的LaTiO3層、Al2O3層、LaTiO 3層 與MgF2層的厚度依次為3~15nm、40~70nm、110~130nm、與80~100nm。
[0021] 實(shí)施例1
[0022] -種光學(xué)濾片，是在玻璃基板雙面AR鍍膜制成的。
[0023] 上述玻璃基板選為磷酸系玻璃，或氟磷酸系玻璃。
[0024] 上述AR膜，依次由LaTiO3層、MgF2層、LaTiO 3層與MgF2層組成。LaTiO3即H4，其 商品名：Substance H4granules about0.1_2mm Patinal。上述各膜層的厚度依次為10~ 20nm、20 ~40nm、120 ~140nm、與 80 ~100nm。
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