防塵薄膜組件框架以及防塵薄膜組件的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及IC(IntegratedCircuit)，LSI(LargeScaleIntegration)等的半導(dǎo) 體集成電路或LCD(LiquidCrystalDisplay)等的液晶表示裝置的制造時(shí)，作為光刻用光 掩模的異物防止器的防塵薄膜組件的防塵薄膜組件框架以及防塵薄膜組件。
【背景技術(shù)】
[0002] 在IC，LSI等的半導(dǎo)體集成電路以及IXD等的液晶表不裝置等的制造中，通過(guò)曝光 工程光刻來(lái)進(jìn)行圖案的制作。此時(shí)所用的曝光原板（光刻用光掩模）上如有異物附著，就 會(huì)在曝光圖案的轉(zhuǎn)印的同時(shí)，附著的異物的圖像也會(huì)轉(zhuǎn)印，就會(huì)使圖案的尺寸，品質(zhì)，外觀 等受損，光刻工程的制造成品率降低。
[0003] 由此，這些操作通常在無(wú)塵室內(nèi)進(jìn)行。但是，即使在該無(wú)塵室內(nèi)，也難以經(jīng)常保持 曝光原板的清潔。因此，要采用在曝光原板上貼附被叫做防塵薄膜組件的使曝光用的光良 好透過(guò)的防止異物的方法。如此這樣，異物就不會(huì)在曝光原版直接附著，而是在防塵膜上上 附著。由此，在光刻時(shí)將焦點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)曝光原版的圖案上即可。防塵膜上的異物對(duì)轉(zhuǎn)印就沒(méi)有 的影響了。
[0004] 防塵薄膜組件基本上，包括，使曝光用光良好透過(guò)的由硝酸纖維素，醋酸纖維素， 氟系聚合物等構(gòu)成的防塵膜；進(jìn)行了黑色氧化膜處理的鋁合金以及不銹鋼，聚乙烯等構(gòu)成 的防塵薄膜組件框架；由聚丁烯樹(shù)脂，聚醋酸乙烯基樹(shù)脂，丙烯酸樹(shù)脂以及硅樹(shù)脂等構(gòu)成 的，使防塵薄膜組件在曝光原版上裝著的粘著劑層以及對(duì)粘著劑層進(jìn)行保護(hù)的襯層。
[0005] 防塵膜，是在防塵薄膜組件框架的上端面涂布防塵膜的良溶媒，在防塵膜與防塵 薄膜組件框架密著后，風(fēng)干接著（專利文獻(xiàn)1參照），或用丙烯酸樹(shù)脂，環(huán)氧樹(shù)脂以及氟樹(shù)脂 等的接著劑進(jìn)行接著（專利文獻(xiàn)2, 3參照），粘著劑層在防塵薄膜組件框架的下端面形成。
[0006] 在此，防塵薄膜組件框架上使用的鋁合金被施以黑色氧化膜處理的目的，是防止 曝光的光在防塵薄膜組件框架上反射，另外，還使防塵薄膜組件的異物檢查容易。因此，一 般以防塵薄膜組件框架為黑色為優(yōu)選。
[0007] 防塵薄膜組件，以將曝光原版的表面上形成的圖案領(lǐng)域進(jìn)行覆蓋的方式裝著。防 塵薄膜組件覆蓋的圖案領(lǐng)域被與外部隔離，從而防止在防塵薄膜組件外部發(fā)生的塵埃等的 異物直接在曝光原版上附著。
[0008] 近年，伴隨著LSI的進(jìn)一步高集成化，曝光光源的短波長(zhǎng)化正在進(jìn)行，曝光光源的 主流也從水銀燈的g線（436nm)，i線（365nm)，向KrF準(zhǔn)分子激光（248nm)，ArF準(zhǔn)分子激 光（193nm)變化。
[0009] 但是，將曝光光源短波長(zhǎng)化，由于曝光的光的能量會(huì)變高，曝光氛圍氣中存在的氣 體狀物質(zhì)會(huì)發(fā)生反應(yīng)，在光掩模基板上發(fā)生被稱為霧狀物（haze)的異物的可能性會(huì)變高。
[0010] 因此，就要采用極力使無(wú)塵室內(nèi)的氣體狀物質(zhì)減少，對(duì)光掩模進(jìn)行充分地清洗，使 防塵薄膜組件的構(gòu)成物質(zhì)變?yōu)榈桶l(fā)氣性等的對(duì)策。
[0011] 但是，即使采用光掩模的清洗以及防塵薄膜組件的構(gòu)成物質(zhì)的低發(fā)氣化，也難以 完全防止光掩?；迳系撵F狀物（haze)的發(fā)生。
[0012] 例如，在作為防塵薄膜組件框架使用的鋁合金的表面上形成的陽(yáng)極氧化皮膜中會(huì) 有硫酸，硝酸，有機(jī)酸等的酸性成分。這些酸性成分從陽(yáng)極氧化皮膜中脫離，曝光環(huán)境下在 防塵薄膜組件和光掩模構(gòu)成的封閉空間內(nèi)進(jìn)行反應(yīng)，會(huì)產(chǎn)生硫酸銨等的硫氧化合物。如此 生成的硫氧化合物，會(huì)在光掩?；迳细街?，霧狀物（haze)從而發(fā)生。如此霧狀物（haze) 的發(fā)生，半導(dǎo)體制造中的成品率就會(huì)變低。
[0013] 因此，為了對(duì)霧狀物（haze)的發(fā)生進(jìn)行抑制，可以采用通過(guò)將施以陽(yáng)極氧化處理 的防塵薄膜組件框架在純水中進(jìn)行超聲波清洗，來(lái)將陽(yáng)極氧化皮膜中的酸性成分除去的方 法（專利文獻(xiàn)4參照）。另外，還有不用陽(yáng)極氧化被膜，設(shè)置用電著涂裝得到的聚合物被膜 的方法（專利文獻(xiàn)5參照）以及金屬鍍附的方法（專利文獻(xiàn)6參照），使用無(wú)著色的鋁合金 的方法（專利文獻(xiàn)7參照）等。
[0014] 但是，如不使用專利文獻(xiàn)6記載那樣的黑色氧化膜處理而使用電鍍的鋁以及專利 文獻(xiàn)7記載的那樣的無(wú)著色的鋁作為防塵薄膜組件框架的話，異物檢查的容易性就會(huì)變 差。另外，專利文獻(xiàn)5記載的那樣的用氧化鐵，二氧化鈦，炭黑等的黑色顏料進(jìn)行著色的聚 合物對(duì)防塵薄膜組件框架被覆的場(chǎng)合，從發(fā)塵性的觀點(diǎn)來(lái)看，不好。
[0015]【先行技術(shù)文獻(xiàn)】
[0016]【專利文獻(xiàn)】
[0017]【專利文獻(xiàn)1】特開(kāi)昭58-219023號(hào)公報(bào)
[0018]【專利文獻(xiàn)2】美國(guó)專利第4861402號(hào)說(shuō)明書
[0019]【專利文獻(xiàn)3】特公昭63-27707號(hào)公報(bào)
[0020]【專利文獻(xiàn)4】特開(kāi)2006-184822號(hào)公報(bào)
[0021]【專利文獻(xiàn)5】特開(kāi)2007-333910號(hào)公報(bào)
[0022] 【專利文獻(xiàn)6】特開(kāi)2010-211021號(hào)公報(bào)
[0023]【專利文獻(xiàn)7】特開(kāi)2009-276521號(hào)公報(bào)
[0024] 本發(fā)明就是鑒于所述那樣的問(wèn)題而成的。本發(fā)明的目的，是提供一種通過(guò)使從 防塵薄膜組件框架放出的硫酸離子以及銨離子等減少，從而在曝光環(huán)境下，減少霧狀物 (haze)的發(fā)生的防塵薄膜組件框架以及防塵薄膜組件。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0025] 為了達(dá)成所述目的，本發(fā)明提供一種構(gòu)成光刻用的防塵薄膜組件的防塵薄膜組件 框架，其特種在于，所述防塵薄膜組件框架，被用含有對(duì)二甲苯系聚合物的層被覆。
[0026] 如此，本發(fā)明的防塵薄膜組件框架，由于被用含有對(duì)二甲苯系聚合物的層被覆，可 以減少防塵薄膜組件框架放出的硫酸離子以及銨離子等的成為霧狀物（haze)發(fā)生的原因 物質(zhì)的量，從而可以在曝光環(huán)境下，減少霧狀物（haze)的發(fā)生。
[0027] 在此，作為所述對(duì)二甲苯系聚合物，以含有聚對(duì)二甲苯的鹵素衍生物為優(yōu)選，特別 是，含有聚氯代對(duì)二甲苯為更優(yōu)選。
[0028] 如此，從防塵薄膜組件框架放出的硫酸離子以及銨離子等的霧狀物（haze)發(fā)生 的原因物質(zhì)的量就會(huì)確實(shí)地減少，在曝光環(huán)境下，霧狀物（haze)的發(fā)生就會(huì)確實(shí)的減少。
[0029] 此時(shí)，所述含有對(duì)二甲苯系聚合物的層，以在可見(jiàn)光領(lǐng)域中透明為優(yōu)選。如此，所 述含有對(duì)二甲苯系聚合物層，如在可見(jiàn)光領(lǐng)域中透明的話，就可以得到可以抑制在防塵薄 膜組件框架上的曝光光的反射，并且對(duì)異物檢查也有利的防塵薄膜組件。
[0030] 此時(shí)，所述含有對(duì)二甲苯系聚合物的層可以為化學(xué)蒸鍍形成之物。如此，含有對(duì)二 甲苯系聚合物的層可以由化學(xué)蒸鍍來(lái)形成。
[0031] 此時(shí)，所述防塵薄膜組件框架的基材，以黑色系的材料為優(yōu)選。如此，防塵薄膜組 件框架中使用的基材，如是黑色系的材料的話，就可以得到，在防塵薄膜組件框架上的曝光 光的反射被抑制，并且，異物檢查中也有利的防塵薄膜組件。
[0032] 此時(shí)，所述防塵薄膜組件框架的基材，使用施以黑色氧化膜處理的鋁合金。如此， 對(duì)在防塵薄膜組件框架中使用的基材，進(jìn)行黑色氧化膜處理，這樣就可以更加確實(shí)地使在 防塵薄膜組件框架上的發(fā)生的曝光光反射被抑制，并且，在異物檢查中也有利的防塵薄膜 組件。
[0033] 因此，本發(fā)明提供一種由防塵薄膜組件框架和在該防塵薄膜組件框架上繃緊設(shè)置 的防塵膜構(gòu)成的光刻用的防塵薄膜組件，其特征在于，所述防塵薄膜組件框架為上述那樣 的防塵薄膜組件框架。
[0034] 如此，本發(fā)明的防塵薄膜組件框架構(gòu)成的防塵薄膜組件，使用在曝光環(huán)境下的霧 狀物（haze)的發(fā)生被抑制的本發(fā)明的防塵薄膜組件框架，成為光掩?；迳系撵F狀物 (haze)的發(fā)生被抑制的防塵薄膜組件。
[0035]【發(fā)明的效果】
[0036] 本發(fā)明的防塵薄膜組件框架，被含有對(duì)二甲苯系聚合物的層被覆，由此防塵薄膜 組件框架放出的硫酸離子以及銨離子等的霧狀物（haze)發(fā)生的原因物質(zhì)的量可以得到減 少，在曝光環(huán)境下，霧狀物（haze)的發(fā)生可以得到減少。
[0037]另外，本發(fā)明的防塵薄膜組件，使用在曝光環(huán)境下的霧狀物（haze)的發(fā)生被抑制 的本發(fā)明的防塵薄膜組件框架，光刻中光為掩?；迳系撵F狀物（haze)的發(fā)生被得到抑 制的防塵薄膜組件。
【附圖說(shuō)明】
[0038] 附圖表示了本發(fā)明的防塵薄膜組件的構(gòu)成例的概略圖。
【具體實(shí)施方式】
[0039] 以下，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明，但是本發(fā)明不限于此。
[0040] 如上述那樣，在作為防塵薄膜組件框架使用的鋁合金的表面形成的陽(yáng)極氧化皮 膜中具有硫酸，硝酸，有機(jī)酸等的酸性成分，它們從陽(yáng)極氧化皮膜中脫離，在曝光環(huán)境下， 會(huì)在防塵薄膜組件和光掩模的封閉空間內(nèi)反應(yīng)，從而硫酸銨等的硫酸化合物生成，霧狀物 (haze)發(fā)生。
[0041] 因此，本發(fā)明為解決上述那樣的問(wèn)題進(jìn)行了充分的研究，得知如果對(duì)防塵薄膜組 件框架用含有對(duì)二甲苯系聚合物的層被覆，從防