顯示面板的制作方法、顯示面板及顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示面板的制作方法、顯示面板及顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]液晶顯示面板(TFT-1XD)具有顯示質(zhì)量高、功耗低、無(wú)輻射等優(yōu)點(diǎn)，近幾年發(fā)展十分迅速，并在各個(gè)領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用，現(xiàn)有的液晶顯示面板主要包括陣列基板、彩膜基板和液晶層，在現(xiàn)有的液晶顯示面板制作工藝中，需要在彩膜基板以及陣列基板(TFT基板)上涂布一層取向膜(PI膜)，從而實(shí)現(xiàn)顯示。
[0003]圖1是現(xiàn)有技術(shù)中在陣列基板母板上制作取向膜的示意圖，陣列基板母板100’包括多個(gè)陣列基板110’，每個(gè)陣列基板110’上均包括位于陣列基板周邊的壓接區(qū)域111’(即Pad區(qū)域)和顯示區(qū)域(虛線框112’內(nèi)的區(qū)域)，各陣列基板上的取向膜120’是分別采用涂布方式單獨(dú)形成的，隨著液晶顯示技術(shù)的發(fā)展，TFT-LCD窄邊框產(chǎn)品的需求越來(lái)越大，然而，由于窄邊框工藝要求更小的取向膜邊緣余量(Edge Margin)，邊框越窄，取向膜越易涂布到位于陣列基板周邊的壓接區(qū)域上，從而造成對(duì)盒測(cè)試(Cell Test)時(shí)的點(diǎn)燈異常和模組焊接(Bonding)異常，同時(shí)，由于目前制作的取向膜其邊緣處均會(huì)產(chǎn)生厚度不均(Halo)的區(qū)域，越小的取向膜邊緣余量(Edge Margin)，所制作的取向膜的邊緣距離顯示區(qū)域越近，從而容易造成面板周邊不良發(fā)生。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004](一 )要解決的技術(shù)問(wèn)題
[0005]本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是:提供一種顯示面板的制作方法、顯示面板及顯示裝置，能夠避免取向膜厚度不均的邊緣區(qū)域造成面板周邊顯示不良，且還能避免取向膜覆蓋在壓接區(qū)域上造成對(duì)盒測(cè)試時(shí)的點(diǎn)燈異常和模組焊接異常。
[0006]( 二)技術(shù)方案
[0007]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明的技術(shù)方案提供了一種顯示面板的制作方法，包括:
[0008]在陣列基板母板上整面形成取向膜，所述陣列基板母板包括至少一個(gè)陣列基板，每一個(gè)所述陣列基板上設(shè)置有壓接區(qū)域；
[0009]將所述陣列基板母板與彩膜基板母板進(jìn)行對(duì)盒，形成顯示面板母板，所述彩膜基板母板包括與所述陣列基板母板上陣列基板一一對(duì)應(yīng)的彩膜基板；
[0010]對(duì)所述顯示面板母板進(jìn)行切割；
[0011]去除所述壓接區(qū)域上的取向膜。
[0012]優(yōu)選地，所述去除所述壓接區(qū)域上的取向膜的步驟位于所述切割之后；
[0013]所述切割后，所述壓接區(qū)域上的取向膜暴露出，所述去除所述壓接區(qū)域上的取向膜包括:對(duì)于每一個(gè)陣列基板，以其上的彩膜基板為遮擋從而去除其上壓接區(qū)域上的取向膜。
[0014]優(yōu)選地，所述去除所述壓接區(qū)域上的取向膜的步驟位于所述對(duì)盒之前；
[0015]所述去除所述壓接區(qū)域上的取向膜包括:
[0016]在所述陣列基板母板上形成光刻膠圖案，所述光刻膠圖案包括光刻膠去除區(qū)域和光刻膠保留區(qū)域，所述光刻膠去除區(qū)域?qū)?yīng)所述壓接區(qū)域；
[0017]去除所述光刻膠去除區(qū)域的取向膜后剝離所述光刻膠圖案。
[0018]優(yōu)選地，所述陣列基板母板包括多個(gè)陣列基板。
[0019]優(yōu)選地，采用濕刻工藝去除所述壓接區(qū)域上的取向膜。
[0020]優(yōu)選地，所述濕刻工藝采用的溫度為60攝氏度?70攝氏度。
[0021]優(yōu)選地，采用干刻工藝去除所述壓接區(qū)域上的取向膜。
[0022]優(yōu)選地，所述干刻工藝采用的反應(yīng)氣體包括以下的至少一種:六氟化硫、氧氣。
[0023]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明還提供了一種顯示面板，所述顯示面板采用上述的制作方法制成。
[0024]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明還提供了一種顯示裝置，包括上述的顯示面板。
[0025](三)有益效果
[0026]本發(fā)明提供的顯示面板的制作方法，通過(guò)在陣列基板母板上整面形成取向膜，使所形成的取向膜厚度不均的邊緣區(qū)域能夠遠(yuǎn)離陣列基板的顯示區(qū)域，而后再去除陣列基板壓接區(qū)域上的取向膜，不但能夠避免取向膜厚度不均的邊緣區(qū)域造成面板周邊顯示不良，而且還能避免取向膜覆蓋在壓接區(qū)域上造成對(duì)盒測(cè)試時(shí)的點(diǎn)燈異常和模組焊接異常。
【附圖說(shuō)明】
[0027]圖1是現(xiàn)有技術(shù)中在陣列基板母板上制作取向膜的示意圖；
[0028]圖2是本發(fā)明實(shí)施方式提供的一種顯示面板的制作方法的流程圖；
[0029]圖3?6是本發(fā)明實(shí)施方式提供的一種制作顯示面板的示意圖；
[0030]圖7是本發(fā)明實(shí)施方式提供的一種采用濕刻工藝去除壓接區(qū)域上取向膜的示意圖；
[0031]圖8是本發(fā)明實(shí)施方式提供的另一種顯示面板的制作方法的流程圖。
【具體實(shí)施方式】
[0032]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)施例用于說(shuō)明本發(fā)明，但不用來(lái)限制本發(fā)明的范圍。
[0033]本發(fā)明實(shí)施方式提供了一種顯示面板的制作方法，包括:
[0034]在陣列基板母板上整面形成取向膜，所述陣列基板母板包括至少一個(gè)陣列基板，每一個(gè)所述陣列基板上設(shè)置有壓接區(qū)域；
[0035]將所述陣列基板母板與彩膜基板母板進(jìn)行對(duì)盒，形成顯示面板母板，所述彩膜基板母板包括與所述陣列基板母板上陣列基板一一對(duì)應(yīng)的彩膜基板；
[0036]對(duì)所述顯示面板母板進(jìn)行切割；
[0037]去除所述壓接區(qū)域上的取向膜。
[0038]本發(fā)明實(shí)施方式提供的顯示面板的制作方法，通過(guò)在陣列基板母板上整面形成取向膜，使所形成的取向膜厚度不均的邊緣區(qū)域能夠遠(yuǎn)離陣列基板的顯示區(qū)域，而后再去除陣列基板壓接區(qū)域上的取向膜，不但能夠避免取向膜厚度不均的邊緣區(qū)域造成面板周邊顯示不良，而且還能避免取向膜覆蓋在壓接區(qū)域上造成對(duì)盒測(cè)試時(shí)的點(diǎn)燈異常和模組焊接異常。
[0039]其中，在本發(fā)明實(shí)施方式提供的顯示面板的制作方法中，去除壓接區(qū)域上的取向膜的步驟可以位于對(duì)盒之前，也可以位于切割之后。
[0040]參見(jiàn)圖2，圖2是本發(fā)明實(shí)施方式提供的一種顯示面板的制作方法的流程圖，該制作方法包括S11?S14 ；
[0041]S11:在陣列基板母板上整面形成取向膜，所述陣列基板母板包括至少一個(gè)陣列基板，每一個(gè)所述陣列基板上設(shè)置有壓接區(qū)域；
[0042]例如，對(duì)于圖3所示的陣列基板母板，其上形成有多個(gè)陣列基板(TFT基板)110，每一個(gè)陣列基板上設(shè)置有顯示區(qū)域(虛線框112內(nèi)的區(qū)域)以及壓接區(qū)域(Pad區(qū)域)111，在該陣列基板母板上涂布形成取向膜時(shí)，不需再對(duì)取向膜的圖案以及邊緣余量(EdgeMargin)進(jìn)行管控，只需采用全涂布的方式在該陣列基板母板的整面上涂覆取向液，再進(jìn)行固化(包括預(yù)固化和主固化)工藝，從而如圖4所示在該陣列基板母板的整面上制作取向膜120，從圖4可以看出，由于取向膜120在陣列基板母板整面形成，其邊緣距離各陣列基板的顯示區(qū)域較遠(yuǎn)，即使在固化的過(guò)程中取向膜的邊緣處產(chǎn)生厚度不均的區(qū)域，也不會(huì)對(duì)顯示區(qū)域造成不良影響；
[0043]S12:將經(jīng)過(guò)步驟S11處理后的陣列基板母板與彩膜基板母板進(jìn)行對(duì)盒，形成顯示面板母板，所述彩膜基板母板包括與所述陣列基板母板上陣列基板一一對(duì)應(yīng)的彩膜基板(CF基板);