mm的棒是必要的。在此情況下，當(dāng)形成光學(xué)積分器6的玻璃材料的內(nèi)部透 射率設(shè)置為99. 5% /cm時(shí)，與L= 300mm的情況相比，光量損失增大約4%。當(dāng)光量損失增 大時(shí)，其中使用照明光學(xué)設(shè)備的曝光裝置的吞吐量惡化。
[00%] 成像倍率β的減小意味著光通過該減小被集中在特定區(qū)域上。從而，在光學(xué)積分 器6的入射端面上的光功率可增大，因此有可能光學(xué)積分器6的耐久性受到影響。因此，在 本實(shí)施例中，通過使用波長(zhǎng)濾波器4縮窄從光源1發(fā)射的光的波長(zhǎng)帶來限制光功率。W下， 將描述該原理。
[0027] 一般而言，波長(zhǎng)濾波器是其中在平行板中形成電介質(zhì)多層的濾波器，并且透射波 長(zhǎng)通過光的入射角度而改變。圖2是示出當(dāng)透射波長(zhǎng)確定時(shí)帶通濾波器的透射率特性的 圖。圖2示出作為中屯、波長(zhǎng)λ。的峰值透射率波長(zhǎng)并且示出垂直入射到電介質(zhì)多層上的光 和傾斜入射到電介質(zhì)多層上的光的入射角度與透射波長(zhǎng)之間的關(guān)系。如從圖2所理解的， 傾斜入射光的最大透射率比垂直入射光的最大透射率小。當(dāng)改變光的入射角時(shí)，電介質(zhì)多 層中的光路長(zhǎng)度的差減小，因此中屯、波長(zhǎng)移動(dòng)到短波長(zhǎng)一側(cè)。此外，角度分布不擴(kuò)張的光應(yīng) 當(dāng)入射到波長(zhǎng)濾波器上。例如，通過圖2中的Λ指示的波長(zhǎng)區(qū)域（具體而言，也包括透射 率分布的下部）透過并變成包括除希望波長(zhǎng)W外的許多波長(zhǎng)的分布。因此，將波長(zhǎng)濾波器 分配在如在光學(xué)積分器6的入射端面中光角度分布擴(kuò)張的位置（地方）是不現(xiàn)實(shí)的。光角 度分布不擴(kuò)張的位置意味著位置分布根據(jù)赫姆霍茲-拉格朗日不變量擴(kuò)張的地方。也就是 說，射束有效直徑大于光學(xué)積分器6的入射端面的位置作為布置波長(zhǎng)濾波器的位置是優(yōu)選 的。因此，在該實(shí)施例中，波長(zhǎng)濾波器4被布置在如下光瞳面附近，在該光瞳面中，位置分布 在包括第一中繼透鏡3和第二中繼透鏡5的成像光學(xué)系統(tǒng)中擴(kuò)張。因此，能夠抑制由于減 小包括第一中繼透鏡3和第二中繼透鏡5的成像光學(xué)系統(tǒng)的倍率所造成的對(duì)光學(xué)積分器6 的耐久性的影響。
[002引W運(yùn)種方式，在照明光學(xué)設(shè)備101中，當(dāng)在不減小光學(xué)積分器6的入射端面的截面 面積的情況下維持光學(xué)積分器6在光軸方向上的長(zhǎng)度時(shí)，在光學(xué)積分器6中的內(nèi)反射的次 數(shù)可W增大。從而，在不增大照明光學(xué)設(shè)備101的整體配置的情況下，照明面的照度的惡化 被抑制且照度的均勻性可W提高。
[0029] 在該實(shí)施例中，如上所述，能夠在不增大其尺寸的情況下提供有利于照明面的高 照度和均勻照明的照明光學(xué)設(shè)備。在包括照明光學(xué)設(shè)備的曝光裝置中，能夠在對(duì)確保內(nèi)部 空間有利的同時(shí)用更高精度實(shí)現(xiàn)圖案轉(zhuǎn)印。
[0030] (第二實(shí)施例）
[0031] 接下來，將描述根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例的照明光學(xué)設(shè)備。圖3是示出根據(jù)本實(shí) 施例的照明光學(xué)設(shè)備201的配置的示意圖。給予與根據(jù)第一實(shí)施例的照明光學(xué)設(shè)備101的 構(gòu)成元件相同的構(gòu)成元件相同的附圖標(biāo)記，并且其說明將被省略。照明光學(xué)設(shè)備201的特 征在于：替代第一實(shí)施例中采用的第一中繼透鏡3和第二中繼透鏡5,聚光透鏡12被作為 根據(jù)本實(shí)施例的光束形成單元布置在波長(zhǎng)濾波器4(未示出）的后端側(cè)。在此情況下，會(huì)聚 在第二焦點(diǎn)位置F2處的光依次透射通過波長(zhǎng)濾波器4和聚光透鏡12,并且隨后入射到光學(xué) 積分器6上。聚光透鏡12是用作聚光光學(xué)系統(tǒng)的傅里葉變換透鏡。在預(yù)定面上的第二焦 點(diǎn)位置F2和光學(xué)積分器6的入射端面具有傅里葉變換的關(guān)系。當(dāng)?shù)诙裹c(diǎn)位置F2的光束 直徑假設(shè)為D且聚光透鏡12的焦距假設(shè)為f時(shí)，表達(dá)式（3)成立。 陽〇巧[數(shù)學(xué)式引
[0033]
(3)
[0034] 運(yùn)里，光束直徑D是基于光源1和楠圓鏡2的設(shè)計(jì)條件決定的。因此，為了增大光 學(xué)積分器6中的內(nèi)反射的次數(shù)，根據(jù)表達(dá)式（1)和表達(dá)式（3)減小聚光透鏡12的焦距f且 滿足關(guān)系sinΘ2〉sinΘ1是有效的。即使在具有運(yùn)樣的配置的照明光學(xué)設(shè)備201中，也可W 得到如第一實(shí)施例中那樣的相同益處。 陽03引（第S實(shí)施例）
[0036] 接下來，將描述根據(jù)本發(fā)明的第Ξ實(shí)施例的照明光學(xué)設(shè)備。圖4是示出根據(jù)本實(shí) 施例的照明光學(xué)設(shè)備301的配置的示意圖。給予與根據(jù)第一實(shí)施例的照明光學(xué)設(shè)備101的 構(gòu)成元件相同的構(gòu)成元件相同的附圖標(biāo)記，并且其說明將被省略。照明光學(xué)設(shè)備301的特 征在于：替代第一實(shí)施例中采用的第一中繼透鏡3和第二中繼透鏡5,擴(kuò)散構(gòu)件13被作為 根據(jù)本實(shí)施例光束形成單元放置在波長(zhǎng)濾波器4(未示出）的后端側(cè)。在此情況下，會(huì)聚 在第二焦點(diǎn)位置F2處的光依次透射通過波長(zhǎng)濾波器4和擴(kuò)散構(gòu)件13,并且隨后入射到光 學(xué)積分器6上。擴(kuò)散構(gòu)件13是W預(yù)定發(fā)散角0 2發(fā)散入射光（入射光束）的擴(kuò)散板或透 射型衍射光學(xué)元件。當(dāng)使用擴(kuò)散構(gòu)件13時(shí)，為了增大光學(xué)積分器6中的內(nèi)反射的次數(shù)，通 過擴(kuò)散構(gòu)件13增大擴(kuò)散角0 2并且滿足關(guān)系sine2〉sin0i是有效的。即使在具有運(yùn)樣的 配置的照明光學(xué)設(shè)備301中，也可W得到如在第一實(shí)施例中那樣的相同益處。到光學(xué)積分 器6的擴(kuò)散角分布是照明光學(xué)設(shè)備301的照明相干性σ(0值=照明光學(xué)設(shè)備301出射側(cè) 的數(shù)值孔徑/投影光學(xué)系統(tǒng)103的入射側(cè)的數(shù)值孔徑）。因此，在擴(kuò)散構(gòu)件13的遠(yuǎn)場(chǎng)區(qū)域 中，在ΧΥ平面中的分布優(yōu)選為基本上圓形的圖案。在照明光學(xué)設(shè)備301中，不僅擴(kuò)散構(gòu)件 13而且列舉在前述第一和第二實(shí)施例中的成像光學(xué)系統(tǒng)或傅里葉變換透鏡可W組合且布 置W在第二焦點(diǎn)位置F2和光學(xué)積分器6之間使用。
[0037] 在前述的每個(gè)實(shí)施例中，只要滿足各個(gè)上述條件，構(gòu)成元件（諸如中繼透鏡、聚光 透鏡和擴(kuò)散構(gòu)件）的數(shù)量及其布置位置僅是示例而不限于列舉在每個(gè)實(shí)施例中的數(shù)量和 位置。 陽0測(cè)（物品制造方法）
[0039] 根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的制造物品的方法適于制造諸如微型裝置（例如半導(dǎo)體器件） 或具有微結(jié)構(gòu)的元件之類的物品。該制造方法可W包括通過使用上述繪制裝置在涂覆感光 劑的基板的感光劑上形成潛像圖案的步驟（在基板上的繪制步驟），W及顯影其上形成有 潛像圖案的基板的步驟。此外，該制造方法包括其他公知的步驟（例如，氧化、沉積、氣相沉 積、滲雜、平坦化、蝕刻、光刻膠去除、劃片、粘接、封裝等）。根據(jù)本發(fā)明的制造物品的方法在 性能、質(zhì)量、生產(chǎn)率和物品的生產(chǎn)成本中的至少一個(gè)方面優(yōu)于傳統(tǒng)方法。
[0040] 盡管已經(jīng)參考示例性實(shí)施例描述了本發(fā)明，應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明不限于公開的示例 性實(shí)施例。W下權(quán)利要求的范圍應(yīng)被賦予最寬的解釋，W包含所有運(yùn)類修改及等同結(jié)構(gòu)和 功能。
[0041] 本申請(qǐng)要求2014年9月22日提交的日本專利申請(qǐng)No. 2014-192436的優(yōu)先權(quán)，并 且其全部?jī)?nèi)容通過引用結(jié)合于此。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種使用來自光源的光來照明待照明面的照明光學(xué)設(shè)備，其特征在于，包括： 光學(xué)積分器，配置成通過使從入射端面入射的光在內(nèi)表面反射多次來使光學(xué)強(qiáng)度分布 在出射端面上是均勻的；以及 光束形成單元，配置成將來自其中聚光鏡以相對(duì)于光軸的第一角度會(huì)聚來自光源的光 的焦點(diǎn)位置的光束轉(zhuǎn)換成將以相對(duì)于光軸的大于第一角度的第二角度入射到光學(xué)積分器 的入射端面上的光束，所述光軸從光源指向待照明面， 其中，待照明面是用來自光學(xué)積分器的光照明的。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的照明光學(xué)設(shè)備，其中，光束形成單元是使包括其中聚光鏡會(huì) 聚來自光源的光的焦點(diǎn)位置的預(yù)定面與光學(xué)積分器的入射端面具有光學(xué)共輒關(guān)系的成像 光學(xué)系統(tǒng)。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的照明光學(xué)設(shè)備，其中，光束形成單元是使光源和光學(xué)積分器 的入射端面之間的預(yù)定面與光學(xué)積分器的入射端面光學(xué)地具有傅里葉變換關(guān)系的聚光光 學(xué)系統(tǒng)。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的照明光學(xué)設(shè)備，其中，光束形成單元包括使入射光擴(kuò)散的擴(kuò) 散構(gòu)件。5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的照明光學(xué)設(shè)備，其中，擴(kuò)散構(gòu)件是擴(kuò)散板或衍射光學(xué)元件。6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的照明光學(xué)設(shè)備， 其中，光束形成單元包括阻擋特定波長(zhǎng)范圍內(nèi)的光的波長(zhǎng)濾波器，以及 其中，波長(zhǎng)濾波器被布置在射束有效直徑大于光學(xué)積分器的入射端面的射束有效直徑 的位置處。7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的照明光學(xué)設(shè)備，還包括： 成像光學(xué)系統(tǒng)，配置成在待照明面上成像來自光學(xué)積分器的光。8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的照明光學(xué)設(shè)備，其中，光學(xué)積分器的出射端面和待照明面是 光學(xué)共輒的。9.一種將在原版中形成的圖案的像轉(zhuǎn)印到基板上的曝光裝置，其特征在于，包括： 根據(jù)權(quán)利要求1到8中的任一項(xiàng)所述的照明光學(xué)設(shè)備， 其中，照明光學(xué)設(shè)備照明原版的待照明面。10. -種用于制造物品的方法，其特征在于，該方法包括以下步驟： 使用根據(jù)權(quán)利要求9所述的曝光裝置來曝光基板；以及 顯影在曝光步驟中曝光的基板。
【專利摘要】本發(fā)明涉及照明光學(xué)設(shè)備、曝光裝置和制造物品的方法。照明光學(xué)設(shè)備使用來自光源的光來照明待照明面R。照明光學(xué)設(shè)備包括：光學(xué)積分器，配置成通過使從入射端面入射的光在內(nèi)表面反射多次來使光學(xué)強(qiáng)度分布在出射端面上是均勻的；以及光束形成單元，配置成將來自其中聚光鏡以相對(duì)于光軸的第一角度會(huì)聚來自光源的光的焦點(diǎn)位置的光束轉(zhuǎn)換成將以相對(duì)于光軸的大于第一角度θ1的第二角度θ2入射到光學(xué)積分器的入射端面上的光束，所述光軸從光源指向待照明面。其中，待照明面R是用來自光學(xué)積分器的光照明的。
【IPC分類】G03F7/20, G02B27/09
【公開號(hào)】CN105446085
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510591980
【發(fā)明人】須田廣美
【申請(qǐng)人】佳能株式會(huì)社
【公開日】2016年3月30日
【申請(qǐng)日】2015年9月17日
【公告號(hào)】US20160085158