曝光機(jī)及光罩潔凈設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶面板制造技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種曝光機(jī)及光罩潔凈設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]液晶顯示裝置具有機(jī)身薄、省電、無(wú)輻射等眾多優(yōu)點(diǎn)，得到了廣泛的應(yīng)用，如:移動(dòng)電話、個(gè)人數(shù)字助理(PDA)、數(shù)字相機(jī)、計(jì)算機(jī)屏幕或筆記本電腦屏幕等。
[0003]通常液晶顯示裝置包括殼體、設(shè)于殼體內(nèi)的液晶面板及設(shè)于殼體內(nèi)的背光模組。其中，液晶面板的結(jié)構(gòu)主要是由薄膜晶體管陣列基板(TFT基板)、彩色濾光片基板(CF基板)以及配置于兩基板間的液晶層構(gòu)成，其工作原理是通過(guò)在兩片玻璃基板上施加驅(qū)動(dòng)電壓來(lái)控制液晶層的液晶分子的旋轉(zhuǎn)，將背光模組的光線折射出來(lái)產(chǎn)生畫面。
[0004]其中，TFT基板制程中需要用到曝光機(jī)對(duì)已完成光阻涂布的玻璃基板進(jìn)行曝光。而為了避免光罩(Mask)表面的異物對(duì)制程造成影響，需要保證光罩的潔凈度，一旦檢測(cè)到光罩表面的潔凈度不達(dá)標(biāo)時(shí)，需要工程師手動(dòng)將光罩取出并進(jìn)行清潔，影響工作效率進(jìn)而影響產(chǎn)能。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明提供一種曝光機(jī)及光罩潔凈設(shè)備，以解決現(xiàn)有技術(shù)中光罩潔凈需要在曝光機(jī)外部進(jìn)行，影響工作效率進(jìn)而影響產(chǎn)能的問(wèn)題。
[0006]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是:提供一種光罩潔凈設(shè)備，所述光罩潔凈設(shè)備設(shè)置在曝光機(jī)內(nèi)，用于對(duì)曝光機(jī)內(nèi)的光罩進(jìn)行清潔，所述光罩潔凈設(shè)備包括:
[0007]箱體，設(shè)有快門；
[0008]移動(dòng)臺(tái)，設(shè)于所述箱體內(nèi)，用于從所述快門處接收光罩并在所述箱體內(nèi)移動(dòng)；
[0009]離子氣槍，設(shè)于所述箱體內(nèi)，用于吹出離子風(fēng)以清除所述光罩上的雜塵；
[0010]紫外線燈管，設(shè)于所述箱體內(nèi)，用于發(fā)出紫外線以分解所述光罩上的有機(jī)物。
[0011]根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例所述箱體由上板、下板和側(cè)板圍合而成，所述快門設(shè)置在所述側(cè)板上。
[0012]根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例所述移動(dòng)臺(tái)包括導(dǎo)軌和設(shè)于所述導(dǎo)軌上的支撐臺(tái)，所述支撐臺(tái)在所述導(dǎo)軌上往復(fù)移動(dòng)。
[0013]根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例所述支撐臺(tái)包括豎架和支撐板，所述豎架設(shè)于所述導(dǎo)軌上，所述支撐板設(shè)于所述豎架的頂部。
[0014]根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例所述支撐臺(tái)進(jìn)一步包括設(shè)于所述豎架之間且位于所述支撐臺(tái)下方的橫架。
[0015]根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例所述支撐臺(tái)上設(shè)有支撐銷，所述支撐銷用于將所述光罩夾持固定并間隔支撐在所述支撐臺(tái)的上方。
[0016]根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例所述離子氣槍包括在所述移動(dòng)臺(tái)移動(dòng)方向上前后設(shè)置的多個(gè)。
[0017]根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例所述離子氣槍包括在所述移動(dòng)臺(tái)移動(dòng)方向上前后設(shè)置的兩個(gè)，所述紫外線燈管設(shè)置在所述離子氣槍之間，所述移動(dòng)臺(tái)從所述快門處接收光罩并在所述箱體內(nèi)移動(dòng)時(shí)，所述光罩移動(dòng)至第一離子風(fēng)槍處，所述第一離子風(fēng)槍開(kāi)始清潔大的雜塵，同時(shí)移動(dòng)經(jīng)過(guò)所述紫外線燈管照射分解光罩上的有機(jī)物，再通過(guò)第二離子風(fēng)槍清潔所述光罩表面，除去表面附著物。
[0018]根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例所述光罩潔凈設(shè)備還包括設(shè)于所述箱體的吸風(fēng)機(jī)以提供負(fù)壓，以及設(shè)于所述箱體內(nèi)壁的排氣過(guò)濾層以吸附收集從所述光罩表面清潔出的雜塵。
[0019]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用的另一個(gè)技術(shù)方案是:提供一種曝光機(jī)，該曝光機(jī)用于通過(guò)光罩進(jìn)行曝光作業(yè)，所述曝光機(jī)內(nèi)設(shè)有機(jī)械傳送手及上述的光罩潔凈設(shè)備，所述光罩由所述機(jī)械傳送手經(jīng)所述快門送至所述移動(dòng)臺(tái)。
[0020]本發(fā)明的有益效果是:區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的情況，本發(fā)明提供的曝光機(jī)及其光罩潔凈設(shè)備使得光罩可以在曝光機(jī)內(nèi)部進(jìn)行清潔，不用拿出曝光機(jī)之外進(jìn)行清潔，大大提高了工作效率和產(chǎn)能。
【附圖說(shuō)明】
[0021]為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖，其中:
[0022]圖1是本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的曝光機(jī)的簡(jiǎn)化結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023]圖2是本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的光罩潔凈設(shè)備的前視簡(jiǎn)化結(jié)構(gòu)透示圖；
[0024]圖3是本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的光罩潔凈設(shè)備的左視簡(jiǎn)化結(jié)構(gòu)透示圖；
[0025]圖4是本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的光罩潔凈設(shè)備的俯視簡(jiǎn)化結(jié)構(gòu)透示圖。
【具體實(shí)施方式】
[0026]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅是本發(fā)明的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0027]請(qǐng)參閱圖1，本發(fā)明提供一種曝光機(jī)20，該曝光機(jī)20用于通過(guò)光罩30對(duì)涂覆好光阻的玻璃基板(圖示未)進(jìn)行曝光作業(yè)，曝光機(jī)20內(nèi)設(shè)有機(jī)械傳送手40及光罩潔凈設(shè)備10，光罩30由機(jī)械傳送手40經(jīng)光罩潔凈設(shè)備10的快門111送至光罩潔凈設(shè)備10內(nèi)的移動(dòng)臺(tái)120(見(jiàn)圖2)并進(jìn)行清潔。
[0028]具體而言，請(qǐng)一并參閱圖2至圖4，圖2至圖4示意了本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的光罩潔凈設(shè)備的三視圖。
[0029]如圖2至圖4所示，本發(fā)明提供一種光罩潔凈設(shè)備10，該光罩潔凈設(shè)備10設(shè)置在曝光機(jī)20內(nèi)，用于對(duì)曝光機(jī)20內(nèi)的光罩30進(jìn)行清潔，該光罩潔凈設(shè)備10主要包括箱體110、移動(dòng)臺(tái)120、離子氣槍130以及紫外線燈管140。
[0030]其中，箱體110，設(shè)有快門(shutter門)111，快門11可以迅速開(kāi)關(guān)，以避免雜塵進(jìn)入。
[0031]移動(dòng)臺(tái)120設(shè)于箱體110內(nèi)，用于從快門111處接收光罩30并在箱體110內(nèi)往復(fù)移動(dòng)。
[0032]離子氣槍130設(shè)于箱體110內(nèi)，用于吹出離子風(fēng)以清除光罩30上的雜塵。
[0033]紫