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曝光機的制作方法

文檔序號:9786546閱讀:1188來源:國知局
曝光機的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示裝置的制造領(lǐng)域,尤其涉及一種曝光機。
【背景技術(shù)】
[0002]液晶顯示裝置(LiquidCrystal Display,LCD)具有機身薄、省電、無福射等眾多優(yōu)點,得到了廣泛的應(yīng)用,如:移動電話、個人數(shù)字助理(PDA)、數(shù)字相機、計算機屏幕或筆記本電腦屏幕等。
[0003]現(xiàn)有市場上的液晶顯示裝置大部分為背光型液晶顯示裝置,其包括殼體、設(shè)于殼體內(nèi)的液晶顯示面板及設(shè)于殼體內(nèi)的背光模組(Backlight module)。液晶顯示面板的結(jié)構(gòu)是由一彩色濾光片基板(Color Filter Substrate)、一薄膜晶體管陣列基板(Thin FilmTransistor Array Substrate ,TFT Array Substrate)以及一配置于兩基板間的液晶層(Liquid Crystal Layer)所構(gòu)成,其中在陣列基板上排布有許多豎直的數(shù)據(jù)線(DataLine)和水平的柵極掃描線(Gate Line)。液晶顯示面板的工作原理是通過在兩片玻璃基板上施加驅(qū)動電壓來控制液晶層的液晶分子的旋轉(zhuǎn),將背光模組的光線折射出來產(chǎn)生畫面。
[0004]在液晶顯示面板的制造過程中,會多次利用構(gòu)圖工藝。具體為,在涂有光刻膠的基板上方放置光罩,然后利用曝光機對基板進行曝光?;诠庹稚系膱D案,光刻膠會有被曝光的部分和未被曝光的部分。再利用顯影液對光刻膠進行顯影,即可去除光刻膠被曝光的部分,保留光刻膠未被曝光的部分(正性光刻膠),或者去除光刻膠未被曝光的部分,保留光刻膠被曝光的部分(負性光刻膠),從而使光刻膠形成所需的圖形。
[0005]目前的曝光機在曝光制程中一般通過可滑動的載臺進行自動裝載或卸載光罩,在裝載或卸載光罩時,通過載臺在導(dǎo)軌中作往復(fù)滑動以搬運光罩,此時載臺與導(dǎo)軌之間會產(chǎn)生摩擦,因而不可避免地會產(chǎn)生灰塵等異物,這些灰塵等異物會影響曝光制程的環(huán)境,導(dǎo)致產(chǎn)品良率的下降。
[0006]因此,有必要提供一種曝光機,以解決上述問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明的目的在于提供一種曝光機,導(dǎo)軌與滑動載臺的連接處下方設(shè)有灰塵收集室,可對滑動載臺在導(dǎo)軌中滑動的過程中所產(chǎn)生的灰塵進行收集,有效改善曝光制程的操作環(huán)境,提升曝光制程的良率。
[0008]為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種曝光機,包括數(shù)個搬運模塊,所述搬運模塊包括導(dǎo)軌、連接于所述導(dǎo)軌側(cè)面的滑動載臺、及設(shè)于所述導(dǎo)軌與滑動載臺下方的灰塵收集室;所述滑動載臺可在所述導(dǎo)軌中往復(fù)滑動;
[0009]所述灰塵收集室的邊緣設(shè)有伸出于導(dǎo)軌側(cè)面的灰塵收集口;所述灰塵收集口的開口向上并朝向所述導(dǎo)軌與滑動載臺的連接處,從而使所述滑動載臺在導(dǎo)軌中往復(fù)滑動的過程中所產(chǎn)生的灰塵落入所述灰塵收集口而被收集至所述灰塵收集室中。
[0010]所述數(shù)個搬運模塊包括第一搬運模塊與第二搬運模塊;
[0011]所述第一搬運模塊包括第一導(dǎo)軌、連接于所述第一導(dǎo)軌側(cè)面的第一滑動載臺、及設(shè)于所述第一導(dǎo)軌與所述第一滑動載臺下方的第一灰塵收集室;所述第一滑動載臺可在所述第一導(dǎo)軌中往復(fù)滑動;
[0012]所述第一灰塵收集室的邊緣設(shè)有伸出于所述第一導(dǎo)軌側(cè)面的第一灰塵收集口;所述第一灰塵收集口的開口向上并朝向所述第一導(dǎo)軌與第一滑動載臺的連接處,從而使所述第一滑動載臺在第一導(dǎo)軌中滑動的過程中所產(chǎn)生的灰塵落入所述第一灰塵收集口而被收集至所述第一灰塵收集室中;
[0013]所述第二搬運模塊包括第二導(dǎo)軌、連接于所述第二導(dǎo)軌側(cè)面的第二滑動載臺、及設(shè)于所述第二導(dǎo)軌與所述第二滑動載臺下方的第二灰塵收集室;所述第二滑動載臺可在所述第二導(dǎo)軌中往復(fù)滑動;
[0014]所述第二灰塵收集室的邊緣設(shè)有伸出于所述第二導(dǎo)軌側(cè)面的第二灰塵收集口;所述第二灰塵收集口的開口向上并朝向所述第二導(dǎo)軌與第二滑動載臺的連接處,從而使所述第二滑動載臺在第二導(dǎo)軌中滑動的過程中所產(chǎn)生的灰塵落入所述第二灰塵收集口而被收集至所述第二灰塵收集室中。
[0015]所述第一、第二灰塵收集室與真空負壓裝置相連接,通過所述真空負壓裝置吸取所述第一、第二滑動載臺在所述第一、第二導(dǎo)軌中往復(fù)滑動的過程中所產(chǎn)生的灰塵而使其落入第一、第二灰塵收集口。
[0016]所述第一、第二灰塵收集室的內(nèi)部相連通,并且具有一共同的灰塵排放口。
[0017]所述灰塵排放口連接至外部排放管道。
[0018]所述灰塵排放口處設(shè)有過濾器。
[0019]所述第一搬運模塊位于所述第二搬運模塊的上方;所述第一、第二滑動載臺分別連接于所述第一、第二導(dǎo)軌的同一側(cè);所述第一搬運模塊中的第一滑動載臺用于光罩的裝載;所述第二搬運模塊中的第二滑動載臺用于光罩的卸載。
[0020]所述第一、第二灰塵收集室的第一、第二灰塵收集口在所述第一、第二滑動載臺的滑動方向上的長度大于所述第一、第二滑動載臺的單向滑動軌跡的最大長度。
[0021]所述第一、第二滑動載臺的滑動軌跡相互平行。
[0022]所述第一、第二滑動載臺的結(jié)構(gòu)相同,均包括連接于所述第一、第二導(dǎo)軌側(cè)面的滑動部、連接于所述滑動部的連接部、及連接于所述連接部的承載部。
[0023]本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明的曝光機包括數(shù)個搬運模塊,所述搬運模塊包括導(dǎo)軌、連接于所述導(dǎo)軌側(cè)面的滑動載臺、及設(shè)于所述導(dǎo)軌與滑動載臺下方的灰塵收集室;所述滑動載臺可在所述導(dǎo)軌中往復(fù)滑動;所述灰塵收集室的邊緣設(shè)有伸出于導(dǎo)軌側(cè)面的灰塵收集口 ;所述灰塵收集口的開口向上并朝向所述導(dǎo)軌與滑動載臺的連接處,從而使所述滑動載臺在導(dǎo)軌中滑動的過程中所產(chǎn)生的灰塵落入灰塵收集口而被收集至所述灰塵收集室中;所述灰塵收集室可與真空負壓裝置相連接,從而通過真空負壓裝置吸取滑動載臺在導(dǎo)軌中往復(fù)滑動的過程中所產(chǎn)生的灰塵;有效改善曝光制程的操作環(huán)境,提升曝光制程的良率。
【附圖說明】
[0024]為了能更進一步了解本發(fā)明的特征以及技術(shù)內(nèi)容,請參閱以下有關(guān)本發(fā)明的詳細說明與附圖,然而附圖僅提供參考與說明用,并非用來對本發(fā)明加以限制。
[0025]附圖中,
[0026]圖1為本發(fā)明的曝光機的立體結(jié)構(gòu)示意圖;
[0027]圖2為本發(fā)明的曝光機的側(cè)視示意圖。
【具體實施方式】
[0028]為更進一步闡述本發(fā)明所采取的技術(shù)手段及其效果,以下結(jié)合本發(fā)明的優(yōu)選實施例及其附圖進行詳細描述。
[0029]本發(fā)明提供一種曝光機,包括數(shù)個搬運模塊,所述搬運模塊包括導(dǎo)軌、連接于所述導(dǎo)軌側(cè)面的滑動載臺、及設(shè)于所述導(dǎo)軌與滑動載臺下方的灰塵收集室;所述滑動載臺可在所述導(dǎo)軌中往復(fù)滑動;
[0030]所述灰塵收集室的邊緣設(shè)有伸出于導(dǎo)軌側(cè)面的灰塵收集口;所述灰塵收集口的開口向上并朝向所述導(dǎo)軌與滑動載臺的連接處,從而使所述滑動載臺在導(dǎo)軌中滑動的過程中所產(chǎn)生的灰塵落入灰塵收集口而被收集至所述灰塵收集室中,以有效改善曝光制程的操作環(huán)境,提升曝光制程的良率。
[0031]請參閱圖1至圖2,為本發(fā)明的曝光機的一具體實施例,包括第一搬運模塊與第二搬運t旲塊;
[0032]所述第一搬運模塊包括第一導(dǎo)軌11、連接于所述第一導(dǎo)軌11側(cè)面的第一滑動載臺
12、及設(shè)于所述第一導(dǎo)軌11與第一滑動載臺12下方的第一灰塵收集室13;所述第一滑動載臺12可在所述第一導(dǎo)軌11中往復(fù)滑動;
[0033]所述第一灰塵收集室13的邊緣設(shè)有伸出于所述第一導(dǎo)軌11側(cè)面的第一灰塵收集口 131;所述第一灰塵收集口 131的開口向上并朝向所述第一導(dǎo)軌11與第一滑動載臺12的連接處,從而使所述第一滑動載臺12在第一導(dǎo)軌11中滑動的過程中所產(chǎn)生的灰塵落入所述第一灰塵收集口 131而被收集至所述第一灰塵收集室13中。
[0034]所述第二搬運模塊包括第二導(dǎo)軌21、連接于所述第二導(dǎo)軌21側(cè)面的第二滑動載臺
22、及設(shè)于所述第二導(dǎo)軌21與第二滑動載臺22下方
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