無鉻光刻板的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種LED制程中的設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]光刻掩模板一般用石英玻璃作為基體，采用石英是由于其優(yōu)良的近紫外透過率。掩模板擋光部分用鉻(Cr)，所以有時也叫鉻板?，F(xiàn)有技術(shù)是在石英上鍍鉻，再將鉻刻制成相應(yīng)的版圖得到的。這種光刻板在使用過程中，尤其是接觸式的使用過程中容易受到損壞，從而造成掩模圖形的失真。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的是實現(xiàn)僅通過使用石英材料本身來制作掩模圖形，從而減少光刻板在重復(fù)使用過程中的圖形失真。
[0004]為了達到上述技術(shù)目的，本發(fā)明提供了一種無鉻光刻板，它包括石英基板，所述的石英基板的上表面的預(yù)定位置制作有光刻圖形，所述的光刻圖形的頂部覆蓋有粗化散射表面。
[0005]優(yōu)選地，所述的石英基板的下表面的對應(yīng)位置制作有相同的光刻圖形，所述的光刻圖形的頂部覆蓋有粗化散射表面，其中，位于所述的石英基板的上表面與下表面的光刻圖形的垂直投影相互重合。
[0006]由于采用上述技術(shù)方案，在石英的上下表面分別制作出同樣的圖形，且下表面圖形與上表面圖形的垂直投影完全重合，上、下表面的圖形使用粗化手段(類似于制作毛玻璃)制作從而增強入射光的散射，減小光強。同時，該技術(shù)由于增加了邊緣的粗化，減弱了因為駐波效應(yīng)而導(dǎo)致的光刻膠顯影后的鋸齒缺陷。
【附圖說明】
[0007]附圖1為根據(jù)本發(fā)明的無鉻光刻板的結(jié)構(gòu)示圖；
[0008]附圖2為根據(jù)本發(fā)明的無鉻光刻板的工作原示意圖；
[0009]附圖3為附圖1中的A處的局部放大示意圖；
[0010]附圖4為附圖1中的B處的局部放大示意圖。
【具體實施方式】
[0011]下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的較佳實施例進行詳細闡述，以使本發(fā)明的優(yōu)點和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對本發(fā)明的保護范圍做出更為清楚明確的界定。
[0012]附圖1為根據(jù)本發(fā)明的無鉻光刻板的結(jié)構(gòu)示意圖；附圖2為根據(jù)本發(fā)明的無鉻光刻板的工作原理示意圖；附圖3為附圖1中的A處的局部放大示意圖；附圖4為附圖1中的B處的局部放大示意圖。本實施例中的無鉻光刻板，它包括石英基板，石英基板的上表面的預(yù)定位置制作有光刻圖形，光刻圖形的頂部覆蓋有粗化散射表面，石英基板的下表面的對應(yīng)位置制作有相同的光刻圖形，光刻圖形的頂部覆蓋有粗化散射表面，其中，位于石英基板的上表面與下表面的光刻圖形的垂直投影相互重合。
[0013]如附圖3與附圖4所示，由于在石英的上下表面分別制作出同樣的圖形，且下表面圖形與上表面圖形的垂直投影完全重合，上、下表面的圖形使用粗化手段(類似于制作毛玻璃)制作從而增強入射光的散射，減小光強。同時，該技術(shù)由于增加了邊緣的粗化，減弱了因為駐波效應(yīng)而導(dǎo)致的光刻膠顯影后的鋸齒缺陷。
[0014]當曝光機進行曝光時，印有光刻圖形的上表面部分由于漫反射的效應(yīng)，從而阻止光線的通過，其余部分則順利通過石英基板達到光刻膠從而對光刻膠進行蝕刻。從而實現(xiàn)了僅通過使用石英材料本身來制作掩模圖形，減少光刻板在重復(fù)使用過程中的圖形失真的目的。
[0015]以上實施方式只為說明本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思及特點，其目的在于讓熟悉此項技術(shù)的人了解本發(fā)明的內(nèi)容并加以實施，并不能以此限制本發(fā)明的保護范圍，凡根據(jù)本發(fā)明精神實質(zhì)所做的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種無鉻光刻板，它包括石英基板，其特征在于:所述的石英基板的上表面的預(yù)定位置制作有光刻圖形，所述的光刻圖形的頂部覆蓋有粗化散射表面。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無鉻光刻板，其特征在于:所述的石英基板的下表面的對應(yīng)位置制作有相同的光刻圖形，所述的光刻圖形的頂部覆蓋有粗化散射表面，其中，位于所述的石英基板的上表面與下表面的光刻圖形的垂直投影相互重合。
【專利摘要】本發(fā)明涉及無鉻光刻板，它包括石英基板，石英基板的上表面的預(yù)定位置制作有光刻圖形，光刻圖形的頂部覆蓋有粗化散射表面。優(yōu)選地，石英基板的下表面的對應(yīng)位置制作有相同的光刻圖形，光刻圖形的頂部覆蓋有粗化散射表面，其中，位于石英基板的上表面與下表面的光刻圖形的垂直投影相互重合。本發(fā)明解決了現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷，實現(xiàn)僅通過使用石英材料本身來制作掩模圖形，從而減少光刻板在重復(fù)使用過程中的圖形失真。
【IPC分類】G03F1/00
【公開號】CN105607410
【申請?zhí)枴緾N201511022964
【發(fā)明人】不公告發(fā)明人
【申請人】梁旭
【公開日】2016年5月25日
【申請日】2015年12月30日