一種涂膠機(jī)涂覆材料的供應(yīng)裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,具體的說(shuō)涉及一種涂膠機(jī)涂覆材料的供應(yīng)裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前,集成電路的生產(chǎn)與工藝研發(fā)都離不開涂膠機(jī),涂膠機(jī)的作用是將待涂覆材料均勻地涂敷在晶圓上,并對(duì)有涂覆材料的晶圓做相應(yīng)的烘焙處理。
[0003]涂膠機(jī)所使用的涂覆材料供應(yīng)主要分為手動(dòng)和自動(dòng)兩種方法,手動(dòng)供應(yīng)是指使用滴管進(jìn)行涂覆材料的點(diǎn)滴人工供給,自動(dòng)供應(yīng)是指使用專用供給裝置進(jìn)行涂覆材料的程式化供給。
[0004]涂覆材料的程式化供給原理不同,使用的專用裝置就不同,因此就會(huì)有多種涂覆材料的供應(yīng)方法。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005]針對(duì)上述問(wèn)題,本發(fā)明的目的在于提供一種涂膠機(jī)涂覆材料的供應(yīng)方法。
[0006]為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:
[0007]—種涂膠機(jī)涂覆材料的供應(yīng)裝置,包括截止閥、緩沖罐、涂覆材料承裝容器及涂覆材料噴頭,其中涂覆材料承裝容器為倒置的容器,容器封口有出液口,所述緩沖罐的頂端設(shè)有緩沖罐進(jìn)液口,底部設(shè)有緩沖罐出液口,通過(guò)緩沖罐進(jìn)液管路將涂覆材料承裝容器與緩沖罐進(jìn)液口連通,所述涂覆材料噴頭設(shè)置于待涂覆晶圓的上方、并通過(guò)緩沖罐出液管路與緩沖罐出液口連通,所述緩沖罐出液管路上設(shè)有截止閥;涂覆作業(yè)時(shí),通過(guò)涂覆材料承裝容器內(nèi)的液面與緩沖罐內(nèi)的液面高度差,控制涂覆材料噴頭的涂覆材料吐出量與涂覆材料承裝容器的供給量的平衡。
[0008]所述緩沖罐緩沖罐進(jìn)液管路和緩沖罐出液管路上分別設(shè)有上液位傳感器和下液位傳感器,所述下液位傳感器位于截止閥的上方。所述緩沖罐進(jìn)液管路和緩沖罐上均設(shè)有排氣口。
[0009]所述涂覆材料承裝容器的位置高度大于緩沖罐的位置高度,所述緩沖罐的位置高度大于截止閥的位置高度,所述截止閥的位置高度大于待涂覆晶圓的位置高度。
[0010]本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn)及有益效果:
[0011]1.本發(fā)明所述方法應(yīng)用的供給系統(tǒng),組成簡(jiǎn)單,構(gòu)成成本低,維護(hù)容易。
[0012]2.本發(fā)明所述方法應(yīng)用的涂覆材料承裝容器出液口在底端,使得消耗材料得以全部使用,生產(chǎn)耗材成本降低。
[0013]3.本發(fā)明定義了涂覆材料承裝容器、緩沖罐、截止閥的安裝高度,截止閥的程式化開關(guān),可實(shí)現(xiàn)精確控制出口涂覆材料流量。
【附圖說(shuō)明】
[0014]圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]其中:1為待涂覆晶圓,2為截止閥,3為緩沖罐,4為涂覆材料承裝容器,5為上液位傳感器,6為下液位傳感器,7為涂覆材料噴頭,8為容器出口管路排氣口,9為緩沖罐排氣口,Hl為待涂覆晶圓的位置高度,H2為截止閥的位置高度,H3為緩沖罐的位置高度,H4為涂覆材料承裝容器的位置高度。
【具體實(shí)施方式】
[0016]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明。
[0017]如圖1所示,本發(fā)明包括截止閥2、緩沖罐3、涂覆材料承裝容器4及涂覆材料噴頭7,其中涂覆材料承裝容器4為倒置的容器,容器封口有出液口,所述緩沖罐3頂端設(shè)有緩沖罐進(jìn)液口,底部設(shè)有緩沖罐出液口,通過(guò)緩沖罐進(jìn)液管路將涂覆材料承裝容器4與緩沖罐進(jìn)液口連通。所述涂覆材料噴頭7設(shè)置于待涂覆晶圓I的上方、并通過(guò)緩沖罐出液管路與緩沖罐出液口連通,所述緩沖罐出液管路上設(shè)有截止閥2 ;涂覆作業(yè)時(shí),通過(guò)涂覆材料承裝容器4內(nèi)的液面與緩沖罐3內(nèi)的液面高度差,控制涂覆材料噴頭7的涂覆材料吐出量與涂覆材料承裝容器4供給量的平衡。
[0018]所述緩沖罐3緩沖罐進(jìn)液管路和緩沖罐出液管路上分別設(shè)有上液位傳感器5和下液位傳感器6,所述下液位傳感器6位于截止閥2的上方,所述上液位傳感器5和下液位傳感器6為光電反射式。所述緩沖罐進(jìn)液管路上設(shè)有容器出口管路排氣口 8,所述緩沖罐3的上端設(shè)有緩沖罐排氣口。
[0019]各部件安裝位置,待涂覆晶圓的位置高度為H1,截止閥的位置高度為H2,緩沖罐的位置高度為H3,涂覆材料承裝容器的位置高度為H4,高度定義為H4 > H3 > H2 > Hl ;
[0020]本發(fā)明的工作原理是:
[0021]供給系統(tǒng)管路內(nèi)充滿涂覆材料后,緩沖罐3內(nèi)并非充滿涂覆材料,利用虹吸原理可以控制其內(nèi)部液面高度。截止閥2程式化開關(guān),精密控制涂覆材料的每次吐出量,隨后涂覆材料承裝容器4會(huì)進(jìn)行等量的補(bǔ)充到緩沖罐3中,以此保持供給管路系統(tǒng)內(nèi)壓力的平衡。當(dāng)涂覆材料承裝容器4內(nèi)的涂覆材料全部用盡時(shí),緩沖罐3上方的上液位傳感器5會(huì)報(bào)警;當(dāng)緩沖罐3內(nèi)的涂覆材料全部用盡時(shí),緩沖罐3下方的下液位傳感器6會(huì)報(bào)警。
[0022]涂覆材料的程式化供給,需要滿足工藝方面上對(duì)供應(yīng)的連續(xù)性、穩(wěn)定性和一致性的技術(shù)要求,還要符合供應(yīng)回路安全性要求,以及生產(chǎn)上操作維護(hù)的簡(jiǎn)潔性及經(jīng)濟(jì)性等要求。程式化供給涂覆材料,是指緩沖罐3進(jìn)液口和出液口的液位傳感器警報(bào)信號(hào)發(fā)送給控制中心,控制中心編輯邏輯控制方程,發(fā)出指令通過(guò)截止閥2的時(shí)序化開關(guān)實(shí)現(xiàn)程式化供給涂覆材料。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種涂膠機(jī)涂覆材料的供應(yīng)裝置,其特征在于:包括截止閥(2)、緩沖罐(3)、涂覆材料承裝容器(4)及涂覆材料噴頭(7),其中涂覆材料承裝容器(4)為倒置的容器,容器封口有出液口,所述緩沖罐(3)的頂端設(shè)有緩沖罐進(jìn)液口,底部設(shè)有緩沖罐出液口,通過(guò)緩沖罐進(jìn)液管路將涂覆材料承裝容器(4)與緩沖罐進(jìn)液口連通,所述涂覆材料噴頭(7)設(shè)置于待涂覆晶圓(I)的上方、并通過(guò)緩沖罐出液管路與緩沖罐出液口連通,所述緩沖罐出液管路上設(shè)有截止閥(2);涂覆作業(yè)時(shí),通過(guò)涂覆材料承裝容器(4)內(nèi)的液面與緩沖罐(3)內(nèi)的液面高度差,控制涂覆材料噴頭(7)的涂覆材料吐出量與涂覆材料承裝容器(4)的供給量的平衡。2.按權(quán)利要求1所述的涂膠機(jī)涂覆材料的供應(yīng)裝置,其特征在于:所述緩沖罐(3)緩沖罐進(jìn)液管路和緩沖罐出液管路上分別設(shè)有上液位傳感器(5)和下液位傳感器¢),所述下液位傳感器(6)位于截止閥(2)的上方。3.按權(quán)利要求1所述的涂膠機(jī)涂覆材料的供應(yīng)裝置,其特征在于:所述緩沖罐進(jìn)液管路和緩沖罐(3)上均設(shè)有排氣口。4.按權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的涂膠機(jī)涂覆材料的供應(yīng)裝置,其特征在于:所述涂覆材料承裝容器⑷的位置高度大于緩沖罐⑶的位置高度,所述緩沖罐⑶的位置高度大于截止閥(2)的位置高度,所述截止閥(2)的位置高度大于待涂覆晶圓(I)的位置高度。
【專利摘要】本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,具體的說(shuō)涉及一種涂膠機(jī)涂覆材料的供應(yīng)裝置。包括截止閥、緩沖罐、涂覆材料承裝容器及涂覆材料噴頭,其中涂覆材料承裝容器為倒置的容器,容器封口有出液口,所述緩沖罐的頂端設(shè)有緩沖罐進(jìn)液口,底部設(shè)有緩沖罐出液口,通過(guò)緩沖罐進(jìn)液管路將涂覆材料承裝容器與緩沖罐進(jìn)液口連通,所述涂覆材料噴頭設(shè)置于待涂覆晶圓的上方、并通過(guò)緩沖罐出液管路與緩沖罐出液口連通,所述緩沖罐出液管路上設(shè)有截止閥;涂覆作業(yè)時(shí),通過(guò)涂覆材料承裝容器內(nèi)的液面與緩沖罐內(nèi)的液面高度差,控制涂覆材料噴頭的涂覆材料吐出量與涂覆材料承裝容器的供給量的平衡。本發(fā)明操作維護(hù)簡(jiǎn)單、用料消耗經(jīng)濟(jì),根據(jù)虹吸原理實(shí)現(xiàn)程式化供給涂覆材料。
【IPC分類】G03F7/16
【公開號(hào)】CN105629667
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410691728
【發(fā)明人】胡延兵, 汪明波
【申請(qǐng)人】沈陽(yáng)芯源微電子設(shè)備有限公司
【公開日】2016年6月1日
【申請(qǐng)日】2014年11月26日