出其中當(dāng)入射到楔形光學(xué)元件對131上的光束被射出時(shí)沒有角度變化發(fā)生的狀態(tài)的圖。在這種情況下，入射光束611根據(jù)斯涅耳定律在前側(cè)楔形光學(xué)元件射出端面613和后側(cè)楔形光學(xué)元件入射端面614中被折射。在這種情況下，前側(cè)楔形光學(xué)元件射出端面613和后側(cè)楔形光學(xué)元件入射端面614關(guān)于光軸的傾斜角是相等的。因此，在后側(cè)楔形光學(xué)元件射出端面615中的射出角與光軸平行并且光束通過楔形光學(xué)元件對131之前和之后的光束角度不變。
[0055]圖6B是示出其中入射到楔形光學(xué)元件對131上的光束的射出角改變的狀態(tài)的圖。這種狀態(tài)是其中從圖6A的狀態(tài)開始后側(cè)楔形光學(xué)元件133在與光軸垂直的面內(nèi)關(guān)于光軸旋轉(zhuǎn)180度的狀態(tài)，如圖中所示。在這種情況下，入射光束621根據(jù)斯涅耳定律在前側(cè)楔形光學(xué)元件射出端面613和后側(cè)楔形光學(xué)元件入射端面614中被折射。在這種情況下，前側(cè)楔形光學(xué)元件射出端面613和后側(cè)楔形光學(xué)元件入射端面614的傾斜角關(guān)于光軸不同。因此，在后側(cè)楔形光學(xué)元件射出端面615中的射出角與光軸不平行并且光束通過楔形光學(xué)元件對131之前和之后的光束角度改變。
[0056]圖6C是示出其中入射到楔形光學(xué)元件對131上的光束的射出角改變的狀態(tài)的圖。這種狀態(tài)是當(dāng)從圖6B的狀態(tài)開始前側(cè)楔形光學(xué)元件132和后側(cè)楔形光學(xué)元件133 二者的光學(xué)元件在與光軸垂直的面內(nèi)關(guān)于光軸旋轉(zhuǎn)180度時(shí)的狀態(tài)，如圖中所示。因?yàn)?，與圖6B相比，前側(cè)楔形光學(xué)元件射出端面613和后側(cè)楔形光學(xué)元件入射端面614的角度關(guān)于光軸反轉(zhuǎn)，所以，與圖6B的情況相比，光束從后側(cè)楔形光學(xué)元件射出端面615射出的角度也變成關(guān)于光軸反轉(zhuǎn)的角度。
[0057]在這種實(shí)施例中，光學(xué)部件驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu))124在圖像形成光學(xué)系統(tǒng)106外部連接到楔形光學(xué)元件對131。光學(xué)部件驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu))124基于計(jì)算處理單元123的計(jì)算結(jié)果在與光軸垂直的平面內(nèi)(關(guān)于光軸)使前側(cè)楔形光學(xué)元件132和/或后側(cè)楔形光學(xué)元件133旋轉(zhuǎn)180度并且調(diào)節(jié)遠(yuǎn)心度。就像在第一實(shí)施例中一樣，不一定需要在要被照明的面112上提供測量單元122。測量單元122可以在基板臺116上或者在能夠進(jìn)行測量的其他位置提供。甚至在具有這種配置的照明光學(xué)裝置中，也獲得與第一實(shí)施例類似的效果。
[0058](第三實(shí)施例)
[0059]接下來，將描述根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的照明光學(xué)裝置。根據(jù)這種實(shí)施例的處理裝置與第二實(shí)施例的處理裝置類似，但是與第二實(shí)施例的不同之處在于楔形光學(xué)元件對131布置在圖像形成光學(xué)系統(tǒng)106與要被照明的面112之間。圖7是示出根據(jù)這種實(shí)施例的照明光學(xué)裝置的圖。
[0060]甚至在這種實(shí)施例中，就像在第二實(shí)施例中一樣，光學(xué)部件驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu))124在圖像形成光學(xué)系統(tǒng)106外部連接到楔形光學(xué)元件對131。光學(xué)部件驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu))124基于計(jì)算處理單元123的計(jì)算結(jié)果在與光軸垂直的平面內(nèi)(關(guān)于光軸)使前側(cè)楔形光學(xué)元件132和/或后側(cè)楔形光學(xué)元件133旋轉(zhuǎn)180度并且調(diào)節(jié)遠(yuǎn)心度。就像在第一和第二實(shí)施例中一樣，不一定需要在要被照明的面112上提供測量單元122，而是測量單元122可以在基板臺116上或者在測量能夠進(jìn)行的其他位置提供。甚至在具有這種配置的照明光學(xué)裝置中，也獲得與第一和第二實(shí)施例類似的效果。
[0061]在第一至第三實(shí)施例中，光學(xué)部件驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)基于計(jì)算處理單元123的計(jì)算結(jié)果自動(dòng)傾斜或旋轉(zhuǎn)光學(xué)部件以調(diào)節(jié)遠(yuǎn)心度。但是，傾斜或旋轉(zhuǎn)可以手動(dòng)執(zhí)行。
[0062](設(shè)備制造方法)
[0063]根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的設(shè)備制造方法對于制造諸如微型設(shè)備的設(shè)備是優(yōu)選的，諸如半導(dǎo)體設(shè)備等，具有微型結(jié)構(gòu)的元件等，等等。設(shè)備制造方法可以包括利用以上提到的照明光學(xué)裝置將在掩模上形成的圖案的圖像轉(zhuǎn)印到涂覆在基板上的光敏材料的步驟(例如，曝光工藝)；以及顯影在前一步驟中潛像圖案在其上形成的基板的步驟。此外，設(shè)備制造方法還可以包括其它已知的步驟(氧化、成膜、氣相沉積、摻雜、平坦化、蝕刻、抗蝕劑剝離、劃片、粘結(jié)、封裝等等)。與常規(guī)的設(shè)備制造方法相比，這種實(shí)施例的設(shè)備制造方法在設(shè)備性能、質(zhì)量、產(chǎn)量和生產(chǎn)成本當(dāng)中至少一個(gè)方面有優(yōu)勢。
[0064]雖然本發(fā)明已經(jīng)參考示例性實(shí)施例進(jìn)行了描述，但是應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明不限于所公開的示例性實(shí)施例。以下權(quán)利要求的范圍要被賦予最廣泛的解釋，從而涵蓋所有此類修改以及等同結(jié)構(gòu)和功能。
[0065]本申請要求于2014年11月21日提交的日本專利申請N0.2014-236356的權(quán)益，該申請的全部內(nèi)容通過引用被結(jié)合于此。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于利用來自光源的光照明掩模的照明光學(xué)裝置，該裝置包括: 光學(xué)積分器，被配置為通過使從入射端面入射的光在內(nèi)表面中反射多次來使光強(qiáng)度分布在射出端面中均勻； 圖像形成光學(xué)系統(tǒng)，被配置為在掩模上形成光學(xué)積分器的射出端面的圖像；及調(diào)節(jié)單元，被配置為調(diào)節(jié)光的遠(yuǎn)心度使得入射到掩模上的主光線與掩模的法線接近平行，并且被配置為布置在圖像形成光學(xué)系統(tǒng)的外部。2.如權(quán)利要求1所述的照明光學(xué)裝置， 其中，調(diào)節(jié)單元包括用于使光學(xué)積分器傾斜的機(jī)構(gòu)，及 其中，光的遠(yuǎn)心度根據(jù)光學(xué)積分器的傾斜而改變。3.如權(quán)利要求1所述的照明光學(xué)裝置， 其中，調(diào)節(jié)單元包括 楔形光學(xué)元件對；及 被配置為使楔形光學(xué)元件對中的至少一個(gè)關(guān)于光軸旋轉(zhuǎn)的機(jī)構(gòu)，及 其中，光的遠(yuǎn)心度根據(jù)楔形光學(xué)元件對中的所述至少一個(gè)關(guān)于光軸的旋轉(zhuǎn)而改變。4.如權(quán)利要求1所述的照明光學(xué)裝置，還包括 測量單元，被配置為測量光的遠(yuǎn)心度。5.如權(quán)利要求4所述的照明光學(xué)裝置，其中，調(diào)節(jié)單元包括被配置為基于測量單元的測量值來使光學(xué)積分器傾斜的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。6.如權(quán)利要求1所述的照明光學(xué)裝置，還包括:被配置為在作為旋轉(zhuǎn)中心的光學(xué)積分器的射出端面的中心位置處使光學(xué)積分器傾斜的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。7.如權(quán)利要求6所述的照明光學(xué)裝置，還包括:被配置為使入射到光學(xué)積分器的入射端面上的光的位置移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。8.如權(quán)利要求6所述的照明光學(xué)裝置，還包括:被配置為使光源的位置移動(dòng)的光源驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。9.如權(quán)利要求3所述的照明光學(xué)裝置，其中，楔形光學(xué)元件對被布置在光學(xué)積分器的射出端面與圖像形成光學(xué)系統(tǒng)之間。10.如權(quán)利要求3所述的照明光學(xué)裝置，其中，楔形光學(xué)元件對被布置在圖像形成光學(xué)系統(tǒng)與掩模之間。11.如權(quán)利要求4所述的照明光學(xué)裝置，其中，調(diào)節(jié)單元包括被配置為基于測量單元的測量值來在與光軸垂直的平面內(nèi)使楔形光學(xué)元件對旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)。12.如權(quán)利要求3所述的照明光學(xué)裝置， 其中，楔形光學(xué)元件對包括第一楔形光學(xué)元件和第二楔形光學(xué)元件， 其中，第一楔形光學(xué)元件的光入射到其上的面與光軸垂直，及 其中，第二楔形光學(xué)元件的光從其射出的面與光軸垂直。13.一種用于將在掩模上形成的圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基板上的曝光裝置，該裝置包括: 如權(quán)利要求1至12中任一項(xiàng)所述的被配置為照明掩模的照明光學(xué)裝置。14.一種制造設(shè)備的方法，該方法包括以下步驟: 利用如權(quán)利要求13所述的曝光裝置曝光基板；及 顯影在曝光步驟中被曝光的基板。
【專利摘要】公開了照明光學(xué)裝置和設(shè)備制造方法。提供了用于利用來自光源的光照明掩模的照明光學(xué)裝置。該裝置包括：光學(xué)積分器，被配置為通過使從入射端面入射的光在內(nèi)表面中反射多次來使光強(qiáng)度分布在射出端面中均勻；圖像形成光學(xué)系統(tǒng)，被配置為在掩模上形成光學(xué)積分器的射出端面的圖像；及調(diào)節(jié)單元，被配置為調(diào)節(jié)光的遠(yuǎn)心度使得入射到掩模上的主光線與掩模的法線接近平行，并且被配置為布置在圖像形成光學(xué)系統(tǒng)的外部。
【IPC分類】G03F7/20
【公開號】CN105629671
【申請?zhí)枴緾N201510786814
【發(fā)明人】水谷將樹
【申請人】佳能株式會(huì)社
【公開日】2016年6月1日
【申請日】2015年11月17日
【公告號】US20160147162