投影機(jī)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種投影機(jī)，包括光源、數(shù)位微鏡裝置、鏡頭和遮光裝置，本發(fā)明設(shè)計(jì)觀念為利用遮光裝置，使得數(shù)位微鏡裝置發(fā)出的拋棄光束入射遮光裝置，且遮光裝置的第一反射面和第二反射面呈第一夾角，該第一夾角小于90度，借此減少射出鏡頭的該拋棄光束，實(shí)現(xiàn)有效提升投影畫面的對比度。
【專利說明】
投影機(jī)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明描述一種投影機(jī)，尤指一種低漏光的投影機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002] 投影儀是一種可以將圖像或者視頻投射到屏幕上的設(shè)備，可以通過不同的接口同 計(jì)算機(jī)、￥00、0￥030、游戲機(jī)、0￥等相連接播放相應(yīng)的視頻信號，達(dá)到大屏幕的投影顯示方 式來提供收看者極佳的呈現(xiàn)與視覺效果。隨著電子技術(shù)的不斷發(fā)展，投影儀廣泛用于教育、 商業(yè)和家庭中。根據(jù)投影儀工作原理的不同可分為陰極射線管投影儀(CRT)，液晶投影儀 (LCD)和數(shù)碼光學(xué)處理器投影儀(DLP)。其中數(shù)碼光學(xué)處理器投影儀的成像原理為:光源發(fā) 出的光線經(jīng)過多個(gè)光學(xué)元件傳遞至處于開啟狀態(tài)的數(shù)位微鏡裝置(Digital Micro-mirror Device)，并藉由處于開啟狀態(tài)的數(shù)位微鏡裝置轉(zhuǎn)換為成像光后由投影鏡頭射出以產(chǎn)生投 射影像，即將微小影像投影到巨幅熒幕上，并提供足夠的亮度，將影像資訊分享給眾人。而 當(dāng)數(shù)位微鏡裝置處于關(guān)閉狀態(tài)時(shí)，數(shù)位微鏡裝置反射出的拋棄光束會部分射出投影鏡頭， 而降低影像畫面的對比度，影響成像品質(zhì)。
[0003] 因此，有必要設(shè)計(jì)一種新的投影機(jī)，以克服上述缺陷。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 本發(fā)明的目的在于提供一種投影機(jī)，其可有效防止漏光，提高成像品質(zhì)。
[0005] 為達(dá)上述目的，本發(fā)明提供一種投影機(jī)，包含：
[0006] 光源，發(fā)出入射光；
[0007]數(shù)位微鏡裝置，用以接收并反射該入射光以形成成像光或者拋棄光束；
[0008]鏡頭，位于該成像光的傳遞路徑上，用以接收并投射該成像光；以及 [0009]遮光裝置，位于該拋棄光束的傳遞路徑上，用于接收并反射該拋棄光束；
[0010]其中，該遮光裝置具有第一反射面和第二反射面，該第一反射面和該第二反射面 具有第一夾角，該第一夾角小于90度。
[0011] 較佳的，該拋棄光束于該第一反射面和該第二反射面上進(jìn)行至少兩次反射。
[0012] 較佳的，該拋棄光束入射該第一反射面，經(jīng)由該第一反射面反射至該第二反射面， 并被該第二反射面反射。
[0013]較佳的，該第一夾角為69.2度。
[0014] 較佳的，該第一反射面和該第二反射面上設(shè)置有抗反射層或者吸光層。
[0015] 較佳的，該遮光裝置由金屬材料制成。
[0016] 較佳的，經(jīng)該遮光裝置反射后的該拋棄光束以遠(yuǎn)離該鏡頭的方向射出。
[0017] 較佳的，該數(shù)位微鏡裝置具有反射面，該反射面用以接收并反射該入射光，該第一 反射面朝向該數(shù)位微鏡裝置的該反射面，該第二反射面背向該鏡頭。
[0018] 較佳的，還包括第一腔體，設(shè)置于該光源、該數(shù)位微鏡裝置和該鏡頭之間，該鏡頭 的入光口連接于該第一腔體，該遮光裝置位于該第一腔體內(nèi)。
[0019] 較佳的，還包括棱鏡系統(tǒng)，設(shè)置于該第一腔體內(nèi)，該棱鏡系統(tǒng)用于接收并傳遞該入 射光至該數(shù)位微鏡裝置，將該成像光傳遞至該鏡頭，以及將該拋棄光束傳遞至該遮光裝置。
[0020] 較佳的，還包括反射罩，該反射罩設(shè)置于該第一腔體內(nèi)且位于該棱鏡系統(tǒng)的遠(yuǎn)離 該數(shù)位微鏡裝置的一側(cè)，該遮光裝置設(shè)置于該反射罩上且位于該反射罩的鄰近該鏡頭的一 端。
[0021] 較佳的，該第一反射面設(shè)置于該棱鏡系統(tǒng)的遠(yuǎn)離該數(shù)位微鏡裝置的一側(cè)，該第二 反射面設(shè)置于該棱鏡系統(tǒng)和該鏡頭之間。
[0022] 與現(xiàn)有技術(shù)相對比，本發(fā)明提供一種投影機(jī)，其設(shè)計(jì)觀念為利用遮光裝置，使得數(shù) 位微鏡裝置發(fā)出的拋棄光束入射遮光裝置，且遮光裝置的第一反射面和第二反射面呈第一 夾角，該第一夾角小于90度，借此衰減該拋棄光束的能量，減少射出鏡頭的該拋棄光束以避 免鏡頭漏光，實(shí)現(xiàn)有效提升投影畫面的對比度。
【附圖說明】
[0023] 圖1為本發(fā)明實(shí)施例投影機(jī)于第一狀態(tài)的剖面示意圖。
[0024] 圖2為本發(fā)明實(shí)施例投影機(jī)于第二狀態(tài)的剖面示意圖
[0025] 圖3為本發(fā)明實(shí)施例投影機(jī)的第一腔體的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0026] 圖4為本發(fā)明實(shí)施例投影機(jī)的遮光裝置和反射罩的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0027] 圖5為本發(fā)明實(shí)施例投影機(jī)的部分元件的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0028] 為使對本發(fā)明的目的、構(gòu)造、特征、及其功能有進(jìn)一步的了解，茲配合實(shí)施例詳細(xì) 說明如下。
[0029] 圖1為本發(fā)明實(shí)施例投影機(jī)于第一狀態(tài)的剖面示意圖，圖2為本發(fā)明實(shí)施例投影機(jī) 于第二狀態(tài)的剖面示意圖，圖3為本發(fā)明實(shí)施例投影機(jī)的第一腔體的結(jié)構(gòu)示意圖，圖4為本 發(fā)明實(shí)施例投影機(jī)的遮光裝置和反射罩的結(jié)構(gòu)示意圖，圖5為本發(fā)明實(shí)施例投影機(jī)的部分 元件的結(jié)構(gòu)示意圖。圖1至圖5所示，本發(fā)明投影機(jī)包含光源、數(shù)位微鏡裝置（Digital Micro-mirror Device，DMD) 12、鏡頭14和遮光裝置15。其中，光源用于發(fā)出入射光111。數(shù)位 微鏡裝置12用以接收并反射入射光111以形成成像光121(參見圖1所示)或者拋棄光束122 (參見圖2所示）。例如，數(shù)位微鏡裝置12為二軸翻轉(zhuǎn)式的晶片組（TRP(Tilt&Roll Pixel) DU^PicoTM chipset)，其微鏡沿二對角線各翻轉(zhuǎn)12度，等效相對于長邊方向翻轉(zhuǎn)17度，用 以將入射光111以約34度反射為成像光121，但不以此為限。鏡頭14位于成像光121的傳遞路 徑上，用以接收并投射成像光121。遮光裝置15位于拋棄光束122的傳遞路徑上，用于接收并 反射拋棄光束122。其中，遮光裝置15具有第一反射面151和第二反射面152,第一反射面151 和第二反射面152具有第一夾角A，第一夾角A小于90度，即，第一反射面151和第二反射面 152呈"人"型，借此，可有效衰減拋棄光束122的能量，由此減少射出鏡頭14的拋棄光束122， 故可有效提升投影畫面的對比度。并且，相較于夾角呈90度的"L"型的遮光裝置，本發(fā)明遮 光裝置15具有更高的遮光效率，以獲得更高的成像品質(zhì)。另外，為便于說明，特定義具有兩 兩彼此垂直的X軸、Y軸以及Z軸的空間，數(shù)位微鏡裝置12對應(yīng)于X軸和Z軸所形成的平面。
[0030] 進(jìn)一步的，如圖2所示，拋棄光束122于第一反射面151和第二反射面152上進(jìn)行至 少兩次反射，以衰減該拋棄光束的能量。具體而言，如圖2所示，拋棄光束122入射第一反射 面151，經(jīng)由第一反射面151反射后入射第二反射面152,并被第二反射面152反射，即拋棄光 束122入射第一反射面151后，都會被遮光裝置15反射兩次，以衰減該拋棄光束的能量。進(jìn)一 步的，拋棄光束122的至少部分光線經(jīng)第二反射面152反射后還可以再次入射第一反射面 151，并被第一反射面151反射，即于遮光裝置15上進(jìn)行第三次的反射，如此，可進(jìn)一步衰減 拋棄光束122的能量，甚至使拋棄光束122的能量衰減至消失，從而提高成像品質(zhì)。當(dāng)然，若 拋棄光束122首先入射的是第二反射面152,則第二反射面152亦會將拋棄光束122反射至第 一反射面151，并被第一反射面151反射。進(jìn)一步的，拋棄光束122的至少部分光經(jīng)第一反射 面151反射后還可以再次入射第二反射面152,并被第二反射面152反射，即于遮光裝置15上 進(jìn)行第三次的反射，如此，可進(jìn)一步衰減拋棄光束122的能量，甚至使拋棄光束122的能量衰 減至消失，從而調(diào)高成像品質(zhì)。當(dāng)然，拋棄光束122的部分光線還可以再次進(jìn)行更多次的反 射，原理同上，在此不再贅述
[0031] 較佳的，第一夾角A介于45度至90度之間（45° <A〈90° )，以有效遮擋拋棄光束122。 于實(shí)際應(yīng)用中，第一夾角A為69.2度，當(dāng)?shù)谝粖A角A為69.2度時(shí)，遮光裝置15的遮蔽率(阻擋 的拋棄光束的量占拋棄光束總量)高于第一夾角A為其它角度時(shí)的遮蔽率，如此可進(jìn)一步有 效降低入射鏡頭14的拋棄光束122的量，提高畫面品質(zhì)。
[0032] 進(jìn)一步的，第一反射面151和第二反射面152上通過涂布或者鍍膜的方式設(shè)置有抗 反射層或者吸光層，以吸收部分拋棄光束122,減少反射出去的拋棄光束122,實(shí)現(xiàn)更大限度 衰減拋棄光束122的能量。例如，抗反射層或者吸光層為BARE涂層(具有96%光線吸收率與 4%光線反射率），或是AR涂層(具有99.5%光線吸收率與0.5%光線反射率）。當(dāng)然，于其它 實(shí)施例中，遮光裝置15本身可利用光吸收材料或者抗反射材料制造而成，以吸收部分拋棄 光束122,減少反射出去的拋棄光束122,實(shí)現(xiàn)更大限度衰減拋棄光束122的能量。
[0033] 進(jìn)一步的，遮光裝置15由金屬材料制成，以快速導(dǎo)散反射和吸收拋棄光束122所產(chǎn) 生的能量，避免高溫集中，有利于投影機(jī)的正常工作。
[0034]進(jìn)一步的，如圖2所示，經(jīng)遮光裝置15反射后的拋棄光束122以遠(yuǎn)離鏡頭14的方向 射出，如此，可進(jìn)一步降低拋棄光束122入射鏡頭14的量，甚至使拋棄光束122進(jìn)入鏡頭14的 量降至接近于零，故可有效避免拋棄光束122進(jìn)入鏡頭14,提高畫面對比度。本實(shí)施例中，如 圖2所示，第一反射面151面向數(shù)位微鏡裝置12的反射面123,以接收數(shù)位微鏡裝置12反射出 的拋棄光束122;第二反射面152背向鏡頭14,以將拋棄光束122反射至遠(yuǎn)離鏡頭14的方向。 [0035]進(jìn)一步的，如圖1至圖3所示，投影機(jī)還包括第一腔體13,第一腔體13設(shè)置于光源、 數(shù)位微鏡裝置12和鏡頭14之間，鏡頭14的入光口 141連接于第一腔體13,遮光裝置15位于第 一腔體13內(nèi)。如此，拋棄光束122經(jīng)由遮光裝置15射出后可入射第一腔體13，以被第一腔體 13的內(nèi)壁所反射，可進(jìn)一步使拋棄光束122衰減甚至消失。較佳的，拋棄光束122于第一腔體 13的內(nèi)壁上進(jìn)行多次反射，再進(jìn)一步使拋棄光束122衰減甚至消失，例如，當(dāng)遮光裝置15反 射后的拋棄光束122以遠(yuǎn)離鏡頭14的方向入射該內(nèi)壁，則可于第一腔體13的內(nèi)壁上進(jìn)行多 次反射。進(jìn)一步的，第一腔體13可通過涂布或者鍍膜的方式設(shè)置有抗反射層或者吸光層，或 者第一腔體13本身可利用光吸收材料或者抗反射材料制造而成，以吸收至少部分拋棄光束 122，減少反射出去的該拋棄光束，實(shí)現(xiàn)更大限度衰減該拋棄光束的能量。當(dāng)然，于其它實(shí)施 例中，第一腔體13的內(nèi)壁131還可形成散射結(jié)構(gòu)，可使拋棄光束122于第一腔體13的內(nèi)壁131 產(chǎn)生散射，并增加光吸收面積，以更有效的去除拋棄光束122,具體由設(shè)計(jì)人員根據(jù)實(shí)際情 況而定，在此不再贅述。進(jìn)一步的，第一腔體13由金屬材料制成，以快速導(dǎo)散反射和吸收拋 棄光束122所產(chǎn)生的能量，避免高溫集中，有利于投影機(jī)的正常工作。
[0036]進(jìn)一步的，如圖1和圖2所示，還包括棱鏡系統(tǒng)16,設(shè)置于第一腔體13內(nèi)，棱鏡系統(tǒng) 16用于接收入射光111并傳遞至數(shù)位微鏡裝置12,將數(shù)位微鏡裝置12反射出來的成像光121 傳遞至鏡頭14,以及將數(shù)位微鏡裝置12反射出來的拋棄光束122傳遞至遮光裝置15。
[0037]進(jìn)一步的，遮光裝置15設(shè)置于棱鏡系統(tǒng)16的遠(yuǎn)離數(shù)位微鏡裝置12和光源的位置。 具體而言，第一反射面151設(shè)置于棱鏡系統(tǒng)16的遠(yuǎn)離數(shù)位微鏡裝置12的一側(cè)，第二反射面 152設(shè)置于棱鏡系統(tǒng)16和鏡頭14之間。進(jìn)一步的，第一反射面151于X軸和Y軸所在平面的投 影位于鏡頭14和數(shù)位微鏡裝置12于X軸和Y軸所在平面的投影之間。進(jìn)一步的，第一反射面 151于X軸和Y軸所在平面的投影位于鏡頭14和棱鏡系統(tǒng)16于X軸和Y軸所在平面的投影之 間。進(jìn)一步的，數(shù)位微鏡裝置12于X軸和Y軸所在平面的投影與第二反射面152于X軸和Y軸所 在平面的投影部分重合，且棱鏡系統(tǒng)16于X軸和Y軸所在平面的投影與第二反射面152于X軸 和Y軸所在平面的投影部分重合。進(jìn)一步的，棱鏡系統(tǒng)16、數(shù)位微鏡裝置12和遮光裝置15于Z 軸和Y軸所在平面的投影位于鏡頭14于Z軸和Y軸所在平面的投影內(nèi)，且數(shù)位微鏡裝置12于Z 軸和Y軸所在平面的投影位于鏡頭14于Z軸和Y軸所在平面的投影的上端，遮光裝置15于Z軸 和Y軸所在平面的投影位于鏡頭14于Z軸和Y軸所在平面的投影的下端。進(jìn)一步的，第一反射 面151平行于X軸和Y軸所在的平面，但不以此為限，具體由設(shè)計(jì)人員根據(jù)實(shí)際情況而定，在 此不再贅述。
[0038]于實(shí)際應(yīng)用中，如圖1、圖2和圖4所示，投影機(jī)還包括反射罩17，反射罩17設(shè)置于第 一腔體13內(nèi)且位于棱鏡系統(tǒng)16的遠(yuǎn)離數(shù)位微鏡裝置12的一側(cè)，遮光裝置15設(shè)置于反射罩17 上且位于反射罩17的鄰近鏡頭14的一端。進(jìn)一步的，反射罩17為棱鏡系統(tǒng)16的反射罩，可提 高棱鏡系統(tǒng)16的光學(xué)效率。進(jìn)一步的，遮光裝置15藉由鉚釘171鉚接在反射罩17上。
[0039]進(jìn)一步的，拋棄光束122經(jīng)遮光裝置15反射后可以入射反射罩17和/或第一腔體13 的內(nèi)壁。當(dāng)拋棄光束122入射第一腔體13的內(nèi)壁時(shí)，拋棄光束122于該內(nèi)壁進(jìn)行反射，當(dāng)拋棄 光束122入射反射罩17時(shí)，拋棄光束122經(jīng)反射罩17反射后可入射該內(nèi)壁，如此，可使拋棄光 束122逐漸衰減甚至消失，故可有效避免該拋棄光束進(jìn)入鏡頭14導(dǎo)致鏡頭14漏光，提高畫面 對比度。
[0040]于實(shí)際應(yīng)用中，如圖1、圖2和圖3所示，第一腔體13具有頂部開口 132、以及相對的 第二側(cè)開口 133和第一側(cè)開口 134,頂部開口 132用于設(shè)置數(shù)位微鏡裝置12,第一側(cè)開口 134 用以接收入射光111，第二側(cè)開口 133與鏡頭14的入光口相連且成像光121藉由第二側(cè)開口 133入射鏡頭14。較佳的，頂部開口 132封閉設(shè)置數(shù)位微鏡裝置12,且數(shù)位微鏡裝置12的反射 面123朝向第一腔體13;第二側(cè)開口 133與鏡頭14的入光口封閉連接，以防止漏光。進(jìn)一步 的，投影機(jī)還包括透鏡18,透鏡18設(shè)置于第一側(cè)開口 134,且第一側(cè)開口 134封閉容置透鏡 18，入射光111穿透透鏡18入射第一腔體13。
[0041 ]進(jìn)一步的，如圖1和圖2所不，棱鏡系統(tǒng)16包括第一棱鏡161和第二棱鏡162，第一棱 鏡161鄰近光源設(shè)置，第一棱鏡161接收并傳遞該入射光，第二棱鏡162設(shè)置于第一棱鏡161 及數(shù)位微鏡裝置12間，用于接收第一棱鏡161傳遞過來的該入射光并傳遞至數(shù)位微鏡裝置 12。
[0042] 進(jìn)一步的，如圖1和圖2所示，還包括反射鏡19,反射鏡19設(shè)置于光源和透鏡18之 間，反射鏡19用于接收光源提供的沿第一光路傳播的入射光111并反射入射光111至沿第二 光路傳播至透鏡18。較佳的，該第一光路垂直于該第二光路，如此以縮小投影機(jī)的體積，有 利于微型化，但不以此為限。
[0043] 進(jìn)一步的，如圖5所示，第一棱鏡161還包含第一面1611、第二面1612和第三面 1613,第一面1611鄰近光源側(cè)且接收入射光111，第二面1612鄰接第一面1611和第三面 1613,入射光111經(jīng)第二面1612反射至第三面1613并經(jīng)第三面1613反射后穿透第二面1612; 第二棱鏡162包含第四面1621、第五面1622和第六面1623,第四面1621平行第二面1612且接 收入射光111，第四面1621貼合第二面1612設(shè)置以使第一棱鏡161與第二棱鏡162配合形成 棱鏡系統(tǒng)16,或者第四面1621與第二面1612之間具有間隙。第五面1622鄰近數(shù)位微鏡裝置 12的反射面123設(shè)置，且第五面1622平行數(shù)位微鏡裝置12,第六面1623鄰接第四面1621及第 五面1622,入射光111穿透第四面1621及第五面1622至數(shù)位微鏡裝置12,經(jīng)由數(shù)位微鏡裝置 12形成的成像光121穿透第五面1622且經(jīng)第四面1621反射后自第六面1623射出第二棱鏡 162;經(jīng)由數(shù)位微鏡裝置12形成的拋棄光束122依次穿透第五面1622、第四面1621和第二面 1612后自第三面1613射出第二棱鏡162。
[0044] 綜上所述，本發(fā)明提供一種投影機(jī)，其設(shè)計(jì)觀念為利用遮光裝置，使得數(shù)位微鏡裝 置發(fā)出的拋棄光束入射遮光裝置，且遮光裝置的第一反射面和第二反射面呈第一夾角，該 第一夾角小于90度，借此衰減該拋棄光束的能量，減少射出鏡頭的該拋棄光束，實(shí)現(xiàn)有效提 升投影畫面的對比度。
[0045] 本發(fā)明已由上述相關(guān)實(shí)施例加以描述，然而上述實(shí)施例僅為實(shí)施本發(fā)明的范例。 必需指出的是，已揭露的實(shí)施例并未限制本發(fā)明的范圍。相反地，在不脫離本發(fā)明的精神和 范圍內(nèi)所作的更動與潤飾，均屬本發(fā)明的專利保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種投影機(jī)，其特征在于，包含： 光源，發(fā)出入射光； 數(shù)位微鏡裝置，用以接收并反射該入射光以形成成像光或者拋棄光束； 鏡頭，位于該成像光的傳遞路徑上，用以接收并投射該成像光；以及 遮光裝置，位于該拋棄光束的傳遞路徑上，用于接收并反射該拋棄光束； 其中，該遮光裝置具有第一反射面和第二反射面，該第一反射面和該第二反射面具有 第一夾角，該第一夾角小于90度。2. 如權(quán)利要求1所述的投影機(jī)，其特征在于，該拋棄光束于該第一反射面和該第二反射 面上進(jìn)行至少兩次反射。3. 如權(quán)利要求1所述的投影機(jī)，其特征在于，該拋棄光束入射該第一反射面，經(jīng)由該第 一反射面反射至該第二反射面，并被該第二反射面反射。4. 如權(quán)利要求1所述的投影機(jī)，其特征在于，該第一夾角為69.2度。5. 如權(quán)利要求1所述的投影機(jī)，其特征在于，該第一反射面和該第二反射面上設(shè)置有抗 反射層或者吸光層。6. 如權(quán)利要求1所述的投影機(jī)，其特征在于，該遮光裝置由金屬材料制成。7. 如權(quán)利要求1所述的投影機(jī)，其特征在于，經(jīng)該遮光裝置反射后的該拋棄光束以遠(yuǎn)離 該鏡頭的方向射出。8. 如權(quán)利要求1所述的投影機(jī)，其特征在于，該數(shù)位微鏡裝置具有反射面，該反射面用 以接收并反射該入射光，該第一反射面朝向該數(shù)位微鏡裝置的該反射面，該第二反射面背 向該鏡頭。9. 如權(quán)利要求1所述的投影機(jī)，其特征在于，還包括第一腔體，設(shè)置于該光源、該數(shù)位微 鏡裝置和該鏡頭之間，該鏡頭的入光口連接于該第一腔體，該遮光裝置位于該第一腔體內(nèi)。10. 如權(quán)利要求9所述的投影機(jī)，其特征在于，還包括棱鏡系統(tǒng)，設(shè)置于該第一腔體內(nèi)， 該棱鏡系統(tǒng)用于接收并傳遞該入射光至該數(shù)位微鏡裝置，將該成像光傳遞至該鏡頭，以及 將該拋棄光束傳遞至該遮光裝置。11. 如權(quán)利要求10所述的投影機(jī)，其特征在于，還包括反射罩，該反射罩設(shè)置于該第一 腔體內(nèi)且位于該棱鏡系統(tǒng)的遠(yuǎn)離該數(shù)位微鏡裝置的一側(cè)，該遮光裝置設(shè)置于該反射罩上且 位于該反射罩的鄰近該鏡頭的一端。12. 如權(quán)利要求10或者11所述的投影機(jī)，其特征在于，該第一反射面設(shè)置于該棱鏡系統(tǒng) 的遠(yuǎn)離該數(shù)位微鏡裝置的一側(cè)，該第二反射面設(shè)置于該棱鏡系統(tǒng)和該鏡頭之間。
【文檔編號】G03B21/20GK105842970SQ201610329855
【公開日】2016年8月10日
【申請日】2016年5月18日
【發(fā)明人】陳嘉彬, 胡圣文, 蕭啟宏, 何文中, 林穎芳
【申請人】蘇州佳世達(dá)光電有限公司, 佳世達(dá)科技股份有限公司