用于確定包括至少一個(gè)光學(xué)鏡片和一個(gè)眼鏡架的光學(xué)設(shè)備的方法
【專利摘要】由計(jì)算機(jī)裝置實(shí)現(xiàn)的用于確定包括至少一個(gè)光學(xué)鏡片和一個(gè)眼鏡架的光學(xué)設(shè)備的方法，該光學(xué)鏡片被適配成安裝在佩戴者眼睛前方的該眼鏡架中，該方法包括：?佩戴者數(shù)據(jù)提供步驟，在該步驟過程中，提供至少與該佩戴者的光學(xué)要求、與佩戴者的臉形以及與當(dāng)所述光學(xué)設(shè)備由所述佩戴者佩戴時(shí)該光學(xué)設(shè)備相對(duì)于該佩戴者臉部的位置相關(guān)的佩戴者數(shù)據(jù)；?光學(xué)成本函數(shù)提供步驟，在該步驟過程中，提供光學(xué)成本函數(shù)，該光學(xué)成本函數(shù)與當(dāng)所述光學(xué)設(shè)備由所述佩戴者佩戴時(shí)該至少一個(gè)光學(xué)鏡片的光學(xué)功能相關(guān)；?光防護(hù)成本函數(shù)提供步驟，在該步驟過程中，提供光防護(hù)成本函數(shù)，該光防護(hù)成本函數(shù)至少與當(dāng)所述光學(xué)設(shè)備由所述佩戴者佩戴時(shí)至少在給定的條件下在該佩戴者眼睛和/或在該佩戴者眼睛的眶周區(qū)中的佩戴者皮膚之上的光譜輻照度估計(jì)相關(guān)；?光學(xué)設(shè)備確定步驟，在該步驟過程中，確定使總成本函數(shù)與該總成本函數(shù)的目標(biāo)值之間的差最小化的光學(xué)設(shè)備，該總成本函數(shù)是該光學(xué)成本函數(shù)與該光防護(hù)成本函數(shù)的函數(shù)。
【專利說明】
用于確定包括至少一個(gè)光學(xué)鏡片和一個(gè)眼鏡架的光學(xué)設(shè)備的 方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明涉及一種用于確定包括至少一個(gè)光學(xué)鏡片和一個(gè)眼鏡架的光學(xué)設(shè)備的方 法，該光學(xué)鏡片被適配成安裝在佩戴者眼睛前方的眼鏡架中。本發(fā)明進(jìn)一步涉及一種計(jì)算 機(jī)程序產(chǎn)品，該計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品包括一個(gè)或多個(gè)存儲(chǔ)的指令序列，這些指令序列是處理器 可訪問的、并且在被該處理器執(zhí)行時(shí)致使該處理器實(shí)施根據(jù)本發(fā)明的方法的步驟。
【背景技術(shù)】
[0002] 對(duì)本發(fā)明的背景的討論包括于此以解釋本發(fā)明的上下文。這將不被認(rèn)為是承認(rèn)所 引用的任何材料被公開、已知或者是權(quán)利要求書中的任一項(xiàng)權(quán)利要求的優(yōu)先權(quán)日下的公共 常識(shí)的一部分。
[0003] 根據(jù)其光譜范圍（紫外線、可見光、IR)光輻射對(duì)于包括安裝在眼鏡架中的光學(xué)鏡 片的光學(xué)設(shè)備的佩戴者而言可能是有害的和/或不舒適的。
[0004] 在可以到達(dá)佩戴者的眼睛或到達(dá)佩戴者的眶周區(qū)中的皮膚的輻射之中，可以考慮 以下類型的輻射。
[0005] 首先，進(jìn)入穿過光學(xué)鏡片的正面并且向上透射到眼睛的透射輻射。這種輻射直接 通過兩次折射或者通過在由光學(xué)鏡片的背面最終折射并到達(dá)佩戴者的眼睛之前在光學(xué)鏡 片的背面上并且然后在光學(xué)鏡片的正面上多次內(nèi)反射的更復(fù)雜路徑到達(dá)眼睛。
[0006] 其次，在已經(jīng)由光學(xué)鏡片的背面反射之后到達(dá)眼睛的反射輻射。通常，來自佩戴者 后方的輻射如果其不經(jīng)受佩戴者頭部的或眼鏡架的遮蔽效應(yīng)則可以由光學(xué)鏡片的背面朝 佩戴者的眼睛反射。
[0007] 第三，在沒有被光學(xué)鏡片反射或透射的情況下直接到達(dá)佩戴者的眼睛的直接輻 射。
[0008] 通常，光學(xué)鏡片有效地吸收可以直接透射過鏡片的有害紫外線輻射而透射有用的 可見光輻射。但是從佩戴者后方而來的輻射可以通過施加于鏡片背面的多層涂層被反射并 因此到達(dá)佩戴者的眼睛。標(biāo)準(zhǔn)多層涂層被設(shè)計(jì)以便減少被反射的不舒適可見光輻射的量。
[0009] 減少紫外線輻射的反射的特定涂層可以被涂覆在光學(xué)鏡片的后表面上以便在已 經(jīng)在光學(xué)鏡片的后表面上被反射之后限制到達(dá)佩戴者眼睛的危險(xiǎn)輻射。
[0010] 然而，除了光學(xué)鏡片的后表面的涂層外，許多其他參數(shù)可以影響到達(dá)佩戴者眼睛 的間接輻射的量。例如，眼鏡架的形狀和/或佩戴者的臉形和/或光學(xué)鏡片的幾何結(jié)構(gòu)可以 影響到達(dá)佩戴者眼睛的間接輻射的量。光學(xué)鏡片的幾何結(jié)構(gòu)還可以影響在已經(jīng)穿過光學(xué)鏡 片之后到達(dá)佩戴者眼睛的間接輻射的量。
[0011] 因此，看起來需要提供改進(jìn)的光學(xué)設(shè)備，該改進(jìn)的光學(xué)設(shè)備被安排成通過在光學(xué) 鏡片的后表面上的反射或者通過光學(xué)鏡片減少到達(dá)佩戴者眼睛的不期望的輻射的量。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0012] 為此，本發(fā)明提出一種例如由計(jì)算機(jī)裝置實(shí)現(xiàn)的用于確定包括至少一個(gè)光學(xué)鏡片 和眼鏡架的光學(xué)設(shè)備的方法，該光學(xué)鏡片被適配成安裝在佩戴者眼睛前方的眼鏡架中，該 方法包括：
[0013] -佩戴者數(shù)據(jù)提供步驟，在該步驟過程中，提供至少與該佩戴者的光學(xué)要求、與佩 戴者的臉形以及與當(dāng)所述光學(xué)設(shè)備由所述佩戴者佩戴時(shí)該光學(xué)設(shè)備相對(duì)于該佩戴者臉部 的位置相關(guān)的佩戴者數(shù)據(jù)，
[0014] -光學(xué)成本函數(shù)提供步驟，在該步驟過程中，提供光學(xué)成本函數(shù)，該光學(xué)成本函數(shù) 與當(dāng)所述光學(xué)設(shè)備由所述佩戴者佩戴時(shí)該至少一個(gè)光學(xué)鏡片的光學(xué)功能相關(guān)，
[0015] -光防護(hù)成本函數(shù)提供步驟，在該步驟過程中，提供光防護(hù)成本函數(shù)，該光防護(hù)成 本函數(shù)至少與當(dāng)所述光學(xué)設(shè)備由所述佩戴者佩戴時(shí)至少在給定的條件下在該佩戴者眼睛 和/或在該佩戴者眼睛的眶周區(qū)中的佩戴者皮膚之上的光譜輻照度估計(jì)相關(guān)，
[0016] -光學(xué)設(shè)備確定步驟，在該步驟過程中，通過修改該光學(xué)設(shè)備的至少一個(gè)參數(shù)確定 使總成本函數(shù)與該總成本函數(shù)的目標(biāo)值之間的差最小化的光學(xué)設(shè)備，該總成本函數(shù)是該光 學(xué)成本函數(shù)與該光防護(hù)成本函數(shù)的函數(shù)。
[0017] 有利地，在光學(xué)設(shè)備確定步驟過程中考慮作為光防護(hù)成本函數(shù)的函數(shù)的總成本函 數(shù)允許提供根據(jù)佩戴者眼睛和/或在眶周區(qū)中的佩戴者皮膚的光譜輻照度優(yōu)化的光學(xué)設(shè) 備。
[0018] 換言之，不像到目前為止已經(jīng)完成的，根據(jù)本發(fā)明確定的光學(xué)設(shè)備不僅是根據(jù)光 學(xué)功能而且還是根據(jù)由所述光學(xué)設(shè)備提供的光防護(hù)確定的。
[0019] 此外，根據(jù)本發(fā)明的方法允許確定適合于佩戴者的臉形的光學(xué)設(shè)備和/或該光學(xué) 設(shè)備有待在其中使用的大氣條件和/或所述光學(xué)設(shè)備的特定佩戴條件。
[0020] 換言之，根據(jù)本發(fā)明的方法是允許通過將個(gè)性化使用環(huán)境的特殊性考慮在內(nèi)確定 定制化設(shè)備的工具。這相比于針對(duì)眼科鏡片和眼鏡光學(xué)設(shè)備建立的設(shè)計(jì)技術(shù)是技術(shù)突破。
[0021] 根據(jù)可以單獨(dú)或組合地進(jìn)行考慮的進(jìn)一步的實(shí)施例：
[0022] -該給定的條件包括關(guān)于所述佩戴者站立于其中的至少一個(gè)場(chǎng)景的位置的信息， 所述至少一個(gè)場(chǎng)景包括光譜反照率的空間重分和至少一個(gè)輻射源，所述至少一個(gè)輻射源具 有確定的發(fā)射光譜以及當(dāng)所述光學(xué)設(shè)備由所述佩戴者佩戴時(shí)相對(duì)于該佩戴者臉部的位置， 其中，所述光防護(hù)成本函數(shù)提供步驟涉及對(duì)來自被所述至少一個(gè)輻射源照亮的所述至少一 個(gè)場(chǎng)景的輻照度進(jìn)行建模的步驟;和/或
[0023] -所述確定的發(fā)射光譜被至少限制于光譜窗，如紫外線A窗、紫外線B窗、可見光窗、 近紅外窗、中紅外窗、遠(yuǎn)紅外窗;和/或
[0024] -所述光學(xué)成本函數(shù)是通過考慮第一光譜窗確定的，所述光防護(hù)成本函數(shù)是通過 考慮第二光譜窗確定的，其中，所述第一光譜窗和所述第二光譜窗是不同的;和/或
[0025] -所述輻射源是太陽(yáng)或人造輻射源;和/或
[0026] -所述場(chǎng)景位置是由地面上的位置定義的并且所述給定的條件包括日期和時(shí)間信 息;和/或
[0027] -當(dāng)所述至少一個(gè)輻射源是太陽(yáng)時(shí)，所述地面上的位置以及所述日期和時(shí)間信息 用于確定太陽(yáng)高度角;和/或
[0028] -該給定的條件包括場(chǎng)景大氣的氣膠成分和/或覆蓋該場(chǎng)景的云層描述;和/或
[0029] -該給定的條件包括關(guān)于光譜反照率的所述空間重分所反射的輻射的偏振的信 息;和/或
[0030] -所述光學(xué)設(shè)備確定步驟涉及在考慮該光學(xué)設(shè)備的至少一個(gè)參數(shù)的用于確定使總 成本函數(shù)與該總成本函數(shù)的目標(biāo)值之間的差最小化的所述光學(xué)設(shè)備的值集時(shí)確定所述光 學(xué)成本函數(shù)的以及所述光防護(hù)成本函數(shù)的值集(OCFi，…，0CF n; LPCFi，…，LPCFn)的步驟； 和/或
[0031] -該光學(xué)設(shè)備的所述至少一個(gè)參數(shù)是該至少一個(gè)光學(xué)鏡片的幾何參數(shù);和/或
[0032] -該光學(xué)設(shè)備的所述至少一個(gè)參數(shù)是在由以下各項(xiàng)組成的列表中選擇的：
[0033] -當(dāng)所述光學(xué)設(shè)備由所述佩戴者佩戴時(shí)將所述至少一個(gè)光學(xué)鏡片的背面與該佩戴 者眼睛分開的距離；
[0034] -所述至少一個(gè)光學(xué)鏡片的包角和/或全視角；
[0035] -所述至少一個(gè)光學(xué)鏡片的背面的曲率圖；
[0036]-所述至少一個(gè)光學(xué)鏡片的正面的曲率圖；
[0037] -所述至少一個(gè)光學(xué)鏡片的輪廓形狀;和/或
[0038] -該光學(xué)設(shè)備的該至少一個(gè)參數(shù)是減反射涂層參數(shù);和/或
[0039]-該減反射涂層參數(shù)與在減反射涂層的列表中對(duì)減反射涂層的選擇有關(guān);和/或
[0040]-該光學(xué)設(shè)備的所述至少一個(gè)參數(shù)是該眼鏡架的幾何參數(shù);和/或
[0041 ]-該光學(xué)設(shè)備的所述至少一個(gè)參數(shù)是在由以下各項(xiàng)組成的列表中選擇的：
[0042] -所述至少一個(gè)光學(xué)鏡片的輻射衰減系數(shù)的空間圖；
[0043] -所述至少一個(gè)光學(xué)鏡片的輻射偏振系數(shù)，和/或
[0044] -該總成本函數(shù)的該目標(biāo)值是至少部分地從包括在標(biāo)準(zhǔn)中的眼睛安全建議中確定 的；和/或
[0045] -該總成本函數(shù)的該目標(biāo)值是至少部分地從該佩戴者提供的或?qū)υ撆宕髡咚鶞y(cè)量 的佩戴者數(shù)據(jù)中確定的;和/或
[0046] -所述光防護(hù)成本函數(shù)提供步驟涉及確定當(dāng)所述光學(xué)設(shè)備由所述佩戴者佩戴時(shí)該 至少一個(gè)光學(xué)鏡片相對(duì)于該佩戴者眼睛的位置，其中，所述對(duì)該至少一個(gè)光學(xué)鏡片的位置 進(jìn)行建模的步驟考慮當(dāng)該佩戴者正佩戴與該眼睛架完全相同的試驗(yàn)鏡架時(shí)對(duì)該佩戴者所 確定的多個(gè)實(shí)際佩戴參數(shù);和/或
[0047] -佩戴者數(shù)據(jù)進(jìn)一步包括屬于在由以下各項(xiàng)組成的列表中選擇的類型的數(shù)據(jù)： [0048]-佩戴者視覺行為；
[0049] -佩戴者個(gè)性化光敏感度；
[0050] -佩戴者光學(xué)鏡片審美偏好；
[0051] -佩戴者職業(yè)活動(dòng)；
[0052] -佩戴者年齡。
[0053] 根據(jù)進(jìn)一步的方面，本發(fā)明涉及一種包括一個(gè)或多個(gè)存儲(chǔ)的指令序列的計(jì)算機(jī)程 序產(chǎn)品，該一個(gè)或多個(gè)存儲(chǔ)的指令序列可由處理器存取并且當(dāng)由該處理器執(zhí)行時(shí)致使該處 理器實(shí)施根據(jù)本發(fā)明的方法的步驟。
[0054]根據(jù)另一方面，本發(fā)明涉及一種使計(jì)算機(jī)執(zhí)行本發(fā)明的方法的程序。
[0055]本發(fā)明還涉及一種計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，該計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)承載有根據(jù)本發(fā)明的計(jì)算 機(jī)程序的一個(gè)或多個(gè)指令序列。
[0056]本發(fā)明進(jìn)一步涉及一種其上記錄有程序的計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)；其中，該程序使 計(jì)算機(jī)執(zhí)行本發(fā)明的方法。
[0057] 本發(fā)明涉及一種包括一個(gè)處理器的裝置，該處理器被適配成用于存儲(chǔ)一個(gè)或多個(gè) 指令序列并且實(shí)施根據(jù)本發(fā)明的方法的步驟中的至少一個(gè)步驟。
【附圖說明】
[0058] 現(xiàn)在將參照附圖來描述本發(fā)明的非限制性實(shí)施例，在附圖中：
[0059] 〇圖1是根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的方法的流程圖，
[0060] 0圖2是根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例的方法的流程圖，并且 [0061] 〇圖3和圖4表示減反射涂層的特征。
[0062] 附圖中的元件僅是為了簡(jiǎn)潔和清晰而展示的并且不一定是按比例繪制的。例如， 圖中的某些元件的尺寸可以相對(duì)于其他尺寸被放大，以便幫助提高對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例的理 解。
【具體實(shí)施方式】
[0063] 在本發(fā)明的框架中，以下術(shù)語具有以下在此指示的含義。
[0064]-術(shù)語"光學(xué)鏡片"應(yīng)被理解為是指預(yù)期由佩戴者的臉部支撐的任何類型的已知鏡 片。該術(shù)語可以指眼科鏡片，如非矯正鏡片，矯正鏡片，如漸進(jìn)式多焦點(diǎn)鏡片、單焦點(diǎn)或多焦 點(diǎn)鏡片。該術(shù)語還可以指能夠呈現(xiàn)如以下各項(xiàng)中的至少一個(gè)增加值的所述眼鏡片:例如，色 調(diào)、光致變色性，偏振濾波、電致變色性、減反射特性，抗劃傷特性……
[0065]-術(shù)語"光學(xué)設(shè)備"應(yīng)被理解為指包括眼鏡架和至少一個(gè)光學(xué)鏡片的任何類型的已 知眼鏡。光學(xué)設(shè)備可以包括覆蓋佩戴者的或者兩只眼睛(例如護(hù)目鏡或面罩)或者僅一只眼 睛(例如頭戴式顯示器)的單個(gè)光學(xué)鏡片。光學(xué)設(shè)備可以包括各自覆蓋佩戴者的一只眼睛的 兩個(gè)光學(xué)鏡片。該術(shù)語可以指眼科光學(xué)設(shè)備、非眼科光學(xué)設(shè)備、太陽(yáng)鏡、針對(duì)運(yùn)動(dòng)應(yīng)用的眼 鏡(如護(hù)目鏡、閱讀眼鏡、防護(hù)眼鏡、駕駛眼鏡）。
[0066]-術(shù)語'處方'應(yīng)當(dāng)被理解為指光學(xué)屈光力、散光、棱鏡偏差以及（當(dāng)相關(guān)時(shí)）下加光 的一組光學(xué)特性，該組光學(xué)特性是由眼科醫(yī)師或驗(yàn)光師確定的以便例如借助于位于佩戴者 眼睛前面的鏡片矯正佩戴者的視力缺陷。例如，針對(duì)漸進(jìn)式多焦點(diǎn)鏡片的處方包括光學(xué)屈 光力值和在遠(yuǎn)視點(diǎn)處的散光值，以及下加光值(在適當(dāng)情況下）。
[0067]-全視角（pantoscopic angle)是光學(xué)鏡片的光軸與處于主位置的眼睛的視軸之 間的豎直平面中的角，該視軸通常被視為是水平的。
[0068]-包角是光學(xué)鏡片的光軸與處于主位置的眼睛的視軸之間的水平平面中的角，該 視軸通常被視為是水平的。
[0069]-光學(xué)鏡片的光軸是垂直于光學(xué)鏡片的正面并穿過光學(xué)鏡片的光學(xué)中心或者在漸 進(jìn)式光學(xué)鏡片的情況下穿過棱鏡參考點(diǎn)(PRP)的方向。
[0070] -根據(jù)本發(fā)明的方法包括確定到達(dá)佩戴者的眼睛和眶周區(qū)的光線的分布。眼睛和 眶周區(qū)的這整個(gè)區(qū)域被定義為曝光區(qū)。
[0071] -術(shù)語"模擬"用于指輻射度和光學(xué)模擬。這是一項(xiàng)不僅考慮光線(這些光線是由在 3D空間中其起始點(diǎn)、其方向定義的向量）的幾何特性，而且考慮其各自的能量、其光譜范圍 以及可能其偏振的光線追蹤計(jì)算技術(shù)。光線追蹤是對(duì)光線在所考慮的系統(tǒng)的不同環(huán)境中的 傳播路徑的計(jì)算。具有波長(zhǎng)λ的光線沿著其方向向量以直線傳播直到其遇到在波長(zhǎng)λ具有不 同折射率的兩種介質(zhì)之間的接口，然后其根據(jù)斯涅耳-笛卡爾定律被折射、反射(直接反射 或漫反射)或吸收。在與表面相交之后，交叉點(diǎn)和光束的新方向由軟件計(jì)算并且光線傳播直 到其遇到另一個(gè)表面(其在之前的功能中可以與系統(tǒng)的幾何形狀相同）。
[0072] -術(shù)語"錐"以及因此術(shù)語"入射錐"被廣義地使用以簡(jiǎn)化描述。入射錐實(shí)際上是光 線在光學(xué)鏡片之上的分布包絡(luò)。此分布是由入射在光學(xué)鏡片的面上的實(shí)際上與鏡片表面光 學(xué)上相交的所有光線(具有在之前的解釋中描述的特性)組成的。這個(gè)錐僅包含實(shí)際上到達(dá) 光學(xué)鏡片的一側(cè)的光線，因?yàn)榧词馆椛湓丛诳臻g的所有方向上發(fā)射，這些方向中的一些方 向也不允許光線到達(dá)光學(xué)鏡片，因?yàn)樗鼈儗⒈活^部或鏡架的遮蔽擋住。由于包絡(luò)的這個(gè)定 義，此光線分布不限于如在數(shù)學(xué)或物理中通常已知的僅一個(gè)完美錐的幾何形狀。其確實(shí)可 以具有多個(gè)錐、或者任何形狀的隱含項(xiàng)的一個(gè)或多個(gè)集合。
[0073] 本發(fā)明涉及一種例如由計(jì)算機(jī)裝置實(shí)現(xiàn)的用于確定光學(xué)設(shè)備的方法。該光學(xué)設(shè)備 通常包括至少一個(gè)光學(xué)鏡片和眼鏡架，該光學(xué)鏡片被適配成安裝在佩戴者眼睛前方的眼鏡 架中。
[0074] 根據(jù)本發(fā)明所述的方法允許為佩戴者確定具有針對(duì)光輻射的增強(qiáng)型和個(gè)性化防 護(hù)的光學(xué)設(shè)備。這種結(jié)果是通過優(yōu)化光輻射在佩戴者的眼睛和眶周區(qū)上的分布來實(shí)現(xiàn)的。 這種優(yōu)化可以使用由光學(xué)設(shè)備的光學(xué)鏡片折射或反射的輻射的光度流模擬來執(zhí)行。
[0075] 如圖1所示，根據(jù)本發(fā)明的方法至少包括：
[0076]-佩戴者數(shù)據(jù)提供步驟S1，
[0077]-光學(xué)成本函數(shù)提供步驟S2，
[0078]-光防護(hù)成本函數(shù)提供步驟S3，以及 [0079]-光學(xué)設(shè)備確定步驟S4。
[0080] 佩戴者數(shù)據(jù)在佩戴者數(shù)據(jù)提供步驟過程中被提供。佩戴者數(shù)據(jù)至少與佩戴者的光 學(xué)要求、與佩戴者的臉形以及與當(dāng)所述光學(xué)設(shè)備由所述佩戴者佩戴時(shí)該光學(xué)設(shè)備相對(duì)于佩 戴者臉部的位置相關(guān)。
[0081] 當(dāng)光學(xué)鏡片是眼科鏡片時(shí)，佩戴者的光學(xué)要求可以包括佩戴者的處方。佩戴者的 光學(xué)要求還可以包括佩戴者不要求任何眼科處方的指示。
[0082] 佩戴者的臉形可以與佩戴者的鼻子的和/或耳廓的和/或顳區(qū)的形狀和位置和/或 佩戴者的頭發(fā)相關(guān)。
[0083] 佩戴者數(shù)據(jù)可以進(jìn)一步包括與佩戴者的視覺行為相關(guān)的佩戴者視覺行為數(shù)據(jù)。通 常，可以考慮佩戴者的眼睛/頭部移動(dòng)策略。
[0084] 實(shí)際上，當(dāng)接連地注視不同的方向時(shí)，個(gè)人具有移動(dòng)他們眼睛或他們頭部的不同 傾向。當(dāng)確定光學(xué)鏡片時(shí)，這種傾向可以具有重要意義。例如，如果佩戴者具有移動(dòng)其頭部 的很大傾向，那么他將主要使用光學(xué)鏡片的中央部分，而如果他具有移動(dòng)其眼睛的很大傾 向，那么他可能更多地使用光學(xué)鏡片的周邊部分。
[0085] 佩戴者數(shù)據(jù)可以進(jìn)一步包括佩戴者光敏感度的指示。實(shí)際上，所有佩戴者對(duì)光不 具有相同的敏感度。具體地，佩戴者眼睛的虹膜顏色可以提供這種光敏感度的指示。
[0086] 佩戴者數(shù)據(jù)可以進(jìn)一步包括佩戴者的審美光學(xué)偏好，如光學(xué)設(shè)備的正面的期望曲 線或者關(guān)于眼鏡架的前方與光學(xué)鏡片的正面之間的曲線差的要求。
[0087] 佩戴者數(shù)據(jù)可以進(jìn)一步包括當(dāng)佩戴光學(xué)設(shè)備時(shí)佩戴者的活動(dòng)的指示。實(shí)際上，當(dāng) 確定光學(xué)設(shè)備時(shí)，具體地針對(duì)光防護(hù)函數(shù)，佩戴者的活動(dòng)類型可能是重要的。通常，當(dāng)光學(xué) 設(shè)備有待用于閱讀時(shí)相比用于滑雪或航海在光防護(hù)方面的要求是不同的。
[0088] 佩戴者數(shù)據(jù)可以包括佩戴者將在其中使用光學(xué)設(shè)備的優(yōu)選地理定位的指示。實(shí)際 上，這種指示可以提供關(guān)于在根據(jù)本發(fā)明所述的方法中有待考慮的照明類型的有用指示。 發(fā)光條件各處不同并且甚至取決于一年和/或一日的時(shí)間。
[0089] 有利地，根據(jù)本發(fā)明的方法允許確定適配于地面上的特定場(chǎng)所的以及甚至針對(duì)一 年或一日的特定時(shí)間的發(fā)光條件的光學(xué)設(shè)備。
[0090] 佩戴者數(shù)據(jù)可以進(jìn)一步包括關(guān)于佩戴者年齡的指示。
[0091 ]在光學(xué)成本函數(shù)提供步驟S2過程中，提供光學(xué)成本函數(shù)。
[0092] 當(dāng)所述光學(xué)設(shè)備由所述佩戴者佩戴時(shí)，光學(xué)成本函數(shù)與至少一個(gè)光學(xué)鏡片的光學(xué) 功能相關(guān)。
[0093] 在本發(fā)明的意義上，光學(xué)功能與針對(duì)每個(gè)注視方向提供光學(xué)鏡片對(duì)穿過該光學(xué)鏡 片的光線的影響的功能相對(duì)應(yīng)。光學(xué)功能可以僅在光學(xué)鏡片的一部分(光學(xué)相關(guān)部分)上定 義，即，光學(xué)鏡片的被佩戴者使用最多的部分。
[0094]光學(xué)功能可以包括如屈光功能、光吸收、偏振能力、對(duì)比度加強(qiáng)能力等……
[0095]屈光功能于根據(jù)注視方向的光學(xué)鏡片屈光力(平均屈光力、散光等)相對(duì)應(yīng)。
[0096] 在光防護(hù)成本函數(shù)提供步驟S3過程中，提供光防護(hù)成本函數(shù)。
[0097] 該光防護(hù)成本函數(shù)至少與當(dāng)佩戴者正佩戴光學(xué)設(shè)備時(shí)在給定的條件下在佩戴者 眼睛和/或在佩戴者眼睛的眶周區(qū)中的佩戴者皮膚之上的光譜輻照度估計(jì)相關(guān)。
[0098]給定的條件可以包括關(guān)于佩戴者將站立于其中的場(chǎng)景或視覺環(huán)境的信息。
[0099] 該場(chǎng)景包括至少一個(gè)輻射源以及光譜反照率的空間重分。輻射源具有確定的發(fā)射 光譜以及當(dāng)光學(xué)設(shè)備由佩戴者佩戴時(shí)相關(guān)于佩戴者臉部的給定位置。
[0100] 發(fā)射光譜可以被限制于如紫外線A或紫外線B的光譜窗。光譜邊界取決于所使用的 定義，例如，如果針對(duì)紫外線和可見光中的光譜邊界引用ISO標(biāo)準(zhǔn)8980-3,那么將考慮在 280nm與315nm之間的紫外線B、在315nm與380nm之間的紫外線A、在380nm與780nm之間的可 見光。
[0101] 近紅外窗可以被認(rèn)為是從0.78μηι到3μηι，中間紅外窗通常從3μηι到50μηι，遠(yuǎn)紅外窗 通常從50μπι到1_。至于紫外線，光譜邊界取決于用于定義它的參考。例如，在關(guān)于紅外輻射 暴露極限的ICNIRP指南中，紅外區(qū)被細(xì)分為從0·78μπι到1 ·4μπι的紅外-Α、從1 ·4μπι到3μπι的紅 外-Β以及從3μηι到1mm的紅外-C〇
[0102] 相同的輻射源可以用于估計(jì)光學(xué)功能。
[0103] 根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，光學(xué)功能在不同于用于估計(jì)光防護(hù)函數(shù)的第二光譜窗的第 一光譜窗中被估計(jì)。
[0104] 通常，光學(xué)功能是在可見光窗中估計(jì)的，而光防護(hù)函數(shù)是在紫外線A或B窗中估計(jì) 的。
[0105] 輻射源可以是天然光源(通常為太陽(yáng)）或人造輻射源。當(dāng)佩戴光學(xué)設(shè)備時(shí)，可以基 于佩戴者將要執(zhí)行的活動(dòng)類型完成天然和人造輻射源之間的選擇。
[0106] 當(dāng)確定輻射源和光譜反照率的空間重分時(shí)可以考慮地面上的位置以及日期和時(shí) 間。通常，當(dāng)輻射源是太陽(yáng)時(shí)，地面上的位置、日期和小時(shí)可以用于確定太陽(yáng)高度角。給定的 條件可以包括場(chǎng)景大氣的氣膠成分和/或覆蓋場(chǎng)景的云層描述。
[0107] 給定的條件可以進(jìn)一步包括關(guān)于光譜反照率的所述空間重分所反射的輻射的偏 振的信息。
[0108] 在光學(xué)設(shè)備確定步驟S4過程中確定經(jīng)優(yōu)化的光學(xué)設(shè)備。
[0109] 經(jīng)優(yōu)化的光學(xué)設(shè)備對(duì)應(yīng)于使總成本函數(shù)與總成本函數(shù)的目標(biāo)值之間的差最小化 的光學(xué)設(shè)備的配置?？偝杀竞瘮?shù)是光學(xué)成本函數(shù)與光防護(hù)成本函數(shù)的函數(shù)。例如，總成本函 數(shù)可以是光學(xué)成本函數(shù)與光防護(hù)成本函數(shù)的加權(quán)總和，其中，這些加權(quán)系數(shù)都不等于零。 [0110]通常，光學(xué)設(shè)備確定步驟包括模擬步驟，在該步驟過程中，來自被所述至少一個(gè)輻 射源照亮的場(chǎng)景的輻射被模擬。
[0111] 根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，該光學(xué)設(shè)備確定步驟涉及在考慮該光學(xué)設(shè)備的至少一個(gè)參 數(shù)的用于確定使總成本函數(shù)與該總成本函數(shù)的目標(biāo)值之間的差最小化的所述光學(xué)設(shè)備的 值集時(shí)確定光學(xué)成本函數(shù)的值集(OCFi，…，0CF n)以及光防護(hù)成本函數(shù)的值集(LPCFi，…， LPCFn)的步驟。
[0112] 總成本函數(shù)的目標(biāo)值可以至少部分地從包括在標(biāo)準(zhǔn)中的眼睛安全建議和/或從佩 戴者提供的或?qū)ε宕髡咚鶞y(cè)量的佩戴者數(shù)據(jù)中確定。
[0113] 通常，光學(xué)設(shè)備的至少一個(gè)參數(shù)是光學(xué)設(shè)備的光學(xué)鏡片的幾何參數(shù)。
[0114] 光學(xué)設(shè)備參數(shù)中的至少一個(gè)參數(shù)可以涉及：
[0115]-當(dāng)所述光學(xué)設(shè)備由所述佩戴者佩戴時(shí)將所述至少一個(gè)光學(xué)鏡片的背面與該佩戴 者眼睛分開的距離;和/或
[0116] -所述至少一個(gè)光學(xué)鏡片的包角和/或全視角;和/或
[0117] -所述至少一個(gè)光學(xué)鏡片的背面的曲率圖；和/或
[0118] -所述至少一個(gè)光學(xué)鏡片的正面的曲率圖；和/或
[0119] -所述至少一個(gè)光學(xué)鏡片的輪廓形狀。
[0120] 根據(jù)實(shí)施例，光學(xué)設(shè)備的至少一個(gè)參數(shù)是例如與在減反射涂層列表中減反射涂層 的選擇相關(guān)的減反射涂層參數(shù)。
[0121 ]光學(xué)設(shè)備的最少一個(gè)參數(shù)可以是在包括各項(xiàng)的列表中選擇的：
[0122] -所述至少一個(gè)光學(xué)鏡片的輻射衰減系數(shù)的空間圖；
[0123] -所述至少一個(gè)光學(xué)鏡片的輻射偏振系數(shù)。
[0124] 建模步驟可以進(jìn)一步包括確定當(dāng)光學(xué)設(shè)備由佩戴者佩戴時(shí)最少一個(gè)光學(xué)鏡片相 對(duì)于佩戴者眼睛的位置。通常，光學(xué)鏡片的位置考慮當(dāng)佩戴者正佩戴與該眼睛架完全相同 的試驗(yàn)鏡架時(shí)對(duì)佩戴者所確定的多個(gè)實(shí)際佩戴參數(shù)。這些佩戴參數(shù)包括：
[0125] -當(dāng)所述光學(xué)設(shè)備由所述佩戴者佩戴時(shí)，所述至少一個(gè)光學(xué)鏡片的包角；
[0126] -當(dāng)所述光學(xué)設(shè)備由所述佩戴者佩戴時(shí)，所述至少一個(gè)光學(xué)鏡片的全視角；
[0127] -當(dāng)所述光學(xué)設(shè)備由所述佩戴者佩戴時(shí)將所述至少一個(gè)光學(xué)鏡片的背面與該佩戴 者眼睛分開的距離；
[0128] 圖2表示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的方法的流程圖。如圖2所示，根據(jù)這個(gè)實(shí)施例的方 法包括：
[0129]-佩戴者數(shù)據(jù)提供步驟S100，
[0130]-入射錐確定步驟S102，
[0131]-目標(biāo)光分布提供步驟S104，
[0132] -初始光學(xué)鏡片確定步驟S106，
[0133] -初始光分布確定步驟S108，
[0134] -光分布比較步驟S110，
[0135] -光學(xué)設(shè)備參數(shù)修改步驟S112，
[0136] -光分布確定步驟S114。
[0137] 重復(fù)光分布比較步驟S110、光學(xué)鏡片參數(shù)修改步驟S112和光分布確定步驟S114直 到光分布與目標(biāo)光分布之間的差小于閾值。
[0138] 如之前詳細(xì)描述的，在佩戴者數(shù)據(jù)提供步驟S100過程中提供佩戴者數(shù)據(jù)。佩戴者 數(shù)據(jù)至少與佩戴者的光學(xué)要求、與佩戴者的臉形以及與當(dāng)光學(xué)設(shè)備由佩戴者佩戴時(shí)該光學(xué) 設(shè)備相對(duì)于佩戴者臉部的位置相關(guān)。
[0139] 基于包括在佩戴者數(shù)據(jù)中的不同數(shù)據(jù)，入射錐可以在入射錐確定步驟S102過程中 被確定。
[0140] 例如，使用光線追蹤模擬，可以確定從光源開始擊中光學(xué)鏡片的光線。
[0141] 在目標(biāo)光分布提供步驟S104過程中提供在佩戴者的眼睛和/或眶周區(qū)之上的目標(biāo) 光分布。目標(biāo)光分布可以使用包括在標(biāo)準(zhǔn)中的眼睛安全建議來確定。光目標(biāo)分布可以是與 波長(zhǎng)相關(guān)的。換言之，取決于波長(zhǎng)，目標(biāo)分布可以是不同的。
[0142] 例如，對(duì)于可見光，目標(biāo)分布可以與在由光學(xué)鏡片透射之后到達(dá)佩戴者眼睛的光 線的最大值相對(duì)應(yīng)，并且對(duì)于紫外線，與到達(dá)佩戴者眼睛的光線的最小值相對(duì)應(yīng)，而無論紫 外線輻射所沿著的光路如何。
[0143] 在初始光學(xué)鏡片確定步驟S106過程中確定初始光學(xué)鏡片。初始光學(xué)鏡片可以是基 于期望的光學(xué)功能來確定的。通常，使用已知的優(yōu)化方法，可以確定光學(xué)鏡片的正面和背面 的表面、兩個(gè)表面之間的距離以及光學(xué)鏡片的折射率以便最好地滿足光學(xué)功能要求。
[0144] 這種初始光學(xué)鏡片確定步驟通常是通過光線追蹤計(jì)算完成的。
[0145] 初始光分布是針對(duì)在初始光學(xué)鏡片確定步驟過程中確定的初始光學(xué)鏡片確定的。 通常，初始光分布是使用入射錐通過光線追蹤模擬確定的。
[0146] 在光分布比較步驟S110過程中，將初始光分布與目標(biāo)光分布進(jìn)行比較。
[0147] 在光學(xué)設(shè)備參數(shù)修改步驟S112過程中，修改光學(xué)設(shè)備的至少一個(gè)參數(shù)。
[0148] 在光學(xué)設(shè)備參數(shù)修改步驟S112過程中可以修改的這些光學(xué)設(shè)備參數(shù)之中，可以考 慮兩組:在可見光波帶中可以改變光學(xué)鏡片的光學(xué)功能的參數(shù)(例如，對(duì)佩戴者顯而易見 的）以及在可見光波帶不影響光學(xué)鏡片的光學(xué)功能的參數(shù)（假定對(duì)佩戴者不是顯而易見 的)。
[0149] 在可以改變光學(xué)功能的這些參數(shù)之中，針對(duì)給定的佩戴條件，可以考慮光學(xué)鏡片 的表面以及眼鏡架的幾何形狀。
[0150]通常，光學(xué)鏡片的背面的表面可以被修改成減少在于光學(xué)鏡片的背面上反射之后 可以到達(dá)佩戴者眼睛的光線量。考慮到光學(xué)鏡片的背面的表面改變，光學(xué)鏡片的正面的表 面有待被修改以便保持光學(xué)鏡片的整體光學(xué)性能。光學(xué)鏡片的正面的表面的這種補(bǔ)償改變 可能受限于光學(xué)鏡片的背面的表面的在光學(xué)相關(guān)區(qū)中完成的改變。通常，如果光學(xué)鏡片的 背面的表面的最外周邊被改變，那么可以不用考慮改變正面的表面，因?yàn)楣鈱W(xué)鏡片的這種 周邊部分非常不可能由體驗(yàn)典型的注視方向分布的佩戴者使用。
[0151] 在可見光波帶中不影響光學(xué)功能的這些參數(shù)之中，可以考慮有待置于光學(xué)鏡片的 前表面和/或后表面上的減反射涂層。
[0152] 在光學(xué)設(shè)備參數(shù)修改步驟過程中，可以改變兩種類型的參數(shù)。
[0153] 在光分布確定步驟S114過程中，確定與經(jīng)修改的光學(xué)設(shè)備相對(duì)應(yīng)的光分布。
[0154] 重復(fù)光分布比較步驟S110、光學(xué)鏡片參數(shù)修改步驟S112和光分布確定步驟S114直 到光分布與目標(biāo)光分布之間的差小于閾值。
[0155] 如所指出的，光學(xué)設(shè)備參數(shù)修改步驟可以包括修改對(duì)光學(xué)功能沒有影響的參數(shù)， 如置于光學(xué)鏡片上的減反射涂層的類型。
[0156] 根據(jù)這種實(shí)施例，不需要進(jìn)一步確定光學(xué)功能。
[0157] 根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，光學(xué)設(shè)備參數(shù)修改步驟可以包括修改影響光學(xué)功能的 參數(shù)，如光學(xué)鏡片的表面輪廓。
[0158] 根據(jù)這種實(shí)施例的方法，光學(xué)設(shè)備修改步驟可以包括修改進(jìn)一步的參數(shù)以便限制 改變對(duì)光學(xué)功能的影響并且該方法可以進(jìn)一步包括光學(xué)功能評(píng)估步驟。這個(gè)參數(shù)修改步驟 未在任何附圖上示出。
[0159] 在光學(xué)功能評(píng)估步驟過程中，例如通過光線追蹤模擬確定經(jīng)修改的光學(xué)設(shè)備的光 學(xué)功能、并且將其與光學(xué)功能要求進(jìn)行比較。鏡片設(shè)計(jì)者可以在修改光學(xué)設(shè)備時(shí)確定所允 許的光學(xué)功能的改變量。例如，鏡片設(shè)計(jì)者可以考慮光學(xué)設(shè)備的參數(shù)改變受限于可以被補(bǔ) 償?shù)母淖円员惚３止鈱W(xué)鏡片的光學(xué)功能。
[0160] 可以在光學(xué)設(shè)備修改步驟過程中修改的參數(shù)還可能受到可用于制造光學(xué)設(shè)備(具 體為用于制造光學(xué)鏡片）的制造方法的限制。
[0161] 在典型使用半成品光學(xué)鏡片坯件的機(jī)加工的情況中，在正面上的自由度受到限 制。因此，在光學(xué)設(shè)備修改步驟S112過程中在光學(xué)鏡片的背面上可能的修改也被限制。
[0162] 本發(fā)明的目標(biāo)于是為不僅將光學(xué)功能而且將針對(duì)光輻射(如紫外線輻射）的防護(hù) 考慮在內(nèi)來選擇半成品鏡片坯件以及因此眼科鏡片的正面。已經(jīng)論證了有可能設(shè)法在大范 圍的正面曲線之上保持光學(xué)鏡片的光學(xué)性能。因此，有可能在這個(gè)范圍的正面曲線之上修 改光學(xué)鏡片的后表面以便在曝光區(qū)之上優(yōu)化光分布。
[0163] 當(dāng)制造方法允許對(duì)光學(xué)鏡片的兩個(gè)表面進(jìn)行數(shù)字表面修整時(shí)，可以應(yīng)用本發(fā)明的 方法。在這種情況下，可以在制造工藝以及審美標(biāo)準(zhǔn)的限制內(nèi)修改光學(xué)鏡片的前表面和后 表面，從而提供關(guān)于光學(xué)設(shè)備的參數(shù)改變的很大的自由度同時(shí)保持光學(xué)鏡片的光學(xué)性能。
[0164] 示例 1
[0165] Μλ已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了根據(jù)本發(fā)明的用于單焦點(diǎn)光學(xué)鏡片、考慮允許修改光學(xué)鏡片的 前表面和后表面兩者的制造工藝的方法。
[0166] 在這個(gè)示例中，發(fā)明人已經(jīng)考慮了紫外線在佩戴者的眼角膜之上的分布，盡力嘗 試避免紫外線輻射到達(dá)佩戴者的眼角膜。在這個(gè)示例中所考慮的紫外線輻射在280nm與 380nm之間并且被認(rèn)為是來自空間上位于佩戴者后方、與水平平面形成15°的入射角（高度 角)并且在33°處對(duì)鏡片具有水平影響的來源。在佩戴者的右眼上執(zhí)行模擬。
[0167] 考慮佩戴者的臉形，佩戴者的頭部向下調(diào)整15°，對(duì)應(yīng)于步行時(shí)的自然視線。
[0168] 佩戴者具有-2.5屈光度的球面處方。
[0169] 在這個(gè)示例中考慮具有不同的佩戴者參數(shù)但是在單個(gè)佩戴者上的兩個(gè)眼鏡架。針 對(duì)兩個(gè)眼鏡架考慮在587nm波長(zhǎng)具有1.65的折射率的單折射率材料。針對(duì)包括在設(shè)備中的 光學(xué)鏡片考慮單一光學(xué)設(shè)計(jì)。初始光學(xué)鏡片被選擇成具有球面后表面，該初始光學(xué)鏡片針 對(duì)后表面具有110mm的曲率半徑以及針對(duì)前表面具有190mm的曲率半徑。
[0170] 第一眼鏡架被認(rèn)為具有8°的包角以及-8°的全視角。
[0171] 光線追蹤模擬指示針對(duì)初始光學(xué)設(shè)備（即，安裝在第一眼鏡架中的光學(xué)鏡片），佩 戴者的幾乎所有的眼角膜接收紫外線輻射。
[0172] 后表面曲率半徑于是變?yōu)?00mm。為了補(bǔ)償鏡片的這個(gè)幾何修改并且為了保持光 學(xué)鏡片的相同的光學(xué)功能，前表面的曲率半徑變?yōu)?62.2mm。光線追蹤模擬指示紫外線輻射 空間上轉(zhuǎn)移至佩戴者眼睛的鼻側(cè)并且影響佩戴者的眼角膜的更小區(qū)域。
[0173] 后表面曲率半徑于是變?yōu)?3mm，而前表面曲率半徑變?yōu)?44.7mm。光線追蹤模擬指 示紫外線輻射更加空間上轉(zhuǎn)移至佩戴者眼睛的鼻側(cè)并且影響佩戴者的眼角膜的更小區(qū)域。
[0174] 根據(jù)本發(fā)明所述的方法使得由于后表面92_的曲率半徑以及前表面142.3mm的曲 率半徑而沒有紫外線輻射到達(dá)佩戴者的眼角膜。
[0175] 發(fā)明人已經(jīng)用具有10°的包角以及-8°的全視角的眼鏡架運(yùn)行了根據(jù)本發(fā)明的方 法。根據(jù)本發(fā)明的方法為背面提供值為105mm的曲率半徑并且為前表面提供值為175.6mm的 曲率半徑，從而使得沒有紫外線輻射到達(dá)佩戴者的眼角膜。
[0176] 示例2
[0177] 發(fā)明人已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了根據(jù)本發(fā)明的方法以選擇最適當(dāng)?shù)臏p反射涂層。
[0178] 通常，在這一示例中，并且更一般地當(dāng)在本發(fā)明的方法中有待改變的光學(xué)設(shè)備的 參數(shù)不影響光學(xué)鏡片的光學(xué)功能時(shí)，光學(xué)功能在第一情形中被優(yōu)化。光學(xué)成本函數(shù)不與光 防護(hù)成本函數(shù)一起被重新計(jì)算。
[0179] 這個(gè)示例是針對(duì)紫外線A和紫外線B(即，在280nm與380nm之間）實(shí)現(xiàn)的。
[0180]光防護(hù)目標(biāo)是減少在已經(jīng)在光學(xué)鏡片的后表面上被反射之后到達(dá)佩戴者的眼角 膜的紫外線輻射的水平。
[0181]以下表格總結(jié)了模擬中使用的參數(shù)。
[0182]
[0183] 基于ASTM G173-03規(guī)范（美國(guó)試驗(yàn)和材料學(xué)會(huì))使用光譜線對(duì)源光譜分布進(jìn)行建 模。（在此規(guī)范中的紫外線光譜排序類似于在CIE85規(guī)范中定義的紫外線光譜排序）
[0184] 光譜紫外線危險(xiǎn)函數(shù)S(A)是由D.斯里尼(D.Sliney)及合作者定義的函數(shù)并且現(xiàn) 在被用作參考:如在ICNIRP指南中，這在紫外線光譜域中表示眼睛光譜敏感度。
[0185] 根據(jù)在保健物理學(xué)(Health Physics)87(2): 171-186,2004中發(fā)布的關(guān)于紫外線 輻射暴露極限的ICNIRP指南考慮紫外線照射量限制。
[0186]此論文聲明在8小時(shí)周期內(nèi)在區(qū)域315nm至400nm中的總(未加權(quán)的）紫外線光譜福 射曝光不應(yīng)超過l〇4J.m-2并且在180nm與400nm之間紫外線曝光不應(yīng)超過有效光譜加權(quán)后的 30J.m- 2〇
[0187] 這個(gè)限制表示這樣的條件:在這些條件下，預(yù)期可以反復(fù)地暴露幾乎所有的個(gè)人 而沒有嚴(yán)重的副作用并且沒有延遲效應(yīng)的顯著風(fēng)險(xiǎn)。
[0188] 圖3上表示第一減反射涂層的特征。
[0189] 圖4上表示第二減反射涂層的特征。
[0190] 發(fā)明人已經(jīng)觀察到，針對(duì)0°包角，兩個(gè)減反射涂層達(dá)到閾值的曝光時(shí)間非常類似。
[0191] 針對(duì)10°的包角，在考慮所有其他參數(shù)相等時(shí)，發(fā)明人已經(jīng)觀察到第一減反射涂層 允許曝光時(shí)間達(dá)到1小時(shí)37分的閾值而第二減反射涂層僅允許1小時(shí)13分的時(shí)間。
[0192] 因此，根據(jù)本發(fā)明所述的方法允許根據(jù)光學(xué)設(shè)備的包角優(yōu)化選擇減反射涂層。
[0193] 以上已經(jīng)借助于實(shí)施例描述了本發(fā)明，這些實(shí)施例并不限制本發(fā)明的發(fā)明構(gòu)思。
[0194] 對(duì)于參考了以上說明的實(shí)施例的本領(lǐng)域技術(shù)人員來說，還可以提出很多進(jìn)一步的 修改和變化，這些實(shí)施例僅以實(shí)例方式給出，無意限制本發(fā)明的范圍，本發(fā)明的范圍僅由所 附權(quán)利要求書予以限定。
[0195] 在權(quán)利要求書中，詞"包括"不排除其他的元件或步驟，并且不定冠詞"一個(gè)(a)"或 "一個(gè)(an)"不排除多個(gè)。不同的特征在相互不同的從屬權(quán)利要求中被敘述這個(gè)單純的事實(shí) 并不表示不能有利地使用這些特征的組合。權(quán)利要求書中的任何參考符號(hào)都不應(yīng)當(dāng)被解釋 為限制本發(fā)明的范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 由計(jì)算機(jī)裝置實(shí)現(xiàn)的用于確定包括至少一個(gè)光學(xué)鏡片和一個(gè)眼鏡架的光學(xué)設(shè)備的 方法，該光學(xué)鏡片被適配成安裝在佩戴者眼睛前方的眼鏡架中，該方法包括： -佩戴者數(shù)據(jù)提供步驟，在該步驟過程中，提供至少與該佩戴者的光學(xué)要求、與佩戴者 的臉形以及與當(dāng)所述光學(xué)設(shè)備由所述佩戴者佩戴時(shí)該光學(xué)設(shè)備相對(duì)于該佩戴者臉部的位 置相關(guān)的佩戴者數(shù)據(jù)， -光學(xué)成本函數(shù)提供步驟，在該步驟過程中，提供光學(xué)成本函數(shù)，該光學(xué)成本函數(shù)與當(dāng) 所述光學(xué)設(shè)備由所述佩戴者佩戴時(shí)該至少一個(gè)光學(xué)鏡片的光學(xué)功能相關(guān)， -光防護(hù)成本函數(shù)提供步驟，在該步驟過程中，提供光防護(hù)成本函數(shù)，該光防護(hù)成本函 數(shù)至少與當(dāng)所述光學(xué)設(shè)備由所述佩戴者佩戴時(shí)至少在給定的條件下在該佩戴者眼睛和/或 在該佩戴者眼睛的眶周區(qū)中的佩戴者皮膚之上的光譜輻照度估計(jì)相關(guān)， -光學(xué)設(shè)備確定步驟，在該步驟過程中，通過修改該光學(xué)設(shè)備的至少一個(gè)參數(shù)確定使總 成本函數(shù)與該總成本函數(shù)的目標(biāo)值之間的差最小化的光學(xué)設(shè)備，該總成本函數(shù)是該光學(xué)成 本函數(shù)與該光防護(hù)成本函數(shù)的函數(shù)。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，該給定的條件包括關(guān)于所述佩戴者站立于其中的 至少一個(gè)場(chǎng)景的位置的信息，所述至少一個(gè)場(chǎng)景包括光譜反照率的空間重分和至少一個(gè)輻 射源，所述至少一個(gè)輻射源具有確定的發(fā)射光譜以及當(dāng)所述光學(xué)設(shè)備由所述佩戴者佩戴時(shí) 相對(duì)于該佩戴者臉部的位置，其中，所述光防護(hù)成本函數(shù)提供步驟涉及對(duì)來自被所述至少 一個(gè)輻射源照亮的所述至少一個(gè)場(chǎng)景的輻照度進(jìn)行建模的步驟。3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，所述確定的發(fā)射光譜被至少限制于光譜窗，如紫外線A 窗、紫外線B窗、可見光窗、近紅外窗、中紅外窗、遠(yuǎn)紅外窗。4. 根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的方法，所述光學(xué)成本函數(shù)是通過考慮第一光譜窗 確定的，所述光防護(hù)成本函數(shù)是通過考慮第二光譜窗確定的，其中，所述第一光譜窗和所述 第二光譜窗是不同的。5. 根據(jù)權(quán)利要求1至4所述的方法，其中，所述光學(xué)設(shè)備確定步驟涉及在考慮該光學(xué)設(shè) 備的至少一個(gè)參數(shù)的用于確定使總成本函數(shù)與該總成本函數(shù)的目標(biāo)值之間的差最小化的 所述光學(xué)設(shè)備的值集時(shí)確定所述光學(xué)成本函數(shù)的和所述光防護(hù)成本函數(shù)的值集(OCFi，…， OCFn; LPCFi，…，LPCFn)的步驟。6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中，該光學(xué)設(shè)備的所述至少一個(gè)參數(shù)是該至少一個(gè)光 學(xué)鏡片的幾何參數(shù)。7. 根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的方法，其中，該光學(xué)設(shè)備的所述至少一個(gè)參數(shù)是在由以下 各項(xiàng)組成的列表中選擇的： -當(dāng)所述光學(xué)設(shè)備由所述佩戴者佩戴時(shí)將所述至少一個(gè)光學(xué)鏡片的背面與該佩戴者眼 睛分開的距離； -所述至少一個(gè)光學(xué)鏡片的包角和/或全視角； -所述至少一個(gè)光學(xué)鏡片的背面的曲率圖； -所述至少一個(gè)光學(xué)鏡片的正面的曲率圖； -所述至少一個(gè)光學(xué)鏡片的輪廓形狀。8. 根據(jù)權(quán)利要求5至7中任一項(xiàng)所述的方法，其中，該光學(xué)設(shè)備的該至少一個(gè)參數(shù)是減 反射涂層參數(shù)。9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中，該減反射涂層參數(shù)與在減反射涂層的列表中對(duì)減 反射涂層的選擇有關(guān)。10. 根據(jù)權(quán)利要求5至9中任一項(xiàng)所述的方法，其中，該光學(xué)設(shè)備的所述至少一個(gè)參數(shù)是 該眼鏡架的幾何參數(shù)。11. 根據(jù)權(quán)利要求5至10中任一項(xiàng)所述的方法，其中，該光學(xué)設(shè)備的所述至少一個(gè)參數(shù) 是在由以下各項(xiàng)組成的列表中選擇的： -所述至少一個(gè)光學(xué)鏡片的輻射衰減系數(shù)的空間圖； -所述至少一個(gè)光學(xué)鏡片的輻射偏振系數(shù)。12. 根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的方法，其中，該總成本函數(shù)的該目標(biāo)值是至少 部分地從標(biāo)準(zhǔn)中所包括的眼睛安全建議中確定的。13. 根據(jù)以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中，該總成本函數(shù)的該目標(biāo)值是至少部 分地從該佩戴者提供的或?qū)υ撆宕髡咚鶞y(cè)量的佩戴者數(shù)據(jù)中確定的。14. 根據(jù)以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中，所述光防護(hù)成本函數(shù)提供步驟涉及 確定當(dāng)所述光學(xué)設(shè)備由所述佩戴者佩戴時(shí)該至少一個(gè)光學(xué)鏡片相對(duì)于該佩戴者眼睛的位 置，其中，所述對(duì)該至少一個(gè)光學(xué)鏡片的位置進(jìn)行建模的步驟考慮當(dāng)該佩戴者正佩戴與該 眼睛架完全相同的試驗(yàn)鏡架時(shí)對(duì)該佩戴者所確定的多個(gè)實(shí)際佩戴參數(shù)。15. 根據(jù)以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中，佩戴者數(shù)據(jù)進(jìn)一步包括屬于在包括 以下各項(xiàng)的列表中選擇的類型的數(shù)據(jù)： -佩戴者視覺行為； -佩戴者個(gè)性化光敏感度； -佩戴者光學(xué)鏡片審美偏好； -佩戴者職業(yè)活動(dòng)； -佩戴者年齡。
【文檔編號(hào)】G02C7/10GK105874376SQ201480071784
【公開日】2016年8月17日
【申請(qǐng)日】2014年12月30日
【發(fā)明人】M·特希耶爾斯, C·貝貢
【申請(qǐng)人】埃西勒國(guó)際通用光學(xué)公司