in-cell觸摸型液晶顯示裝置的制造方法
【專利摘要】一種in-cell觸摸型液晶顯示裝置包括：觸摸線和虛設(shè)觸摸線，其在第一鈍化層上沿著相鄰像素電極之間的方向；第二鈍化層，其在所述觸摸線和所述虛設(shè)觸摸線上；以及多個(gè)公共電極，其在各個(gè)觸摸塊中彼此分離，并且分別包括與各個(gè)像素區(qū)域?qū)?yīng)的第一開口和與所述觸摸線對(duì)應(yīng)的第二開口，其中，在所述觸摸塊的內(nèi)部區(qū)域從所述觸摸線的一側(cè)延伸至選通線上方的連接圖案通過觸摸接觸孔連接到公共電極，并且其中，開口部分位于所述觸摸線和所述虛設(shè)觸摸線之間。
【專利說明】in-cel I觸摸型液晶顯不裝置
[0001]本申請(qǐng)要求于2014年8月26日提交的韓國(guó)專利申請(qǐng)N0.10-2014-0111791的優(yōu)先權(quán)，該申請(qǐng)全文以引用方式并入本文，正如在此完全闡述。
技術(shù)領(lǐng)域
[0002]本發(fā)明涉及一種液晶顯示裝置(IXD)，更具體地，涉及一種in-cell觸摸型IXD，其補(bǔ)償在觸摸塊的內(nèi)部區(qū)域的選通線和在觸摸塊的邊界區(qū)域的選通線之間的負(fù)載差并且提高顯示質(zhì)量。
【背景技術(shù)】
[0003]近來，LCD作為低功耗、良好便攜性、高附加值等的下一代高科技顯示裝置已備受矚目。
[0004]在IXD當(dāng)中，在每個(gè)像素中包括薄膜晶體管(TFT)的有源矩陣型IXD被廣泛使用。
[0005]IXD被應(yīng)用于各種家用電器(例如，電視機(jī)TV、投影儀、移動(dòng)電話和個(gè)人數(shù)字助理PDA)，并且這些家用電器具有觸摸屏幕并進(jìn)行操作的觸摸功能。
[0006]其中嵌入有觸摸功能的IXD被稱為in-cell觸摸型IXD。
[0007]該in-cell觸摸型IXD包括選通線和數(shù)據(jù)線，并且還包括用于感測(cè)觸摸的觸摸塊以和連接到觸摸塊的觸摸線。
[0008]在in-cell觸摸型LCD中，在顯示圖像的顯示時(shí)段，公共電壓被提供公共電壓。在不顯示圖像的非顯示時(shí)段，公共電極用作觸摸電極以感測(cè)觸摸。
[0009]因此，當(dāng)使用者(例如，利用使用者的手指)對(duì)觸摸區(qū)域進(jìn)行觸摸時(shí)，在各個(gè)觸摸塊獨(dú)立地形成的公共電極之間產(chǎn)生觸摸電容。通過將由使用者的觸摸產(chǎn)生的觸摸電容與參考電容進(jìn)行比較來檢測(cè)觸摸位置，并且進(jìn)行根據(jù)觸摸位置的操作。
[0010]在此方面，通過比較該觸摸電容與參考電容，識(shí)別用戶的觸摸發(fā)生的坐標(biāo)，然后進(jìn)行與該坐標(biāo)對(duì)應(yīng)的操作。
[0011]因此，作為手段的觸摸線是必要的，該觸摸線將形成在每個(gè)觸摸塊的公共電極的電容變化傳送到感測(cè)電路部分，該感測(cè)電路部分位于非顯示區(qū)域或印刷電路板。由于觸摸線連接到公共電極，所以觸摸線不能形成在與形成公共電極相同的層。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0012]因此，本發(fā)明針對(duì)一種in-cell觸摸型液晶顯示裝置(IXD)，其基本上消除了由于相關(guān)技術(shù)的局限性和缺點(diǎn)的一個(gè)或多個(gè)問題。
[0013]本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于提供一種in-cell觸摸型LCD，其能夠補(bǔ)償在觸摸塊的內(nèi)部區(qū)域的選通線和在觸摸塊的邊界區(qū)域的選通線之間的負(fù)載差，并且提高顯示質(zhì)量。
[0014]本發(fā)明的另外的特征和優(yōu)點(diǎn)將在以下說明中闡明，并且一定程度上從該描述可顯而易見，或者可以通過實(shí)施本發(fā)明而認(rèn)識(shí)到。本發(fā)明的這些及其它優(yōu)點(diǎn)將通過書面說明書和權(quán)利要求書以及附圖中具體指出的結(jié)構(gòu)來實(shí)現(xiàn)和獲得。
[0015]為了實(shí)現(xiàn)這些及其他優(yōu)點(diǎn)，并且根據(jù)本發(fā)明的目的，如在此具體實(shí)施且廣義描述的，一種in-cell觸摸型液晶顯示裝置包括:選通線和數(shù)據(jù)線，其在基板上的像素區(qū)域的邊界處彼此交叉，其中，所述基板包括分別包括多個(gè)像素區(qū)域的多個(gè)觸摸塊；薄膜晶體管，其在每個(gè)像素中并且連接到所述選通線和所述數(shù)據(jù)線；像素電極，其在所述像素區(qū)域中、連接到所述薄膜晶體管；第一鈍化層，其在所述像素電極上；觸摸線和虛設(shè)觸摸線，其在所述第一鈍化層上沿著相鄰像素電極之間的方向；第二鈍化層，其在所述觸摸線和所述虛設(shè)觸摸線上；以及多個(gè)公共電極，其在各個(gè)觸摸塊中彼此分離，并且分別包括與各個(gè)像素區(qū)域?qū)?yīng)的第一開口和與觸摸線對(duì)應(yīng)的第二開口，其中，在所述觸摸塊的內(nèi)部區(qū)域從所述觸摸線的一側(cè)延伸至選通線上方(over)的連接圖案通過觸摸接觸孔連接到所述公共電極，并且其中，開口部分位于所述觸摸線和所述虛設(shè)觸摸線之間。
[0016]可以理解的是，前述的一般描述和隨后的詳細(xì)描述都是示例性和說明性的，并且旨在提供對(duì)所要求保護(hù)的本發(fā)明的進(jìn)一步解釋。
【附圖說明】
[0017]包含附圖以提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，并入附圖并構(gòu)成本說明書的一部分，附圖示出了本發(fā)明的實(shí)施方式并且與說明書一起用于解釋本發(fā)明的原理。在附圖中:
[0018]圖1是例示根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的in-cell觸摸型LCD的觸摸塊的結(jié)構(gòu)的示意圖；
[0019]圖2是例示根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的in-cell觸摸型IXD的示意圖；
[0020]圖3A和圖3B是分別例示根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的in-cell觸摸型IXD的觸摸塊的內(nèi)部區(qū)域和邊界區(qū)域的視圖；
[0021]圖4和圖5是分別例示根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的in-cell觸摸型IXD的觸摸塊的內(nèi)部區(qū)域和邊界區(qū)域的視圖；
[0022]圖6是例示根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的在觸摸塊的內(nèi)部區(qū)域的像素區(qū)域和在觸摸塊的邊界區(qū)域的像素區(qū)域之間的亮度差的曲線圖；
[0023]圖7是例示根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施方式的in-cell觸摸型IXD的示意圖；
[0024]圖8是例示根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施方式的in-cell觸摸型LCD的觸摸塊的結(jié)構(gòu)的示意圖；
[0025]圖9是例示根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施方式的in-cell觸摸型LCD的觸摸塊的內(nèi)部區(qū)域的示意圖；以及
[0026]圖10是例示根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施方式的in-cell觸摸型IXD的觸摸塊的邊界區(qū)域的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0027]現(xiàn)在將詳細(xì)參考示例性實(shí)施方式，其示例示于附圖中。在所有附圖中使用相同的參考標(biāo)號(hào)指代相同或相似的部分。
[0028][第一實(shí)施方式]
[0029]圖1是例示根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的in-cell觸摸型LCD的觸摸塊的結(jié)構(gòu)的示意圖，圖2是例示根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的in-cell觸摸型LCD的示意圖，以及圖3A和圖3B是分別例示根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的in-cell觸摸型LCD的觸摸塊的內(nèi)部區(qū)域和邊界區(qū)域的視圖。為了說明的目的，在圖2中省略了觸摸線和公共電極，并在圖3A和圖3B中省略觸摸線。
[0030]參照?qǐng)D1至圖3B，該in-cell觸摸型IXD包括:包括多個(gè)像素區(qū)域的顯示區(qū)域和圍繞顯示區(qū)域的非顯示區(qū)域。
[0031]在in-cell觸摸型IXD中限定了多個(gè)觸摸塊TB。該多個(gè)觸摸塊TB各自具有沿行方向和列方向彼此相鄰的一組像素區(qū)域。
[0032]選通線14和數(shù)據(jù)線16形成在基板上，并且彼此交叉以限定像素區(qū)域。
[0033]每個(gè)像素區(qū)域包括:連接到對(duì)應(yīng)選通線14和對(duì)應(yīng)數(shù)據(jù)線16的薄膜晶體管T ;以及連接到薄膜晶體管T的漏極17的像素電極18。
[0034]觸摸線190a和虛設(shè)觸摸線190b形成像素區(qū)域的邊界、在像素電極18之間。鈍化層(未示出)形成在觸摸線190a、虛設(shè)觸摸線190b和像素電極18上。
[0035]公共電極170形成在鈍化層上并在各個(gè)觸摸塊TB中，并且彼此分離。公共電極170包括:與各個(gè)像素區(qū)域?qū)?yīng)的第一開口 130和與觸摸線190a對(duì)應(yīng)的第二開口 135。第二開口 135具有與第一開口 130相似的形狀。
[0036]觸摸線190a在公共電極170下面。該觸摸線190a通過觸摸接觸孔TCH連接到對(duì)應(yīng)觸摸塊TB的公共電極170。觸摸線190a不連接到除了與該觸摸線190a連接的對(duì)應(yīng)觸摸塊TB以外的觸摸塊TB的公共電極170。觸摸線190a傳輸觸摸信號(hào)(S卩，相鄰公共電極170之間的電容變化)。
[0037]虛設(shè)觸摸線190b形成在公共電極170下面并且不連接到任一公共電極170。換言之，虛設(shè)觸摸電極190b不傳輸觸摸信號(hào)。
[0038]在此方面，連接到觸摸塊TB的公共電極170的觸摸線190a基本上非均勻地布置在陣列基板上，從而公共電極170和觸摸線190a之間的電容變得不同，并且因此降低了顯示質(zhì)量。為了防止此現(xiàn)象，形成了虛設(shè)觸摸線190b。
[0039]觸摸線190a和虛設(shè)觸摸線190b不彼此連接，并且在觸摸線190a和190b之間的開口部分OPEN形成在觸摸塊TB的邊界部分。
[0040]公共電極170包括:在每個(gè)像素區(qū)域中的第一開口 130 ;以及與觸摸線190a和虛設(shè)觸摸線190b對(duì)應(yīng)的第二開口 135。此外，公共電極170包括:與薄膜晶體管T對(duì)應(yīng)的第三開口 150 ;以及與選通線14對(duì)應(yīng)的第四開口 155。
[0041]形成在觸摸塊TB的內(nèi)部區(qū)域TIA的公共電極170延伸到與相鄰像素區(qū)域的像素電極18之間的選通線14對(duì)應(yīng)的區(qū)域“A”上方。因此，公共電極170的與觸摸塊TB中的像素區(qū)域?qū)?yīng)的部分通過區(qū)域“A”相互連接。
[0042]因此，公共電極170的與在觸摸塊TB的內(nèi)部區(qū)域TIA中的像素區(qū)域?qū)?yīng)的部分具有大于公共電極170的與觸摸塊TB的邊界區(qū)域TBA處的像素區(qū)域?qū)?yīng)的部分的面積。
[0043]圖4和圖5是分別例示根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的in-cell觸摸型IXD的觸摸塊的內(nèi)部區(qū)域和邊界區(qū)域的視圖。
[0044]參照?qǐng)D4和圖5，在in-cell觸摸型IXD中，連接圖案190c在對(duì)應(yīng)觸摸塊TB的內(nèi)部區(qū)域TIA從觸摸線190a延伸，并且通過觸摸接觸孔TCH連接到公共電極170。連接圖案190c可與選通線14相對(duì)應(yīng)地定位。開口部分OPEN形成在觸摸線190a和虛設(shè)觸摸線190b之間。
[0045]第一鈍化層形成在像素電極18上。觸摸線190a和虛設(shè)觸摸線190b在像素區(qū)域的邊界處形成在第一鈍化層上。第二鈍化層形成在觸摸線190a和虛設(shè)觸摸線190b上。公共電極170形成在第二鈍化層上。
[0046]從觸摸線190a的一側(cè)延伸的連接圖案190c連接到公共電極170，并且觸摸線190a傳輸觸摸信號(hào)到感測(cè)電路。
[0047]優(yōu)選地但非限制性地，觸摸線190a和虛設(shè)觸摸線190b由諸如鋁(Al)或者銅(Cu)的低電阻金屬材料形成，以防止觸摸信號(hào)的延遲。
[0048]觸摸線190a和虛設(shè)觸摸線190b像素區(qū)域的邊界處形成在像素電極18之間。觸摸線190a和虛設(shè)觸摸線190b不連接到相鄰觸摸塊TB之間的區(qū)域。觸摸線190a和虛設(shè)觸摸線190b之間的開口部分OPEN形成在觸摸塊TB的邊界部分TBA處的選通線14上。
[0049]圖6是例示根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的觸摸塊的內(nèi)部區(qū)域的像素區(qū)域和觸摸塊的邊界區(qū)域的像素區(qū)域之間的亮度差的曲線圖。
[0050]參照?qǐng)D4和圖5，和與觸摸塊TB的邊界區(qū)域TBA的像素區(qū)域?qū)?yīng)的公共電極170相比較，與觸摸塊TB的內(nèi)部區(qū)域TIA的像素區(qū)域?qū)?yīng)的公共電極170具有區(qū)域“A”的附加區(qū)域。
[0051]此外，在觸摸塊TB的內(nèi)部區(qū)域TIA，從觸摸線190a延伸至選通線14(8卩，圖6中“Gate a”)上的連接圖案190c連接到公共電極170。然而，在觸摸塊TB的邊界區(qū)域TBA，形成開口部分OPEN，而沒有形成連接圖案190c和公共電極170。
[0052]因此，在觸摸塊TB的內(nèi)部區(qū)域TIA，由于在區(qū)域A中，在選通線“選通a，”與連接圖案190c和公共電極之間產(chǎn)生的電容，使得觸摸塊TB的內(nèi)部區(qū)域TIA的選通線“Gate a”的負(fù)載增加。
[0053]然而，在觸摸塊TB的邊界區(qū)域TBA，連接圖案190c和公共電極170沒有形成在選通線14( S卩，圖6中的“Gate b”)上方，因此在連接圖案190c和公共電極170與選通線14之間沒有產(chǎn)生電容，并且因此觸摸塊TB的邊界區(qū)域TBA的選通線“Gate b”的負(fù)載小于觸摸塊TB的內(nèi)部區(qū)域TIA的選通線“Gate a”的負(fù)載。
[0054]因此，參照?qǐng)D6，由于施加到較小負(fù)載的選通線“Gate b”的選通信號(hào)的輸出增加，所以邊界區(qū)域TBA的像素區(qū)域的像素電極的數(shù)據(jù)電壓的充電時(shí)間增加，從而該像素區(qū)域被相對(duì)高地充有數(shù)據(jù)電壓Vb。
[0055]然而，由于施加到較大負(fù)載的選通線“Gate b”的選通信號(hào)的輸出降低，所以內(nèi)部區(qū)域TIA的像素區(qū)域的像素電極的數(shù)據(jù)電壓的充電時(shí)間減少，并且因此該像素區(qū)域被相對(duì)低地充有數(shù)據(jù)電壓Va。
[0056]因此，觸摸塊TB的邊界區(qū)域TBA的像素區(qū)域看上去比觸摸塊TB的內(nèi)部區(qū)域TIA的像素區(qū)域更亮，因此顯示質(zhì)量下降。
[0057][第二實(shí)施方式]
[0058]圖7是例示根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施方式的in-cell觸摸型IXD的示意圖，以及圖8是例示根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施方式的in-cell觸摸型LCD的觸摸塊的結(jié)構(gòu)的示意圖。為了說明該目的，在圖7中省略了觸摸線和公共電極。此外，可以省略對(duì)與第一實(shí)施方式的部分相似的部分的說明。
[0059]參照?qǐng)D7和圖8，該in-cell觸摸型IXD包括:包括多個(gè)像素區(qū)域的顯示區(qū)域和圍繞顯示區(qū)域的非顯示區(qū)域。
[0060]在in-cell觸摸型LCD中限定多個(gè)觸摸塊TB。該多個(gè)觸摸塊TB各自具有在行方向和列方向彼此相鄰的一組像素區(qū)域。
[0061]選通線114和數(shù)據(jù)線116形成在基板上，并且彼此交叉以限定像素區(qū)域。
[0062]每個(gè)像素區(qū)域包括:連接到對(duì)應(yīng)選通線114和數(shù)據(jù)線116的薄膜晶體管T ;以及連接到薄膜晶體管T的漏極117的像素電極118。
[0063]觸摸線290a和虛設(shè)觸摸線290b在像素電極118之間形成在像素區(qū)域的邊界。鈍化層(未示出)形成在觸摸線190a、虛設(shè)觸摸線190b和像素電極118上。
[0064]公共電極270形成在鈍化層上并且在各個(gè)觸摸塊TB中，并且相互分離。
[0065]觸摸線290a在公共電極270下面。該觸摸線290a通過觸摸接觸孔TCH連接到對(duì)應(yīng)觸摸塊TB的公共電極270。觸摸線290a不連接到除了與該觸摸線290a連接的對(duì)應(yīng)觸摸塊TB以外的觸摸塊TB的公共電極270。觸摸線290a傳輸觸摸信號(hào)(即，相鄰公共電極270之間的電容變化)。
[0066]虛設(shè)觸摸線290b形成在公共電極270下面并且不連接到任一公共電極270。換言之，虛設(shè)觸摸線290b不傳輸觸摸信號(hào)。
[0067]在此方面，連接到觸摸塊TB的公共電極270的觸摸線290a基本上非均勻地布置在陣列基板上，從而公共電極270和觸摸線290a之間的電容變得不同，并且因此顯示質(zhì)量降低。為了防止此現(xiàn)象，形成了虛設(shè)觸摸線290b。
[0068]觸摸線290a和虛設(shè)觸摸線290b不彼此連接，并在觸摸線290a和虛設(shè)觸摸線290b之間具有開口部分OPEN。該開口部分OPEN形成在除了選通線114的區(qū)域以外的區(qū)域。換言之，該開口部分OPEN形成在觸摸塊TB的內(nèi)部區(qū)域TIA。
[0069]因此，在觸摸塊TB的邊界區(qū)域與選通線114相對(duì)應(yīng)地形成從觸摸線290a和虛設(shè)觸摸線290b延伸的補(bǔ)償圖案290d。補(bǔ)償圖案290d優(yōu)選地被形成為具有與從觸摸線290a延伸的、在觸摸塊TB的內(nèi)部區(qū)域的連接圖案相同的形狀。
[0070]圖9是例示根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施方式的in-cell觸摸型LCD的觸摸塊的內(nèi)部區(qū)域的示意圖，以及圖10是例示根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施方式的in-cell觸摸型LCD的觸摸塊的邊界區(qū)域的示意圖。
[0071]參照?qǐng)D9和圖10，在in-cell觸摸型IXD中，連接圖案290c在對(duì)應(yīng)觸摸塊TB的內(nèi)部區(qū)域TIA從觸摸線290a延伸，并且通過觸摸接觸孔TCH連接到公共電極270。連接圖案290c可與選通線114相對(duì)應(yīng)地定位。在觸摸線290a和虛設(shè)觸摸線290b之間形成開口部分OPEN。
[0072]觸摸線290a形成在像素區(qū)域的邊界處并且沿一方向延伸。
[0073]公共電極270包括在每個(gè)像素區(qū)域中的第一開口 230和與觸摸線290a和虛設(shè)觸摸線290b對(duì)應(yīng)的第二開口 235。此外，公共電極270包括與薄膜晶體管T對(duì)應(yīng)的第三開口250和與選通線114對(duì)應(yīng)的第四開口 255。這些公共電極270被第四開口 255分離。
[0074]公共電極270包括與薄膜晶體管T對(duì)應(yīng)的第三開口 250，并且在觸摸塊TB的內(nèi)部區(qū)域TIA延伸到選通線114上方。
[0075]從觸摸線290a的一側(cè)延伸的連接圖案290c通過觸摸接觸孔TCH連接到公共電極270，并且觸摸線290a傳輸觸摸信號(hào)到感測(cè)電路。
[0076]優(yōu)選地但非限制性地，觸摸線290a和虛設(shè)觸摸線190b由諸如鋁(Al)或者銅(Cu)的低電阻金屬材料形成，以防止觸摸信號(hào)的延遲。
[0077]第一鈍化層形成在像素電極118上。觸摸線290a和虛設(shè)觸摸線290b在像素區(qū)域的邊界處形成在第一鈍化層上。第二鈍化層形成在觸摸線290a和虛設(shè)觸摸線290b上。公共電極270形成在第二鈍化層上。
[0078]補(bǔ)償圖案290d在觸摸塊TB的邊界區(qū)域TBA處從觸摸線290a和虛設(shè)觸摸線290b的一側(cè)延伸，并且對(duì)應(yīng)于選通線114。
[0079]公共電極270之間在觸摸塊TB的邊界區(qū)域TBA處的間隔距離可減少至大約2 μπι以防止公共電極270之間的短路。
[0080]因此，在觸摸塊TB的邊界區(qū)域TBA處公共電極270的在選通線114上的面積可幾乎等于在觸摸塊TB的內(nèi)部區(qū)域TIA處公共電極270的在選通線114上的面積。
[0081]因此，在觸摸塊TB的邊界區(qū)域TBA的選通線114的負(fù)載等于在觸摸塊TB的內(nèi)部區(qū)域TIA的選通線114的負(fù)載，因此選通線114的輸出波形變得相等，并且像素電極118的數(shù)據(jù)電壓的充電時(shí)間變得相等，并且因此在觸摸塊TB的內(nèi)部區(qū)域TIA的像素區(qū)域的亮度與在觸摸塊TB的邊界區(qū)域TBA的像素區(qū)域的亮度能夠變得相等。因此，可以防止顯示質(zhì)量的降低。
[0082]此外，觸摸線290a和虛設(shè)觸摸線290b之間的開口部分OPEN形成在觸摸塊TB的邊界部分TBA的選通線114的區(qū)域的外部。
[0083]開口部分OPEN優(yōu)選地形成在觸摸塊TB的邊界區(qū)域TBA的選通線下面，并且位于像素區(qū)域之間。
[0084]開口部分OPEN形成在邊界區(qū)域TBA的選通線之的外部，并且因此從虛設(shè)觸摸線290b延伸的補(bǔ)償圖案290d能夠被形成在邊界區(qū)域TBA的選通線上方。
[0085]如上所述，在in-cell觸摸型IXD中，在觸摸線和虛設(shè)觸摸線之間的開口部分形成在觸摸塊的邊界區(qū)域的選通線的外部，并且具有與觸摸塊的內(nèi)部區(qū)域的連接圖案相同的形狀的補(bǔ)償圖案被形成在觸摸塊的邊界區(qū)域處的選通線上方。因此，觸摸塊的內(nèi)部區(qū)域的像素區(qū)域的亮度等于觸摸塊的邊界區(qū)域的像素區(qū)域的亮度，從而可以提高顯示質(zhì)量。
[0086]對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而易見的是，在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下，可以對(duì)本發(fā)明做出各種修改和變型。因此，本發(fā)明意在涵蓋本發(fā)明的落入所附權(quán)利要求及等同物的范圍內(nèi)的修改和變型。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種in-cell觸摸型液晶顯示裝置，該液晶顯示裝置包括: 選通線和數(shù)據(jù)線，其在基板上的像素區(qū)域的邊界處彼此交叉，所述基板包括分別包括多個(gè)像素區(qū)域的多個(gè)觸摸塊； 薄膜晶體管，其在每個(gè)像素區(qū)域中并且連接到所述選通線和所述數(shù)據(jù)線； 像素電極，其在所述像素區(qū)域中并連接到所述薄膜晶體管； 第一鈍化層，其在所述像素電極上； 觸摸線和虛設(shè)觸摸線，其在所述第一鈍化層上沿著相鄰像素電極之間的方向； 第二鈍化層，其在所述觸摸線和所述虛設(shè)觸摸線上；以及 多個(gè)公共電極，其在各個(gè)觸摸塊中彼此分離，并且分別包括與各個(gè)像素區(qū)域?qū)?yīng)的第一開口和與所述觸摸線對(duì)應(yīng)的第二開口， 其中，在所述觸摸塊的內(nèi)部區(qū)域從所述觸摸線的一側(cè)延伸至所述選通線上方的連接圖案通過觸摸接觸孔連接到所述公共電極，并且 其中，開口部分位于所述觸摸線和所述虛設(shè)觸摸線之間。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置，其中，所述開口部分在所述觸摸塊的邊界區(qū)域在所述選通線的外側(cè)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液晶顯示裝置，該液晶顯示裝置還包括補(bǔ)償圖案，該補(bǔ)償圖案在所述觸摸塊的所述邊界區(qū)域從所述虛設(shè)觸摸線的一側(cè)延伸至所述選通線上方。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的液晶顯示裝置，其中，所述補(bǔ)償圖案具有與所述連接圖案基本相同的形狀。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的液晶顯示裝置，其中，在所述觸摸塊的所述邊界區(qū)域在所述選通線上方的相鄰公共電極之間的間隔距離為至少大約2 μπι。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置，其中，所述觸摸線和所述虛設(shè)觸摸線中的每一個(gè)是低電阻金屬材料。
【文檔編號(hào)】G06F3/044GK105892120SQ201410858299
【公開日】2016年8月24日
【申請(qǐng)日】2014年12月24日
【發(fā)明人】蔡志恩, 李泰根
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