灌注裝置、方法和系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種灌注裝置、方法和系統(tǒng)，屬于灌注技術(shù)領(lǐng)域。所述灌注裝置包括：第一腔室、第二腔室、移動(dòng)組件和氣壓控制組件；第二腔室設(shè)置在第一腔室中，第一腔室用于放置待灌注裝置，第二腔室用于放置灌注槽；第二腔室上設(shè)置有開口，及扣置在開口上的活動(dòng)擋板和擋板槽，活動(dòng)擋板與擋板槽動(dòng)密封；第一腔室和第二腔室均與氣壓控制組件連接；移動(dòng)組件設(shè)置在第一腔室或第二腔室中，用于移動(dòng)所述待灌注裝置或所述灌注槽。本發(fā)明通過移動(dòng)活動(dòng)擋板來實(shí)現(xiàn)第一腔室和第二腔室在不同氣壓下的密封，解決了相關(guān)技術(shù)中對(duì)待灌注材料產(chǎn)生破壞的問題，達(dá)到了能夠在不破壞待灌注材料的前提下對(duì)待灌注裝置進(jìn)行脫氣處理的效果。
【專利說明】
灌注裝置、方法和系統(tǒng)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本發(fā)明涉及灌注技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種灌注裝置、方法和系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，一些流動(dòng)性的待灌注材料(如液晶)在直接注入待灌注裝置(如顯示面板)時(shí)，通常難以完全充滿待灌注裝置的內(nèi)部，這就需要使用灌注裝置來將待灌注材料注入待灌注裝置的內(nèi)部。
[0003]相關(guān)技術(shù)中有一種灌注裝置，該灌注裝置包括真空腔室、灌注槽和氣壓控制組件，灌注槽設(shè)置在真空腔室中且其中存儲(chǔ)有待灌注材料，氣壓控制組件用于控制真空腔室中的氣壓(例如對(duì)真空腔室抽真空)，在需要將待灌注材料注入待灌注裝置時(shí)，可以進(jìn)行以下步驟:1、將待灌注裝置放置在真空腔室中，待灌注裝置上設(shè)置有灌注口，該灌注口將待灌注裝置的內(nèi)部與外部連通;2、對(duì)待灌注材料進(jìn)行脫泡處理;3、通過氣壓控制組件降低真空腔室的氣壓至預(yù)設(shè)氣壓并保持一段時(shí)間以對(duì)待灌注裝置進(jìn)行脫氣處理;3、將待灌注裝置的灌注口浸入灌注槽中的待灌注材料;4、將真空腔室與外部大氣連通，外部大氣壓作用在灌注槽中的待灌注材料表面，將待灌注材料壓入待灌注裝置的內(nèi)部，完成待灌注材料的灌注。
[0004]在實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的過程中，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)至少存在以下問題:若待灌注材料為易揮發(fā)的材料，在降低真空腔室的氣壓以對(duì)待灌注裝置進(jìn)行脫氣處理時(shí)，會(huì)在很大程度上加速待灌注材料的揮發(fā)(通常氣壓越低越容易揮發(fā))，導(dǎo)致待灌注材料的成分發(fā)生了變化，對(duì)待灌注材料產(chǎn)生破壞。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]為了解決現(xiàn)有技術(shù)中若待灌注材料為易揮發(fā)的材料，在降低真空腔室的氣壓以對(duì)待灌注裝置進(jìn)行脫氣處理時(shí)，會(huì)在很大程度上加速待灌注材料的揮發(fā)，導(dǎo)致待灌注材料的成分發(fā)生了變化，對(duì)待灌注材料產(chǎn)生破壞的問題，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種灌注裝置、方法和系統(tǒng)。所述技術(shù)方案如下:
[0006]根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了一種灌注裝置，所述灌注裝置包括:
[0007]第一腔室、第二腔室、移動(dòng)組件和氣壓控制組件；
[0008]所述第二腔室設(shè)置在所述第一腔室中，所述第一腔室用于放置待灌注裝置，所述第二腔室用于放置灌注槽；
[0009]所述第二腔室上設(shè)置有開口，及扣置在所述開口上的活動(dòng)擋板和擋板槽，所述活動(dòng)擋板與所述擋板槽動(dòng)密封，所述活動(dòng)擋板能夠在所述擋板槽中沿垂直于所述活動(dòng)擋板的板面的方向移動(dòng)，所述活動(dòng)擋板還能夠沿平行于所述活動(dòng)擋板的板面的方向移動(dòng)；
[0010]所述第一腔室和所述第二腔室均與所述氣壓控制組件連接，所述氣壓控制組件用于調(diào)整所述第一腔室和所述第二腔室的氣壓；
[0011 ]所述移動(dòng)組件設(shè)置在所述第一腔室中，用于移動(dòng)所述待灌注裝置，或者，所述移動(dòng)組件設(shè)置在所述第二腔室中，用于移動(dòng)所述灌注槽。
[0012]可選地，所述活動(dòng)擋板上設(shè)置有液壓組件，所述液壓組件用于控制所述活動(dòng)擋板沿垂直于所述活動(dòng)擋板的板面的方向移動(dòng)。
[0013]可選地，所述液壓組件包括分別設(shè)置在所述活動(dòng)擋板兩側(cè)的第一液壓桿和第二液壓桿，所述第一液壓桿和所述第二液壓桿的長度方向均與所述活動(dòng)擋板的板面垂直，
[0014]所述第一液壓桿和所述第二液壓桿均能夠沿各自的長度方向推動(dòng)所述活動(dòng)擋板，使所述活動(dòng)擋板沿垂直于所述活動(dòng)擋板的板面的方向移動(dòng)。
[0015]可選地，所述氣壓控制組件包括充氣子組件和抽氣子組件，
[0016]所述充氣子組件用于對(duì)所述第一腔室或所述第二腔室進(jìn)行充氣；
[0017]所述抽氣子組件用于對(duì)所述第一腔室或所述第二腔室進(jìn)行抽氣。
[0018]可選地，所述活動(dòng)擋板的板面與水平面平行。
[0019]根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供一種灌注方法，所述方法包括:
[0020]將待灌注裝置放置在第一腔室中，將灌注槽放置在第二腔室中，所述灌注槽中存儲(chǔ)有待灌注材料；
[0021]將活動(dòng)擋板沿垂直于所述活動(dòng)擋板的板面且遠(yuǎn)離所述第二腔室的方向移動(dòng)至擋板槽的一端；
[0022]通過氣壓控制組件降低所述第一腔室中的氣壓至第一預(yù)設(shè)氣壓；
[0023]對(duì)所述待灌注材料進(jìn)行脫泡處理；
[0024]將所述活動(dòng)擋板移動(dòng)至所述擋板槽的另一端；
[0025]通過所述氣壓控制組件降低所述第二腔室中的氣壓至所述第一預(yù)設(shè)氣壓；
[0026]沿平行于所述活動(dòng)擋板的板面的方向移動(dòng)所述活動(dòng)擋板，使所述第二腔室與所述第一腔室連通；
[0027]通過移動(dòng)組件使所述待灌注裝置的灌注口浸入所述灌注槽中的所述待灌注材料；
[0028]通過所述氣壓控制組件升高所述第一腔室中的氣壓，使所述灌注材料注入所述待灌注裝置。
[0029]可選地，所述通過氣壓控制組件降低所述第一腔室中的氣壓至第一預(yù)設(shè)氣壓，包括:
[0030]通過氣壓控制組件降低所述第一腔室中的氣壓至第一預(yù)設(shè)氣壓并封閉所述第一腔室持續(xù)第一預(yù)設(shè)時(shí)間段。
[0031]可選地，所述對(duì)所述待灌注材料進(jìn)行脫泡處理，包括:
[0032]通過所述氣壓控制組件升高并降低所述第二腔室中的氣壓預(yù)設(shè)次數(shù)以對(duì)所述待灌注材料進(jìn)行脫泡處理；
[0033]通過所述氣壓控制組件降低所述第二腔室中的氣壓至第二預(yù)設(shè)氣壓，所述第二預(yù)設(shè)氣壓大于所述第一預(yù)設(shè)氣壓。
[0034]可選地，所述第二預(yù)設(shè)氣壓小于或等于一千帕。
[0035]可選地，所述通過所述氣壓控制組件升高所述第一腔室中的氣壓，包括:
[0036]通過所述氣壓控制組件向所述第一腔室中注入氮?dú)庖陨咚龅谝磺皇抑械臍鈮骸?br>[0037]可選地，所述將所述活動(dòng)擋板移動(dòng)至所述擋板槽的另一端，包括:
[0038]將所述活動(dòng)擋板移動(dòng)至所述擋板槽的另一端并封閉所述第二腔室持續(xù)第二預(yù)設(shè)時(shí)間段。
[0039]可選地，所述將待灌注裝置放置在第一腔室中，將灌注槽放置在第二腔室中，包括:
[0040]將待灌注裝置放置在第一腔室中，將灌注槽放置在第二腔室中，且將所述待灌注裝置的灌注口與所述灌注槽在預(yù)設(shè)方向上對(duì)位。
[0041]根據(jù)本發(fā)明的第三方面，提供一種灌注系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括灌注裝置、待灌注裝置和灌注槽，所述灌注槽中存儲(chǔ)有待灌注材料，
[0042]所述灌注裝置包括:第一腔室、第二腔室、移動(dòng)組件和氣壓控制組件;所述第二腔室設(shè)置在所述第一腔室中；
[0043]所述待灌注裝置放置在所述第一腔室中，所述灌注槽放置在所述第二腔室中。
[0044]本發(fā)明實(shí)施例提供的技術(shù)方案帶來的有益效果是:
[0045]通過在用于放置待灌注裝置的第一腔室中設(shè)置較小的第二腔室來放置灌注槽，并在第二腔室上設(shè)置活動(dòng)擋板和擋板槽，通過移動(dòng)活動(dòng)擋板來實(shí)現(xiàn)第一腔室和第二腔室在不同氣壓下的密封，解決了相關(guān)技術(shù)中在降低真空腔室的氣壓以對(duì)待灌注裝置進(jìn)行脫氣處理時(shí)，會(huì)在很大程度上加速待灌注材料的揮發(fā)，導(dǎo)致待灌注材料的成分發(fā)生了變化，對(duì)待灌注材料產(chǎn)生破壞的問題，達(dá)到了能夠在不破壞待灌注材料的前提下對(duì)待灌注裝置進(jìn)行脫氣處理的效果。
【附圖說明】
[0046]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0047]圖1是本發(fā)明實(shí)施例示出的一種灌注裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0048]圖2-1是本發(fā)明實(shí)施例示出的另一種灌注裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0049]圖2-2是圖2-1所示實(shí)施例中活動(dòng)擋板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0050]圖3-1是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種灌注方法的流程圖；
[0051]圖3-2是圖3-1所示的灌注方法中灌注裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0052]圖3-3是圖3-1所示的灌注方法中脫泡處理的流程圖；
[0053]圖3-4是圖3-1所示的灌注方法中灌注裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0054]上述各個(gè)附圖中，附圖標(biāo)識(shí)的含義可以為:11-第一腔室，12-第二腔室，13-移動(dòng)組件，14-氣壓控制組件，121-活動(dòng)擋板，122-擋板槽，a-垂直于活動(dòng)擋板的板面的方向，b-平行于活動(dòng)擋板的板面的方向，123a-第一液壓桿，123b-第二液壓桿，141-充氣子組件，142-抽氣子組件，20-灌注槽，30-待灌注裝置，31-灌注口。
[0055]通過上述附圖，已示出本發(fā)明明確的實(shí)施例，后文中將有更詳細(xì)的描述。這些附圖和文字描述并不是為了通過任何方式限制本發(fā)明構(gòu)思的范圍，而是通過參考特定實(shí)施例為本領(lǐng)域技術(shù)人員說明本發(fā)明的概念。
【具體實(shí)施方式】
[0056]為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明實(shí)施方式作進(jìn)一步地詳細(xì)描述。
[0057]圖1是本發(fā)明實(shí)施例示出的一種灌注裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。該灌注裝置可以包括:
[0058]第一腔室11、第二腔室12、移動(dòng)組件13和氣壓控制組件14。
[0059]第二腔室12設(shè)置在第一腔室11中，第一腔室11用于放置待灌注裝置，第二腔室12用于放置灌注槽。
[0060]第二腔室12上設(shè)置有開口，及扣置在開口上的活動(dòng)擋板121和擋板槽122，活動(dòng)擋板121與擋板槽122動(dòng)密封，活動(dòng)擋板121能夠在擋板槽122中沿垂直于活動(dòng)擋板121的板面的方向a移動(dòng)，活動(dòng)擋板121還能夠沿平行于活動(dòng)擋板121的板面的方向b移動(dòng)。
[0061]第一腔室11和第二腔室12均與氣壓控制組件14連接，氣壓控制組件14用于調(diào)整第一腔室11和第二腔室12的氣壓。
[0062]移動(dòng)組件13設(shè)置在第一腔室11中，用于移動(dòng)待灌注裝置，或者，移動(dòng)組件13設(shè)置在第二腔室12中，用于移動(dòng)灌注槽(圖1示出的是移動(dòng)組件13設(shè)置在第二腔室12中的情況)。具體的，在移動(dòng)組件13設(shè)置在第一腔室11中時(shí)，移動(dòng)組件13可以用于移動(dòng)待灌注裝置，并將待灌注裝置的灌注口浸入到灌注槽的待灌注材料中；而在移動(dòng)組件13設(shè)置在第二腔室12中時(shí)，移動(dòng)組件13可以用于移動(dòng)灌注槽，并使灌注槽中待灌注材料與待灌注裝置的灌注口接觸。
[0063]綜上所述，發(fā)明實(shí)施例提供的灌注裝置，通過在用于放置待灌注裝置的第一腔室中設(shè)置較小的第二腔室來放置灌注槽，并在第二腔室上設(shè)置活動(dòng)擋板和擋板槽，通過移動(dòng)活動(dòng)擋板來實(shí)現(xiàn)第一腔室和第二腔室在不同氣壓下的密封，解決了相關(guān)技術(shù)中在降低真空腔室的氣壓以對(duì)待灌注裝置進(jìn)行脫氣處理時(shí)，會(huì)在很大程度上加速待灌注材料的揮發(fā)，導(dǎo)致待灌注材料的成分發(fā)生了變化，對(duì)待灌注材料產(chǎn)生破壞的問題，達(dá)到了能夠在不破壞待灌注材料的前提下對(duì)待灌注裝置進(jìn)行脫氣處理的效果。
[0064]進(jìn)一步的，請(qǐng)參考圖2-1，其示出了本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種灌注裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，該灌注裝置在圖1所示的灌注裝置的基礎(chǔ)上增加了更優(yōu)選的部件，從而使得本發(fā)明實(shí)施例提供的灌注裝置具有更好的性能。
[0065]可選地，活動(dòng)擋板121上設(shè)置有液壓組件123，液壓組件123用于控制活動(dòng)擋板121沿垂直于活動(dòng)擋板121的板面的方向a移動(dòng)。
[0066]進(jìn)一步的，液壓組件123可以包括分別設(shè)置在活動(dòng)擋板121兩側(cè)的第一液壓桿123a和第二液壓桿123b，第一液壓桿123a和第二液壓桿123b的長度方向均與活動(dòng)擋板121的板面垂直，第一液壓桿123a和第二液壓桿123b均能夠沿各自的長度方向推動(dòng)活動(dòng)擋板121，使活動(dòng)擋板121沿垂直于活動(dòng)擋板的板面的方向a移動(dòng)。即活動(dòng)擋板121在擋板槽122中移動(dòng)時(shí)，均可以是由對(duì)應(yīng)的液壓桿來驅(qū)動(dòng)的，這樣可以確?；顒?dòng)擋板121移動(dòng)時(shí)的穩(wěn)定性及活動(dòng)擋板121與擋板槽122之間的密封性能。其中，如圖2-2所示，活動(dòng)擋板121可以為矩形擋板，第一液壓桿123a和第二液壓桿123b可以均為兩根，且分別間隔設(shè)置在活動(dòng)擋板121的四個(gè)角落，其中，實(shí)線圈代表設(shè)置在活動(dòng)擋板121—側(cè)的第一液壓桿123a，虛線圈代表設(shè)置在活動(dòng)擋板121另一側(cè)的第二液壓桿123b。
[0067]活動(dòng)擋板121可以設(shè)置有移動(dòng)組件，該移動(dòng)組件用于在平行于活動(dòng)擋板121的板面的方向上移動(dòng)活動(dòng)擋板121，該移動(dòng)組件可以是設(shè)置在第一腔室中的推桿，該推桿可以由液壓組件提供動(dòng)力，用于在平行于活動(dòng)擋板121的板面的方向上推動(dòng)活動(dòng)擋板121，擋板槽122的一側(cè)可以設(shè)置有開口(該開口可以是可以打開或關(guān)閉的開口，圖2-1中未示出該開口)，該移動(dòng)組件可以將活動(dòng)擋板121從該開口推出，使第一腔室11和第二腔室12連通。
[0068]在圖2-1中，氣壓控制組件14包括充氣子組件141和抽氣子組件142，充氣子組件141用于對(duì)第一腔室11或第二腔室12進(jìn)行充氣。其中第一腔室11和第二腔室12可以共用充氣子組件，示例性的，充氣子組件141可以包括兩個(gè)充氣閥和氣體源，該氣體源用于提供沖入第一腔室11和第二腔室12中的氣體，該氣體可以為氮?dú)猓@兩個(gè)充氣閥可以分別設(shè)置在第一腔室11和第二腔室12上，設(shè)置在第一腔室11和第二腔室12上的充氣閥可以與灌注裝置的外部或其它組件連接。此外，第一腔室11和第二腔室12還可以分別設(shè)置有氣體源，本發(fā)明實(shí)施例不作出限制。
[0069]抽氣子組件142用于對(duì)第一腔室11或第二腔室12進(jìn)行抽氣。其中，抽氣子系統(tǒng)142可以包括分別設(shè)置在第一腔室11和第二腔室12上的兩個(gè)電磁閥以及真空栗，真空栗用于對(duì)第一腔室11和第二腔室12進(jìn)行抽真空，而設(shè)置在第一腔室11和第二腔室12上的電磁閥用于調(diào)節(jié)真空栗抽真空的速度，此外，真空栗上還可以設(shè)置有兩個(gè)抽氣閥，這兩個(gè)抽氣閥用于作為真空栗對(duì)第一腔室11和第二腔室12是否進(jìn)行抽真空的開關(guān)。此外，第一腔室11和第二腔室12還可以分別設(shè)置有真空栗，即第一腔室11和第二腔室12可以由各自的真空栗、抽氣閥和電磁閥所組成的抽氣子組件來進(jìn)行抽氣。
[0070]需要說明的是，對(duì)于第二腔室12，充氣子組件141和抽氣子組件142可以配合對(duì)第二腔室12進(jìn)行充氣與抽氣，以完成對(duì)第二腔室12中的待灌注材料的脫泡處理(除去待灌注材料中的氣泡)，該待灌注材料可以為具有流動(dòng)性的材料，例如液晶或電致變色電解液，灌注槽中可以設(shè)置有海綿條，用于方便液晶的灌注。而對(duì)于第一腔室11，抽氣子組件142可以直接將第一腔室11的氣壓降低至一個(gè)較低的水平，比如第一預(yù)設(shè)氣壓(在待灌注材料為液晶時(shí)，第一預(yù)設(shè)氣壓可以為I帕，在待灌注材料為電致變色電解液時(shí)，第一預(yù)設(shè)氣壓可以為40帕)，并保持住，以對(duì)第一腔室11中的待灌注裝置進(jìn)行脫氣處理(去除待灌注裝置內(nèi)部的氣體)，其中，待灌注裝置可以為未灌注液晶的液晶面板。因?yàn)榈谝磺皇?1中未設(shè)置有灌注槽，因而可以將第一腔室11中的氣壓降低到一個(gè)較低的水平(低于相關(guān)技術(shù)中進(jìn)行脫氣處理時(shí)的氣壓)，以提高脫氣速率與效果。
[0071]此外，由于第一腔室11和第二腔室12為兩個(gè)可以進(jìn)行獨(dú)立密封的腔室，因此對(duì)待灌注材料的脫泡處理和對(duì)待灌注裝置的脫氣處理可以同時(shí)進(jìn)行，這樣可以加速對(duì)待灌注裝置的灌注，提高了灌注效率。而相關(guān)技術(shù)中的灌注裝置中，待灌注裝置和待灌注材料處于同一個(gè)真空腔室中，因而首先要通過對(duì)真空腔室進(jìn)行數(shù)次的抽氣和放氣以對(duì)待灌注材料進(jìn)行脫泡處理，之后再將真空腔室抽至氣壓降低至一個(gè)較低的水平并維持一段時(shí)間，以對(duì)待灌注裝置進(jìn)行脫氣處理，由于該真空腔室需要容納待灌注裝置，因而通常較大，若待灌注材料的飽和蒸氣壓(在密閉條件中，在一定溫度下，與液體處于相平衡的蒸氣所具有的壓強(qiáng)稱為飽和蒸氣壓)較高，真空腔室中的氣壓越低，待灌注材料越容易揮發(fā)，因而降低真空腔室的氣壓的難度較高，即使通過增強(qiáng)真空栗的性能強(qiáng)行降低真空腔室的氣壓，也會(huì)由于待灌注材料的大量揮發(fā)而對(duì)待灌注材料造成破壞，揮發(fā)的待灌注材料也會(huì)對(duì)真空栗造成污染。但若為了避免待灌注材料的揮發(fā)而縮小低氣壓的維持時(shí)間，待灌注裝置中的氣體殘留又會(huì)較多，導(dǎo)致后續(xù)待灌注裝置無法灌滿待灌注材料。
[0072]可選地，活動(dòng)擋板121的板面與水平面平行。這樣活動(dòng)擋板121就可以在豎直方向上移動(dòng)，在活動(dòng)擋板121向朝向第二腔室12內(nèi)部的方向移動(dòng)到擋板槽122的一端時(shí)，活動(dòng)擋板121的重力能夠進(jìn)一步的提高活動(dòng)擋板121與擋板槽122之間的密封性能?？蛇x的，活動(dòng)擋板121可以由金屬來構(gòu)成，以提高活動(dòng)擋板的重量以及堅(jiān)固程度，使得活動(dòng)擋板121與擋板槽122之間的密封性能能夠達(dá)到較高的水平。
[0073]綜上所述，發(fā)明實(shí)施例提供的灌注裝置，通過在用于放置待灌注裝置的第一腔室中設(shè)置較小的第二腔室來放置灌注槽，并在第二腔室上設(shè)置活動(dòng)擋板和擋板槽，通過移動(dòng)活動(dòng)擋板來實(shí)現(xiàn)第一腔室和第二腔室在不同氣壓下的密封，解決了相關(guān)技術(shù)中在降低真空腔室的氣壓以對(duì)待灌注裝置進(jìn)行脫氣處理時(shí)，會(huì)在很大程度上加速待灌注材料的揮發(fā)，導(dǎo)致待灌注材料的成分發(fā)生了變化，對(duì)待灌注材料產(chǎn)生破壞的問題，達(dá)到了能夠在不破壞待灌注材料的前提下對(duì)待灌注裝置進(jìn)行脫氣處理的效果。
[0074]圖3-1是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種灌注方法的流程圖，該灌注方法能夠用于將待灌注材料灌注到待灌注裝置中。該灌注方法可以包括下面幾個(gè)步驟:
[0075]步驟301，將待灌注裝置放置在第一腔室中，將灌注槽放置在第二腔室中，灌注槽中存儲(chǔ)有待灌注材料。
[0076]在使用本發(fā)明實(shí)施例提供的灌注方法時(shí)，首先可以將待灌注裝置放置在第一腔室中，將灌注槽放置在第二腔室中，灌注槽中存儲(chǔ)有待灌注材料。示例性的，待灌注裝置可以為未灌注液晶的液晶面板，待灌注材料可以為液晶，灌注槽中可以設(shè)置有海綿條。
[0077]可選的，本步驟在放置待灌注裝置以及灌注槽時(shí)，可以將待灌注裝置放置在第一腔室中，將灌注槽放置在第二腔室中，且將待灌注裝置的灌注口與灌注槽在預(yù)設(shè)方向上對(duì)位，這樣可以方便后續(xù)將待灌注裝置的灌注口浸入灌注槽中的待灌注材料內(nèi)。
[0078]本發(fā)明實(shí)施例提供的灌注方法可以應(yīng)用于圖1或圖2-1所示的灌注裝置。
[0079]以圖2-1所示的灌注裝置為例，本步驟結(jié)束時(shí)，灌注裝置中的結(jié)構(gòu)可以如圖3-2所示，其中30為待灌注裝置，31為灌注口，20為灌注槽。圖3-2中其他標(biāo)識(shí)的含義可以參考圖2-1，在此不再贅述。
[0080]步驟302，將活動(dòng)擋板沿垂直于活動(dòng)擋板的板面且遠(yuǎn)離第二腔室的方向移動(dòng)至擋板槽的一端。
[0081]在要將第一腔室的氣壓降低至第一預(yù)設(shè)氣壓時(shí)，首先可以將活動(dòng)擋板沿垂直于活動(dòng)擋板的板面且遠(yuǎn)離第二腔室的方向移動(dòng)至擋板槽的一端，以提高活動(dòng)擋板和擋板槽之間的密封性能。
[0082]以圖2-1示出的灌注裝置為例，可以通過活動(dòng)擋板上設(shè)置在靠近第二腔室內(nèi)部的一側(cè)的液壓桿來推動(dòng)活動(dòng)擋板，以將活動(dòng)擋板沿垂直于活動(dòng)擋板的板面且遠(yuǎn)離第二腔室的方向移動(dòng)至擋板槽的一端。
[0083]步驟303，通過氣壓控制組件降低第一腔室中的氣壓至第一預(yù)設(shè)氣壓。
[0084]在將活動(dòng)擋板沿垂直于活動(dòng)擋板的板面且遠(yuǎn)離第二腔室的方向移動(dòng)至擋板槽的一端后，可以通過氣壓控制組件降低第一腔室中的氣壓至第一預(yù)設(shè)氣壓。由于此時(shí)活動(dòng)擋板位于擋板槽的一端，在降低第一腔室中的氣壓時(shí)，活動(dòng)擋板會(huì)緊緊的壓在該擋板槽的一端上，提高了活動(dòng)擋板與擋板槽之間的密封性能。
[0085]可選的，通過氣壓控制組件降低第一腔室中的氣壓至第一預(yù)設(shè)氣壓并封閉第一腔室持續(xù)第一預(yù)設(shè)時(shí)間段。持續(xù)第一預(yù)設(shè)時(shí)間段可以使待灌注裝置內(nèi)部的氣體較為完全的排出到第一腔室中，且由于待灌裝置內(nèi)部的容積相對(duì)與第一腔室非常小，因而待灌注裝置內(nèi)部的氣體對(duì)第一腔室的氣壓造成的影響可以忽略。
[0086]步驟302和步驟303為對(duì)待灌注裝置進(jìn)行脫氣處理的步驟。
[0087]步驟304，對(duì)待灌注材料進(jìn)行脫泡處理。
[0088]在將待灌注裝置放置在第一腔室中，將灌注槽放置在第二腔室中后，可以對(duì)待灌注材料進(jìn)行脫泡處理，即步驟304可以在步驟301之后執(zhí)行，步驟304可以與步驟302S卩303同時(shí)執(zhí)行，以提高本發(fā)明實(shí)施例提供的灌注方法的灌注速度。
[0089]具體的，如圖3-3所示，脫泡處理的過程可以包括下面兩個(gè)子步驟:
[0090]子步驟3041，通過氣壓控制組件升高并降低第二腔室中的氣壓預(yù)設(shè)次數(shù)以對(duì)待灌注材料進(jìn)行脫泡處理。
[0091]在進(jìn)行脫泡處理時(shí)，首先可以通過氣壓控制組件升高并降低第二腔室中的氣壓預(yù)設(shè)次數(shù)以對(duì)待灌注材料進(jìn)行脫泡處理。以圖2-1示出的灌注裝置為例，可以通過切換電磁閥和充氣閥來升高并降低第二腔室中的氣壓預(yù)設(shè)次數(shù)以對(duì)待灌注材料進(jìn)行脫泡處理。
[0092]子步驟3042，通過氣壓控制組件降低第二腔室中的氣壓至第二預(yù)設(shè)氣壓，第二預(yù)設(shè)氣壓大于第一預(yù)設(shè)氣壓。
[0093]在對(duì)待灌注材料進(jìn)行脫泡處理之后，可以通過氣壓控制組件降低第二腔室中的氣壓至第二預(yù)設(shè)氣壓，第二預(yù)設(shè)氣壓大于第一預(yù)設(shè)氣壓。第二預(yù)設(shè)氣壓大于第一預(yù)設(shè)氣壓且第二預(yù)設(shè)氣壓小于或等于一千帕，這樣能夠避免待灌注材料長期處于一個(gè)較低的氣壓而快速揮發(fā)。
[0094]步驟305，將活動(dòng)擋板移動(dòng)至擋板槽的另一端。
[0095]在完成對(duì)待灌注材料的脫泡處理后，可以將活動(dòng)擋板移動(dòng)至擋板槽的另一端。以準(zhǔn)備繼續(xù)降低第二腔室的氣壓。其中擋板槽的另一端是指擋板槽靠近第二腔室的一端，由于此時(shí)第二腔室中的氣壓為第二預(yù)設(shè)氣壓，雖然第二預(yù)設(shè)氣壓大于第一預(yù)設(shè)氣壓，但第二預(yù)設(shè)氣壓與第一預(yù)設(shè)氣壓相差不是很大，將活動(dòng)擋板移動(dòng)至擋板槽的另一端不會(huì)對(duì)活動(dòng)擋板和擋板槽之間的密封性能造成較大的影響。以圖2-1示出的灌注裝置為例，可以通過活動(dòng)擋板上設(shè)置在遠(yuǎn)離第二腔室內(nèi)部的一側(cè)的液壓桿來推動(dòng)活動(dòng)擋板，以將活動(dòng)擋板沿垂直于活動(dòng)擋板的板面且靠近第二腔室的方向移動(dòng)至擋板槽的另一端。
[0096]可選的，將活動(dòng)擋板移動(dòng)至擋板槽的另一端并封閉第二腔室持續(xù)第二預(yù)設(shè)時(shí)間段。這樣能夠使第二腔室中的氣壓達(dá)到平衡的狀態(tài)，為后續(xù)進(jìn)一步降低氣壓做準(zhǔn)備。
[0097]步驟306，通過氣壓控制組件降低第二腔室中的氣壓至第一預(yù)設(shè)氣壓。
[0098]在將活動(dòng)擋板移動(dòng)至擋板槽的另一端后，可以快速的通過氣壓控制組件降低第二腔室中的氣壓至第一預(yù)設(shè)氣壓。由于第二腔室用于放置灌注槽，第二腔室可以較小，因而降低第二腔室的氣壓至第一預(yù)設(shè)氣壓較為容易。
[0099]步驟307，沿平行于活動(dòng)擋板的板面的方向移動(dòng)活動(dòng)擋板，使第二腔室與第一腔室連通。
[0100]在降低第二腔室中的氣壓至第一預(yù)設(shè)氣壓后，可以沿平行于活動(dòng)擋板的板面的方向移動(dòng)活動(dòng)擋板，使第二腔室與第一腔室連通。以圖2-1示出的灌注裝置為例，可以使壓住活動(dòng)擋板的液壓桿松開，之后沿平行于活動(dòng)擋板的板面的方向?qū)⒒顒?dòng)擋板抽出，使第二腔室與第一腔室連通。
[0101]步驟308，通過移動(dòng)組件使待灌注裝置的灌注口浸入灌注槽中的待灌注材料。
[0102]在第一腔室和第二腔室連通后，可以通過移動(dòng)組件使待灌注裝置的灌注口浸入灌注槽中的待灌注材料。移動(dòng)組件可以設(shè)置在第一腔室或第二腔室中，用于使待灌注裝置的灌注口浸入到灌注槽的待灌注材料中。具體的，在移動(dòng)組件設(shè)置在第一腔室中時(shí)，移動(dòng)組件可以用于移動(dòng)待灌注裝置，并將待灌注裝置的灌注口浸入到灌注槽的待灌注材料中；而在移動(dòng)組件設(shè)置在第二腔室中時(shí)，移動(dòng)組件可以用于移動(dòng)灌注槽，并使灌注槽中待灌注材料與待灌注裝置的灌注口接觸。
[0103]待灌注裝置的灌注口浸入灌注槽中的待灌注材料后，灌注槽中的待灌注材料會(huì)由于毛細(xì)現(xiàn)象而慢慢的從灌注口流入待灌注裝置。
[0104]以圖2-1所示的灌注裝置為例，本步驟結(jié)束時(shí)，灌注裝置中的結(jié)構(gòu)可以如圖3-4所示，其中30為待灌注裝置，31為灌注口，20為灌注槽，灌注口 31浸入帶灌注槽20中的待灌注材料。圖3-4中其他標(biāo)識(shí)的含義可以參考圖2-1，在此不再贅述。
[0105]步驟309，通過氣壓控制組件升高第一腔室中的氣壓，使灌注材料注入待灌注裝置。
[0106]在將待灌注裝置的灌注口浸入灌注槽中的待灌注材料后，可以通過氣壓控制組件升高第一腔室中的氣壓，使待灌注材料注入待灌注裝置?？蛇x的，可以緩慢的升高第一腔室中的氣壓，避免第一腔室中的氣壓變化速度過快。第一腔室中的氣壓升高后，第一腔室中的氣壓就會(huì)大于待灌注裝置內(nèi)部的氣壓，這樣第一腔室中的氣壓會(huì)作用在灌注槽中的待灌注材料表面，將待灌注材料壓入待灌注裝置?？蛇x的，可以通過氣壓控制組件向第一腔室中注入氮?dú)庖陨叩谝磺皇抑械臍鈮?。氮?dú)馐且环N常見的化學(xué)性質(zhì)不活潑的氣體，用于提高第一腔室中的氣壓能夠起到保護(hù)待灌注材料的效果。此外，在本步驟執(zhí)行之前，可以將灌注裝置靜置一段時(shí)間，使第一腔室中氣壓趨于穩(wěn)定。
[0107]在完成了待灌注裝置的灌注后，可以打開第一腔室將待灌注裝置取出。
[0108]綜上所述，發(fā)明實(shí)施例提供的灌注方法，通過在用于放置待灌注裝置的第一腔室中設(shè)置較小的第二腔室來放置灌注槽，并在第二腔室上設(shè)置活動(dòng)擋板和擋板槽，通過移動(dòng)活動(dòng)擋板來實(shí)現(xiàn)第一腔室和第二腔室在不同氣壓下的密封，解決了相關(guān)技術(shù)中在降低真空腔室的氣壓以對(duì)待灌注裝置進(jìn)行脫氣處理時(shí)，會(huì)在很大程度上加速待灌注材料的揮發(fā)，導(dǎo)致待灌注材料的成分發(fā)生了變化，對(duì)待灌注材料產(chǎn)生破壞的問題，達(dá)到了能夠在不破壞待灌注材料的前提下對(duì)待灌注裝置進(jìn)行脫氣處理的效果。
[0109]本發(fā)明實(shí)施例還提供一種灌注系統(tǒng)，該系統(tǒng)可以包括灌注裝置、待灌注裝置和灌注槽，灌注槽中存儲(chǔ)有待灌注材料。
[0110]灌注裝置包括:第一腔室、第二腔室、移動(dòng)組件和氣壓控制組件;第二腔室設(shè)置在第一腔室中。該灌注裝置可以為圖1或圖2-1示出的灌注裝置。
[0111]待灌注裝置放置在第一腔室中，灌注槽放置在第二腔室中。
[0112]本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解實(shí)現(xiàn)上述實(shí)施例的全部或部分步驟可以通過硬件來完成，也可以通過程序來指令相關(guān)的硬件完成，所述的程序可以存儲(chǔ)于一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)中，上述提到的存儲(chǔ)介質(zhì)可以是只讀存儲(chǔ)器，磁盤或光盤等。
[0113]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種灌注裝置，其特征在于，所述灌注裝置包括: 第一腔室、第二腔室、移動(dòng)組件和氣壓控制組件； 所述第二腔室設(shè)置在所述第一腔室中，所述第一腔室用于放置待灌注裝置，所述第二腔室用于放置灌注槽； 所述第二腔室上設(shè)置有開口，及扣置在所述開口上的活動(dòng)擋板和擋板槽，所述活動(dòng)擋板與所述擋板槽動(dòng)密封，所述活動(dòng)擋板能夠在所述擋板槽中沿垂直于所述活動(dòng)擋板的板面的方向移動(dòng)，所述活動(dòng)擋板還能夠沿平行于所述活動(dòng)擋板的板面的方向移動(dòng)； 所述第一腔室和所述第二腔室均與所述氣壓控制組件連接，所述氣壓控制組件用于調(diào)整所述第一腔室和所述第二腔室的氣壓； 所述移動(dòng)組件設(shè)置在所述第一腔室中，用于移動(dòng)所述待灌注裝置，或者，所述移動(dòng)組件設(shè)置在所述第二腔室中，用于移動(dòng)所述灌注槽。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的灌注裝置，其特征在于，所述活動(dòng)擋板上設(shè)置有液壓組件，所述液壓組件用于控制所述活動(dòng)擋板沿垂直于所述活動(dòng)擋板的板面的方向移動(dòng)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的灌注裝置，其特征在于，所述液壓組件包括分別設(shè)置在所述活動(dòng)擋板兩側(cè)的第一液壓桿和第二液壓桿，所述第一液壓桿和所述第二液壓桿的長度方向均與所述活動(dòng)擋板的板面垂直， 所述第一液壓桿和所述第二液壓桿均能夠沿各自的長度方向推動(dòng)所述活動(dòng)擋板，使所述活動(dòng)擋板沿垂直于所述活動(dòng)擋板的板面的方向移動(dòng)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的灌注裝置，其特征在于，所述氣壓控制組件包括充氣子組件和抽氣子組件， 所述充氣子組件用于對(duì)所述第一腔室或所述第二腔室進(jìn)行充氣； 所述抽氣子組件用于對(duì)所述第一腔室或所述第二腔室進(jìn)行抽氣。5.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一所述的灌注裝置，其特征在于，所述活動(dòng)擋板的板面與水平面平行。6.一種灌注方法，其特征在于，所述方法包括: 將待灌注裝置放置在第一腔室中，將灌注槽放置在第二腔室中，所述灌注槽中存儲(chǔ)有待灌注材料； 將活動(dòng)擋板沿垂直于所述活動(dòng)擋板的板面且遠(yuǎn)離所述第二腔室的方向移動(dòng)至擋板槽的一端； 通過氣壓控制組件降低所述第一腔室中的氣壓至第一預(yù)設(shè)氣壓； 對(duì)所述待灌注材料進(jìn)行脫泡處理； 將所述活動(dòng)擋板移動(dòng)至所述擋板槽的另一端； 通過所述氣壓控制組件降低所述第二腔室中的氣壓至所述第一預(yù)設(shè)氣壓； 沿平行于所述活動(dòng)擋板的板面的方向移動(dòng)所述活動(dòng)擋板，使所述第二腔室與所述第一腔室連通； 通過移動(dòng)組件使所述待灌注裝置的灌注口浸入所述灌注槽中的所述待灌注材料； 通過所述氣壓控制組件升高所述第一腔室中的氣壓，使所述灌注材料注入所述待灌注目.ο7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述通過氣壓控制組件降低所述第一腔室中的氣壓至第一預(yù)設(shè)氣壓，包括: 通過氣壓控制組件降低所述第一腔室中的氣壓至第一預(yù)設(shè)氣壓并封閉所述第一腔室持續(xù)第一預(yù)設(shè)時(shí)間段。8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述對(duì)所述待灌注材料進(jìn)行脫泡處理，包括: 通過所述氣壓控制組件升高并降低所述第二腔室中的氣壓預(yù)設(shè)次數(shù)以對(duì)所述待灌注材料進(jìn)行脫泡處理； 通過所述氣壓控制組件降低所述第二腔室中的氣壓至第二預(yù)設(shè)氣壓，所述第二預(yù)設(shè)氣壓大于所述第一預(yù)設(shè)氣壓。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述第二預(yù)設(shè)氣壓小于或等于一千帕。10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述通過所述氣壓控制組件升高所述第一腔室中的氣壓，包括: 通過所述氣壓控制組件向所述第一腔室中注入氮?dú)庖陨咚龅谝磺皇抑械臍鈮骸?1.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述將所述活動(dòng)擋板移動(dòng)至所述擋板槽的另一端，包括: 將所述活動(dòng)擋板移動(dòng)至所述擋板槽的另一端并封閉所述第二腔室持續(xù)第二預(yù)設(shè)時(shí)間段。12.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述將待灌注裝置放置在第一腔室中，將灌注槽放置在第二腔室中，包括: 將待灌注裝置放置在第一腔室中，將灌注槽放置在第二腔室中，且將所述待灌注裝置的灌注口與所述灌注槽在預(yù)設(shè)方向上對(duì)位。13.一種灌注系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)包括灌注裝置、待灌注裝置和灌注槽，所述灌注槽中存儲(chǔ)有待灌注材料， 所述灌注裝置包括:第一腔室、第二腔室、移動(dòng)組件和氣壓控制組件;所述第二腔室設(shè)置在所述第一腔室中； 所述待灌注裝置放置在所述第一腔室中，所述灌注槽放置在所述第二腔室中。
【文檔編號(hào)】G02F1/1341GK105929609SQ201610245254
【公開日】2016年9月7日
【申請(qǐng)日】2016年4月19日
【發(fā)明人】朱小研, 康昭, 田彪, 楊添
【申請(qǐng)人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司