物體處理裝置、曝光裝置及曝光方法、以及元件制造方法
【專利摘要】于基板(P)下方配置有對基板(P)下面噴出空氣的多個空氣懸浮單元(50)，并且基板(P)被以非接觸方式支承成大致水平。進一步地，基板(P)被定點載臺(40)從下方以非接觸方式保持被曝光部位，該被曝光部位的面位置被精確調整。是以，能以高精度對基板(P)進行曝光，且能使基板載臺裝置(PST)的構成簡單化。
【專利說明】物體處理裝置、曝光裝置及曝光方法、以及元件制造方法
[0001 ] 本專利申請是申請日為2010年8月17日、申請?zhí)枮?01080036901.6、發(fā)明名稱為“物體處理裝置、曝光裝置及曝光方法、以及元件制造方法”的中國專利申請的分案申請。
技術領域
[0002]本發(fā)明是關于一種物體處理裝置、曝光裝置及曝光方法、以及元件制造方法，更詳言之，是對平板狀物體進行既定的處理的物體處理裝置、以能量束使前述物體曝光的曝光裝置及曝光方法、以及使用前述物體處理裝置、前述曝光裝置及前述曝光方法的任一者的元件制造方法。
【背景技術】
[0003]以往，在制造液晶顯示元件、半導體元件(集成電路等)等電子元件(微型元件)的光刻過程中，主要使用步進重復方式的投影曝光裝置(所謂步進機)、或步進掃描方式的投影曝光裝置(所謂掃描步進機(亦稱掃描器))等。
[0004]在此種曝光裝置中，作為曝光對象物而于表面涂布有感光劑的玻璃板或晶圓等基板(以下總稱為基板)載置于基板載臺裝置上。之后，通過對形成有電路圖案的掩膜(或標線片)照射曝光用光，且將經(jīng)由該掩膜的曝光用光經(jīng)由投影透鏡等光學系統(tǒng)照射于基板，以將電路圖案轉印至基板上(參照例如專利文獻1(及對應的專利文獻2))。
[0005]近年來，曝光裝置的曝光對象物即基板、特別是液晶顯示元件用的基板(矩形玻璃基板)的尺寸例如為一邊三米以上等，有大型化的傾向，于是，曝光裝置的載臺裝置尺寸亦大型化，其重量亦增大。因此，被期望開發(fā)出一種載臺裝置，是能將曝光對象物(基板)高速且高精度地導引，進而可謀求小型化、輕量化的簡單構成。
[0006]引文列表
[0007]專利文獻
[0008][專利文獻I]PCT國際公開第2008/129762號
[0009][專利文獻2]美國發(fā)明專利申請公開第2010/0018950號說明書

【發(fā)明內容】

[0010]根據(jù)本發(fā)明的第I態(tài)樣，是提供一種物體處理裝置，是對平板狀物體進行既定處理，該平板狀物體是沿包含彼此正交的第I及第2軸的既定二維平面配置，該物體處理裝置具備:執(zhí)行裝置，是對前述物體一面?zhèn)鹊囊徊糠謪^(qū)域執(zhí)行既定動作；調整裝置，具有從前述物體下方以非接觸狀態(tài)保持前述物體中包含前述部分區(qū)域的部分的保持面，調整前述部分在與前述二維平面交叉的方向的位置；以及非接觸支承裝置，是使支承面對向于前述物體的被前述調整裝置保持的部分以外的其他區(qū)域，以從下方以非接觸方式支承前述物體。
[0011 ]根據(jù)上述，平板狀物體是被非接觸支承裝置從下方以非接觸方式支承。又，通過執(zhí)行裝置對物體的一部分進行既定動作，并且被進行該既定動作的部分是特別被調整裝置從下方以非接觸方式保持，而調整該部分在與二維平面交叉的方向的位置。因此，能精度良好地對物體進行既定處理。又，調整裝置由于僅精確調整物體中被進行既定動作的部分，因此與調整物體整體在與二維平面交叉的方向的位置的情形相較，能使裝置構成簡單化。
[0012]根據(jù)本發(fā)明的第2態(tài)樣，是提供一種曝光裝置，是照射能量束使物體曝光據(jù)以將既定圖案形成于前述物體上，其具備:定點載臺，其包含從前述物體下方以非接觸狀態(tài)保持前述物體的包含被照射前述能量束的一部分區(qū)域的部分的構件，以調整前述部分在與前述二維平面交叉的方向的位置，該物體是沿包含彼此正交的第I及第2軸的既定二維平面配置；以及非接觸支承裝置，是使支承面對向于前述物體的被前述保持面保持的部分以外的其他區(qū)域，以從下方以非接觸方式支承前述物體。
[0013]根據(jù)上述，平板狀物體是被非接觸支承裝置從下方以非接觸方式支承。又，物體中包含被照射前述能量束的一部分區(qū)域的部分特別被定點載臺從下方以非接觸方式保持，而調整該部分在與二維平面交叉的方向的位置。因此，能精度良好地使物體曝光。又，由于定點載臺僅精確調整物體中被照射能量束的部分，因此與調整物體整體在與二維平面交叉的方向的位置的情形相較，能使裝置構成簡單化。
[0014]根據(jù)本發(fā)明的第3態(tài)樣，是提供一種元件制造方法，其包含:使用本發(fā)明的物體處理裝置或曝光裝置使前述物體曝光的動作；以及使前述已曝光的物體顯影的動作。
[0015]此處，通過使用平面面板顯示器用的基板作為物體，而提供一種制造平面面板顯示器作為元件的制造方法。
[0016]根據(jù)本發(fā)明的第4態(tài)樣，是提供一種曝光方法，是照射能量束使物體曝光據(jù)以將既定圖案形成于前述物體上，其包含:通過在二維平面內的位置為固定的保持構件，從前述物體下方以非接觸狀態(tài)保持前述物體的包含被照射前述能量束的一部分區(qū)域的部分，以調整前述部分在與二維平面交叉的方向的位置的動作，該物體是沿包含彼此正交的第I及第2軸的既定二維平面配置；以及使一支承構件的支承面對向于前述物體的被前述保持構件保持的部分以外的其他區(qū)域，以從下方以非接觸方式支承前述物體的動作。
[0017]根據(jù)上述，物體是被支承構件從下方以非接觸方式支承。又，物體中包含被照射能量束的一部分區(qū)域的部分是特別被二維平面內的位置為固定的保持構件從下方以非接觸方式保持，而調整該部分在與二維平面交叉的方向的位置。因此，能精度良好地使物體曝光。又，保持構件僅精確調整物體中被照射能量束的部分。
[0018]根據(jù)本發(fā)明的第5態(tài)樣，是提供一種元件制造方法，其包含:使用本發(fā)明的曝光方法使前述物體曝光的動作；以及使前述已曝光的物體顯影的動作。
【附圖說明】
[0019]圖1是顯示第I實施形態(tài)的液晶曝光裝置的概略構成的圖。
[0020]圖2是圖1的液晶曝光裝置所具有的基板載臺裝置的俯視圖。
[0021]圖3是圖2的A—A線剖面圖。
[0022]圖4是圖2的基板載臺裝置所具有的定點載臺的剖面圖。
[0023]圖5(A)是放大顯示圖2的基板載臺裝置所具有的基板保持框的一部分的俯視圖，圖5(B)是圖5(A)的B—B線剖面圖。
[0024]圖6(A)?圖6(C)是用以說明對基板進行曝光處理時的基板載臺裝置的動作的圖。
[0025]圖7(A)是第2實施形態(tài)相關的基板載臺裝置的俯視圖，圖7(B)是圖7(A)的C一C線剖面圖。
[0026]圖8是第3實施形態(tài)相關的基板載臺裝置的俯視圖。
[0027]圖9是第4實施形態(tài)相關的基板載臺裝置的俯視圖。
[0028]圖10是圖9的D—D線剖面圖。
[0029]圖11是第5實施形態(tài)相關的基板載臺裝置的俯視圖。
[0030]圖12是圖11的E—E線剖面圖。
[0031 ]圖13是第6實施形態(tài)相關的基板載臺裝置的俯視圖。
[0032]圖14是第7實施形態(tài)相關的基板載臺裝置的俯視圖。
[0033]圖15是從+X側觀看圖14的基板載臺裝置的側視圖。
[0034]圖16是第8實施形態(tài)相關的基板載臺裝置的俯視圖。
[0035]圖17是顯示第9實施形態(tài)相關的基板檢查裝置的概略構成的圖。
【具體實施方式】
[0036]第丨實施形態(tài)
[0037]以下，根據(jù)圖1?圖6(C)說明本發(fā)明的第I實施形態(tài)。
[0038]圖1是顯示第I實施形態(tài)相關的平面面板顯示器、例如液晶顯示裝置(液晶面板)等的制造的液晶曝光裝置10的概略構成。液晶曝光裝置10是以用于液晶顯示裝置的顯示面板的矩形玻璃基板P(以下簡稱為基板P)為曝光對象物的步進掃描方式的投影曝光裝置、亦即所謂掃描器。
[0039]液晶曝光裝置10如圖1所示，具備照明系統(tǒng)Ι0Ρ、保持掩膜M的掩膜載臺MST、投影光學系統(tǒng)PL、搭載有上述掩膜載臺MST及投影光學系統(tǒng)PL等的機體BD、保持基板P的基板載臺裝置PST、以及此等的控制系統(tǒng)等。以下的說明中，將在曝光時掩膜M與基板P相對投影光學系統(tǒng)PL分別相對掃描的方向設為X軸方向、將在水平面內與X軸方向正交的方向設為Y軸方向、將與X軸及Y軸正交的方向設為Z軸方向，且將繞X軸、Y軸、及Z軸的旋轉(傾斜)方向分別設為0x、9y、及θζ方向。
[0040]照明系統(tǒng)1P與例如美國發(fā)明專利第6，552，775號說明書等所揭示的照明系統(tǒng)為類似構成。亦即，照明系統(tǒng)1P是將從未圖示的光源(例如水銀燈)射出的光分別經(jīng)由未圖示的反射鏡、分色鏡、快門、波長選擇過濾器、各種透鏡等，作為曝光用照明光(照明光)IL照射于掩膜Μ。照明光IL是使用例如i線(波長365nm)、g線(波長436nm)、11線(波長405nm)等的光(或者上述i線、g線、h線的合成光)。又，照明光IL的波長可通過波長選擇過濾器，依照例如被要求的解析度適當進行切換。
[0041]于掩膜載臺MST上，例如通過真空吸附(或靜電吸附)固定有掩膜M，該掩膜M是于其圖案面(圖1的下面)形成有電路圖案等。掩膜載臺MST可通過例如未圖示的空氣軸承以非接觸方式懸浮支承于固定于后述機體BD的一部分即鏡筒定盤31上面的一對掩膜載臺導件35上。掩膜載臺MST能通過包含例如線性馬達的掩膜載臺驅動系統(tǒng)(未圖示)在一對掩膜載臺導件35上以既定行程被驅動于掃描方向(X軸方向)，且分別適當微幅被驅動于Y軸方向及ΘΖ方向。掩膜載臺MST在XY平面內的位置信息(包含ΘΖ方向的旋轉信息)，是通過包含未圖示的激光干涉儀的掩膜干涉儀系統(tǒng)予以測量。
[0042]投影光學系統(tǒng)PL是在圖1的掩膜載臺MST下方支承于鏡筒定盤31。本實施形態(tài)的投影光學系統(tǒng)PL具有與例如美國發(fā)明專利第6，552，775號說明書所揭示的投影光學系統(tǒng)類似的構成。亦即，投影光學系統(tǒng)PL包含掩膜M的圖案像的既定形狀、例如梯形的投影區(qū)域配置成交錯格子狀的多個投影光學系統(tǒng)(多透鏡投影光學系統(tǒng))，是發(fā)揮與具有以Y軸方向為長邊方向的長方形的單一像場的投影光學系統(tǒng)同等的功能。本實施形態(tài)中的多個投影光學系統(tǒng)均使用例如以兩側遠心的等倍系統(tǒng)形成正立正像者。又，以下將投影光學系統(tǒng)PL的配置成交錯格子狀的多個投影區(qū)域總稱為曝光區(qū)域IA(參照圖2)。
[0043]因此，在以來自照明系統(tǒng)1P的照明光IL照明掩膜M上的照明區(qū)域后，通過通過投影光學系統(tǒng)PL的第I面(物體面)與圖案面大致配置成一致的掩膜M的照明光IL，使該照明區(qū)域內的掩膜M的電路圖案的投影像(部分正立像)經(jīng)由投影光學系統(tǒng)PL形成于照明光IL的照射區(qū)域(曝光區(qū)域IA);該區(qū)域IA是與配置于投影光學系統(tǒng)PL的第2面(像面)側、表面涂布有光刻膠(感應劑)的基板P上的照明區(qū)域共軛。接著，通過掩膜載臺MST與基板載臺裝置PST的同步驅動，使掩膜M相對照明區(qū)域(照明光IL)移動于掃描方向(X軸方向)，且使基板P相對曝光區(qū)域IA(照明光IL)移動于掃描方向(X軸方向)，藉此進行基板P上的一個照射區(qū)域(區(qū)劃區(qū)域)的掃描曝光，以將掩膜M的圖案(掩膜圖案)轉印于該照射區(qū)域。亦即，本實施形態(tài)中，是通過照明系統(tǒng)1P及投影光學系統(tǒng)PL將掩膜M的圖案生成于基板P上，并且通過照明光IL對基板P上的感應層(光刻膠層)的曝光將該圖案形成于基板P上。
[0044]機體BD是例如美國發(fā)明專利申請公開第2008/0030702號說明書等所揭示，具有前述鏡筒定盤31與在地面F上自下方分別支承鏡筒定盤31的+Y側、一 Y側端部的一對支承壁
32。一對支承壁32分別通過包含例如空氣彈簧的防振臺34支承于地面F上，機體BD是與地面F在振動上分離。又，于一對支承壁32彼此間架設有與Y軸平行延伸設置的剖面矩形(參照圖3)的構件所構成的Y柱33。于Y柱33下面與后述定盤12的上面之間形成有既定的空隙。亦即，Y柱33與定盤12彼此為非接觸，在振動上彼此分離。
[0045]基板載臺裝置PST具備:設置于地面F上的定盤12、在緊鄰曝光區(qū)域IA(參照圖2)下方以非接觸方式從下方支承基板P的定點載臺40(參照圖2)、設置于定盤12上的多個空氣懸浮單元50、保持基板P的基板保持框60、將基板保持框60驅動于X軸方向及Y軸方向(沿XY平面)的驅動單元70。
[0046]如圖2所示，定盤12是由在俯視下(從+Z側觀看)以X軸方向為長邊方向的矩形板狀構件構成。
[0047]定點載臺40配置于較定盤12上的中央略往一X側的位置。又，如圖4所示，定點載臺40具備搭載于Y柱33上的重量抵銷器42、支承于重量抵銷器42的夾具構件(空氣夾具單元)80、用以將空氣夾具單元80驅動于與XY平面交叉的方向的致動器(例如多個Z音圈馬達(以下簡稱為Z—VCM))等。
[0048]重量抵銷器42具備例如固定于Y柱33的盒體43、收容于盒體43內最下部的空氣彈簧44、支承于空氣彈簧44的Z滑件45。盒體43由+Z側開口的有底的筒狀的構件構成?？諝鈴椈?4具有通過橡膠是材料形成的中空構件所構成的伸縮囊44a、配置于伸縮囊44a上方(+Z側)及下方(一 Z側)的與XY平面平行的一對板體44b(例如金屬板)。伸縮囊44a內部是通過從未圖示的氣體供應裝置被供應氣體，而成為氣壓較外部高的正壓空間。重量抵銷器42以空氣彈簧44所產生的向上(+Z方向)的力抵銷基板P、空氣夾具單元80、Z滑件45等的重量(因重力加速度而產生的向下的(一 Z方向)的力)，藉以減低對多個Z—VCM的負荷。
[0049]Z滑件45是由下端部固定于板體44b(配置于空氣彈簧44的+Z側)的與Z軸平行延伸設置的柱狀構件構成。Z滑件45經(jīng)由多個平行板彈簧46連接于盒體43的內壁面。平行板彈簧46具有在上下方向分離配置的與XY平面平行的一對板彈簧。平行板彈簧46是在Z滑件45的+X側、一 X側、+Y側、一 Y側的例如共計四處連接Z滑件45與盒體43(在Z滑件45的+Y側及一Y側的平行板彈簧46的圖示省略KZ滑件45相對于盒體43的在與XY平面平行的方向的移動是被各平行板彈簧46的剛性(拉伸剛性)限制，但相對于此，在Z軸方向可通過各平行板彈簧46的可撓性，在Z軸方向相對盒體43以微幅行程移動。因此，Z滑件45通過伸縮囊44a內的氣體壓力被調整，而相對Y柱33上下移動。此外，作為產生用以抵銷基板P重量的向上的力的構件并不限于上述空氣彈簧(伸縮囊)，亦可是例如氣缸、線圈彈簧等。又，亦可使用例如軸承面與Z滑件的側面對向的非接觸推力軸承(例如空氣軸承等氣體靜壓軸承)等來作為限制Z滑件在XY平面內的位置的構件(參照PCT國際公開第2008/129762號(對應美國發(fā)明專利申請公開第2010/0018950號說明書))。
[0050]空氣夾具單元80是包含從基板P下面?zhèn)纫苑墙佑|方式吸附保持基板P的與曝光區(qū)域IA對應的部位(被曝光部位)的夾具本體81、以及從下方支承夾具本體81的底座82。夾具本體81的上面(+Z側的面)是具有在俯視下以Y軸方向為長邊方向的長方形(參照圖2)，其中心與曝光區(qū)域IA的中心大致一致。又，夾具本體81上面的面積設定成較曝光區(qū)域IA更廣，特別是在掃描方向即X軸方向的尺寸設定成較曝光區(qū)域IA在X軸方向的尺寸更長。
[0051]夾具本體81于其上面具有未圖示的多個氣體噴出孔，通過將從未圖示的氣體供應裝置供應的氣體、例如高壓空氣朝向基板P下面噴出，而將基板P懸浮支承。進而，夾具本體81于其上面具有未圖示的多個氣體吸引孔。于夾具本體81連接有未圖示的氣體吸引裝置(真空裝置)，該氣體吸引裝置是經(jīng)由夾具本體81的氣體吸引孔吸引夾具本體81上面與基板P下面間的氣體，并在夾具本體81與基板P之間產生負壓?？諝鈯A具單元80通過從夾具本體81噴出至基板P下面的氣體的壓力、以及吸引在夾具本體81與基板P下面之間的氣體時產生的負壓的平衡，以非接觸方式吸附保持基板P。如此，空氣夾具單元80對基板P施加所謂預負荷，因此能提高形成于夾具本體81與基板P間的氣體(空氣)膜的剛性，即使假設于基板P產生扭曲或翹曲，亦能將基板P中位于緊鄰投影光學系統(tǒng)PL下方的被曝光部位確實地沿夾具本體81的保持面加以矯正。但空氣夾具單元80由于并不限制基板P在該XY平面內的位置，因此即使基板P是被空氣夾具單元80吸附保持的狀態(tài)，亦可相對照明光IL(參照圖1)分別移動于X軸方向(掃描方向)及Y軸方向(步進方向)。
[0052]此處，如圖5(B)所示，本實施形態(tài)中，是將從夾具本體81上面噴出的氣體的流量或壓力及氣體吸引裝置所吸引的氣體的流量或壓力，設定成使得夾具本體81的上面(基板保持面)與基板P下面間的距離Da(空隙)成為例如0.02mm程度。此外，氣體噴出孔及氣體吸引孔可為通過機械加工而形成者，亦可以多孔質材料形成夾具本體81并使用其孔部作為氣體噴出孔及氣體吸引孔。此種空氣夾具單元(真空預負荷空氣軸承)的構成、功能的詳細內容揭示于例如PCT國際公開第2008/121561號等。
[0053]返回圖4，于底座82的下面中央固定有具半球面狀軸承面的氣體靜壓軸承、例如球面空氣軸承83。球面空氣軸承83嵌合于在Z滑件45的+Z側端面(上面)形成的半球狀凹部45a。藉此，空氣夾具單元80于Z滑件45被支承成可相對XY平面擺動自如(于θχ及0y方向旋轉自如)。此外，作為將空氣夾具單元80支承成相對XY平面擺動自如的構造，可是例如PCT國際公開第2008/129762(對應美國發(fā)明專利申請公開第2010/0018950號說明書)所揭示的使用了多個空氣墊(空氣軸承)的擬似球面軸承構造，亦可使用彈性鉸鏈裝置。
[0054]多個本實施形態(tài)中為四個的Z—VCM分別于重量抵銷器42的+X側、一 X側、+Y側、一 Y側各設有一個(-Y側的Z — VCM參照圖3，+Y側的Z — VCM的圖示則省略)。四個Z — VCM雖其設置位置不同但具有相同構成及功能。四個Z — VCM均包含固定在設于定盤12上的底座框85的Z固定件47與固定于空氣夾具單元80的底座82的Z可動件48。
[0055]底座框85包含俯視下形成為圓環(huán)狀的板狀構件所構成的本體部85a與在定盤12上自下方支承本體部85a的多個腳部85b。本體部85a配置于Y柱33上方，并且于形成于其中央部的開口部內插入有重量抵銷器42。因此，本體部85a與Y柱33及重量抵銷器42分別為非接觸的。多支(三支以上)腳部85b分別由與Z軸平行延伸設置的構件構成，腳部85b的+Z側端部連接于本體部85a，一Z側端部固定于定盤12。多支腳部85b分別插入于在Y柱中與多支腳部85b分別對應而形成的貫通于Z軸方向的多個貫通孔33a，并且多支腳部85b與Y柱33為非接觸的。
[0056]Z可動件48是由剖面倒U字形的構件構成，于一對對向面分別具有包含磁石的磁石單元49。另一方面，Z固定件47具有包含線圈的線圈單元(圖示省略)，該線圈單元插入于一對磁石單元49間。供應至Z固定件47的線圈的電流的大小、方向等受到未圖示的主控制裝置控制，在對線圈單元的線圈供應電流后，通過因線圈單元與磁石單元的電磁相互作用而產生的電磁力(勞倫茲力)，將Z可動件48(亦即空氣夾具單元80)相對Z固定件47(亦即底座框85)驅動于Z軸方向。未圖示的主控制裝置是通過同步控制四個Z — VCM，將空氣夾具單元80驅動于Z軸方向(使其上下移動)。又，主控制裝置是通過適當控制分別對四個Z固定件47所具有的線圈供應的電流大小、方向等，而使空氣夾具單元80相對XY平面擺動于任意方向(驅動于θχ方向、9y方向)。定點載臺40是藉此動作來調整基板P的被曝光部位在Z軸方向的位置、以及在9x、0y方向的位置的至少一個位置。此外，本實施形態(tài)的X軸VCM、Y軸VCM、以及Z軸VCM雖均是可動件具有磁石單元的動磁式音圈馬達，但并不欲限于此，亦可以是可動件具有線圈單元的動圈式音圈馬達。又，驅動方式亦可以是勞倫茲力驅動方式以外的驅動方式。
[0057]此處，由于四個Z —VCM各自的Z固定件47搭載于底座框85上，因此使用四個Z—VCM將空氣夾具單元80驅動于Z軸方向、或θχ方向、0y方向時作用于Z固定件47的驅動力的反作用力不會傳達至Y柱33。因此，即使使用Z — VCM驅動空氣夾具單元80，亦不會對重量抵銷器42的動作有任何影響。又，由于驅動力的反作用力亦不會傳達至具有Y柱33的機體BD，因此即使使用Z — VCM驅動空氣夾具單元80，其驅動力的反作用力亦不會影響投影光學系統(tǒng)PL等。此外，由于Z—VCM只要能使空氣夾具單元80沿Z軸方向上下移動及使其相對XY平面擺動于任意的方向即可，因此只要設于例如不在同一直線上的三處，三個Z—VCM 38亦可。
[0058]被Z— VCM驅動的空氣夾具單元80的位置信息是使用多個、在本實施形態(tài)中例如四個Z感測器86加以求出。Z感測器86是與四個Z—VCM對應地于重量抵銷器42的+X側、一 X側、+Y側、一Y側分別各設有一個(+Y側、一Y側的Z感測器的圖示省略)。藉此，本實施形態(tài)中，通過使被Z - VCM驅動的被驅動物(此處指空氣夾具單元80)上的Z—VCM的驅動點(驅動力的作用點)與Z感測器86的測量點彼此接近，提高測量點與驅動點之間的被驅動物的剛性，以提高Z感測器86的可控制性。亦即，由Z感測器86輸出與被驅動物的驅動距離對應的正確的測量值，以謀求定位時間的縮短。若從提高可控制性的觀點來看，最好是Z感測器86的取樣周期亦較短。
[0059]四個Z感測器86均為實質相同的感測器。Z感測器86是與固定于空氣夾具單元80的底座82下面的目標物87—起構成求出以Y柱33為基準的空氣夾具單元80在Z軸方向的位置信息的例如電容式(或渦電流式)位置感測器。未圖示的主控制裝置是根據(jù)四個Z感測器86的輸出持續(xù)求出空氣夾具單元80在Z軸方向及ΘΧ、ΘΥ各方向的位置信息，并根據(jù)其測量值適當控制四個Z — VCM，藉此控制空氣夾具單元80上面的位置。此處，空氣夾具單元80的最終位置是控制成通過接近空氣夾具單元80上空的基板P的曝光面(例如作為上面的光刻膠表面)持續(xù)與投影光學系統(tǒng)PL的焦點位置實質上一致(亦即是在投影光學系統(tǒng)PL的焦深內)。未圖示的主控制裝置是一邊通過未圖示的面位置測量系統(tǒng)(自動聚焦裝置)監(jiān)測基板P上面的位置(面位置)，一邊使用可控制性高的Z感測器86的位置信息來驅動并且控制空氣夾具單元80以使該基板P的上面持續(xù)位于投影光學系統(tǒng)PL的焦深內(使投影光學系統(tǒng)PL持續(xù)與基板P的上面對焦)。此處的面位置測量系統(tǒng)(自動聚焦裝置)具有在曝光區(qū)域IA內Y軸方向的位置為不同的多個測量點。例如，于各投影區(qū)域內配置有至少一個測量點。此情形下，該多個測量點是依據(jù)多個投影區(qū)域的交錯格子狀配置在X軸方向分開的兩列。是以，可根據(jù)該多個測量點的測量值(面位置)求出曝光區(qū)域IA部分的基板P表面的Z位置，進而可求出基板P的縱搖量(9y旋轉)及橫搖量(ΘΧ旋轉)。又，面位置測量系統(tǒng)亦可與該多個測量點分別地、或進一步地于曝光區(qū)域IA的Y軸方向(非掃描方向)外側具有測量點。此時，通過使用包含該外側的測量點的位于Y軸方向最外側的兩個測量點的測量值，而能更正確地求出橫搖量(θχ旋轉)。又，面位置測量系統(tǒng)亦可于曝光區(qū)域IA外側于X軸方向(掃描方向)稍微分離的位置具有其他測量點。此情形下，可進行基板P的聚焦/調平的所謂的先讀取控制。除此之外，面位置測量系統(tǒng)亦可取代在各投影區(qū)域內至少配置有一個的多個測量點或進一步地在自曝光區(qū)域IA往X軸方向(掃描方向)分離的位置具有排列于Y軸方向的多個測量點(其配置區(qū)域與曝光區(qū)域IA在Y軸方向的位置對應)。此情形下，可在曝光開始前，例如對準測量時，進行事前取得基板P的面位置分布的焦點制圖。在曝光時，使用以該焦點制圖取得的信息進行基板P的聚焦/調平控制。關于基板的焦點制圖及使用焦點制圖信息的曝光時的基板的聚焦調平控制，已詳細揭示于例如美國發(fā)明專利申請公開第2008/0088843號說明書等。
[0000]此外，Z感測器只要能求出空氣夾具單元80在Z軸方向及θχ、θγ各方向的位置信息即可，因此只要設于例如不在同一直線上的三處，三個Z感測器亦可。
[0061]多個空氣懸浮單元50(本實施形態(tài)中例如為三十四臺)是通過從下方以非接觸方式將基板P(在此例中，是前述定點載臺40所保持的基板P的被曝光部位以外的區(qū)域)支承成基板P維持與水平面大致平行，藉此防止來自外部的振動傳達至基板P，或防止基板P因其自身重量而變形(彎曲)及裂開，或抑制因基板P的自身重量而往Z軸方向彎曲所導致產生的基板P在X及Y各方向的尺寸誤差(或XY平面內的位置偏移)的產生。
[0062]多個空氣懸浮單元50，除了其配置位置不同以外，為實質相同的空氣懸浮單元。本實施形態(tài)中，如圖2所示于定點載臺40的+Y側及一Y側配置例如各一臺空氣懸浮單元50，并且于定點載臺40的+X側及一 X側，沿Y軸方向等間隔排列的例如八臺空氣懸浮單元50所構成的空氣懸浮單元列，是沿X軸方向相隔既定間隔配置有各兩列。亦即，多個空氣懸浮單元50配置成包圍定點載臺40周圍。以下，為了使說明方便，將四列空氣懸浮單元列自一X側依序稱為第I?第4列，且將構成各空氣懸浮單元列的八臺空氣懸浮單元自一Y側依序稱為第I?笛Q A
弟8 口 ο
[0063]各空氣懸浮單元50，如圖3所示，例如包含對基板P下面噴出氣體(例如空氣)的本體部51、從下方支承本體部51的支承部52、以及在定盤12上自下方支承支承部52的一對腳部53。本體部51由長方體狀構件構成，于其上面(+Z側的面)具有多個氣體噴出孔。本體部51是通過朝向基板P下面噴出氣體(空氣)而懸浮支承基板P，在基板P沿XY平面移動時導引其移動。多個空氣懸浮單元50各自的上面是位于同一 XY平面上。此外，可構成為空氣懸浮單元自設于外部的未圖示氣體供應裝置被供應氣體，空氣懸浮單元本身亦可具有例如風扇等送風裝置。本實施形態(tài)中，如圖5(B)所示，是將從本體部51噴出的氣體壓力及流量，設定成本體部51的上面(空氣噴出面)與基板P下面間的距離Db(空隙)成為例如0.8mm左右。此外，氣體噴出孔可通過機械加工而形成，或亦可將本體部以多孔質材料形成，并使用其孔部作為氣體噴出孔。
[0064]支承部52是由俯視為長方形的板狀構件構成，其下面支承于一對腳部53。此外，分別配置于定點載臺40的+Y側、一 Y側的一對(兩臺)空氣懸浮單元50的腳部構成為不接觸于Y柱33(例如腳部形成為倒U字形，橫跨Y柱33而配置)。此外，多個空氣懸浮單元的數(shù)量及其配置不限于上述說明所例示者，亦可因應例如基板P的大小、形狀、重量、可移動范圍、或空氣懸浮單元的能力等來適當變更。又，各空氣懸浮單元的支承面(氣體噴出面)的形狀、相鄰的空氣懸浮單元間之間隔等亦無特別限定。扼要言之，空氣懸浮單元只要配置成能涵蓋基板P的整體可移動范圍(或略廣于可移動范圍的區(qū)域)即可。
[0065]基板保持框60如圖2所示，具有在俯視下以X軸方向為長邊方向的矩形外形形狀(輪廓)，形成為于中央部具有貫通于Z軸方向的俯視呈矩形的開口部的厚度方向尺寸較小(薄)框狀?；灞３挚?0在Y軸方向相隔既定間隔具有一對以X軸方向為長邊方向的與XY平面平行的平板狀構件即X框構件61x，并且該對X框構件61x在+X側、一 X側端部分別通過以Y軸方向為長邊方向的與XY平面平行的平板狀構件即Y框構件61y連接。從剛性的確保及輕量化的觀點來看一對X框構件61x及一對Y框構件61y，均通過例如GFRP(Glass FiberReinforced Plastics，玻璃纖維強化塑膠)等纖維強化合成樹脂材料或陶瓷等形成較佳。
[0066]于一Y側的X框構件61x上面固定有于一 Y側的面具有與Y軸正交的反射面的Y移動鏡62y。又，于一 X側的Y框構件61y上面固定有于一 X側的面具有與X軸正交的反射面的X移動鏡62x?；灞３挚?0(亦即基板P)在XY平面內的位置信息(包含ΘΖ方向的旋轉信息)，是通過包含對X移動鏡62χ的反射面照射測距光束的多臺(例如兩臺)的X激光干涉儀63χ及對Y移動鏡62y的反射面照射測距光束的多臺(例如兩臺)的Y激光干涉儀63y的激光干涉儀系統(tǒng)，以例如0.25nm程度的解析能力持續(xù)檢測d激光干涉儀63x、Y激光干涉儀63y分別通過既定的固定構件64x，64y固定于機體BD(圖3中未圖示，參照圖1)。此外，X激光干涉儀63x、Y激光干涉儀63y，其臺數(shù)及間隔是被設定成分別在基板保持框60的可移動范圍內來自至少一個干涉儀的測距光束可照射于對應的移動鏡。是以，各干涉儀的臺數(shù)并不限定于兩臺，可視基板保持框的移動行程而是例如僅一臺或三臺以上。又，在使用多個測距光束時，可設置多個光學系統(tǒng)，并且光源或控制單元亦可在多個測距光束間共用。
[0067]基板保持框60具有從下方真空吸附保持基板P端部(外周緣部)的多個例如四個保持單元65。四個保持單元65是在一對X框構件61x各自彼此對向的對向面在X軸方向分離安裝有各兩個。此外，保持單元的數(shù)目及配置并不限于此，亦可按照基板大小、易彎曲程度等來適當追加額外的保持單元。又，保持單元65亦可安裝于Y框構件。
[0068]由圖5(A)及圖5(B)可知，保持單元65具有形成為YZ剖面L字形的臂部66。于臂部66的基板載置面，設有用以通過例如真空吸附來吸附基板P的吸附墊67。又，于臂部66的上端部設有接頭構件68，該接頭構件68連接至管(圖示省略)的一端，管的另一端連接于未圖示的真空裝置。吸附墊67與接頭構件68是經(jīng)由設于臂部66內部的配管構件而彼此連通。于臂部66與X框構件61x的彼此對向的對向面，分別形成有突出成凸狀的凸狀部69a，在該彼此對向的一對凸狀部69a之間，通過多個螺栓69b架設有在Z軸方向分離的一對與XY平面平行的板彈簧69。亦即，臂部66與X框構件61x是通過平行板彈簧而連接。是以，臂部66相對X框構件61x在X軸方向及Y軸方向通過板彈簧69的剛性而限制其位置，相對于此，在Z軸方向(垂直方向)上則能通過板彈簧69的彈性以不旋轉于θχ方向的方式位移(上下移動)于Z軸方向。
[0069]此處，臂部66的下端面(一 Z側端面)是較一對X框構件61χ及一對Y框構件61y各自的下端面(一Z側端面)更往一Z側突出。其中，臂部66的基板載置面的厚度T，設定為較空氣懸浮單元50的氣體噴出面與基板P的下面間的距離Dp(本實施形態(tài)中例如為0.8mm左右)薄(例如設定為0.5mm左右)。因此，在臂部66的基板載置面的下面與多個空氣懸浮單元50的上面之間形成有例如0.3mm左右的空隙，在基板保持框60與XY平面平行移動于多個空氣懸浮單元50上時，臂部66與空氣懸浮單元50彼此不接觸。此外，如圖6(A)?圖6(C)所示，在基板P的曝光動作中，臂部66由于不通過定點載臺40的上方，因此臂部66與空氣夾具單元80亦不會彼此接觸。此外，臂部66的基板載置面部是如上述厚度較薄，因此在Z軸方向的剛性較低，但由于能擴大抵接于基板P的部分(與XY平面平行的平面部)的面積，因此能使吸附墊大型化，提升基板的吸附力。又，能確保臂部本體在與XY平面平行的方向的剛性。
[0070]驅動單元70如圖3所示，具有固定于定盤12上的X導件71、搭載于X導件71且可在X導件71上移動于X軸方向的X可動部72、搭載于X可動部72的Y導件73、以及搭載于Y導件73且可在Y導件73上移動于Y軸方向的Y可動部74。如圖2所示，基板保持框60的+X側的Y框構件61y固定于Y可動部74。
[0071]X導件71如圖2所示，配置于定點載臺40的一 X側且是在分別構成第三及第四列的空氣懸浮單元列的第四臺空氣懸浮單元50與第五臺空氣懸浮單元50之間。又，X導件71較第4列的空氣懸浮單元列更往+X側延伸。此外，圖3中為避免圖式過于復雜，省略空氣懸浮單元50的圖示的一部分。X導件71具有以X軸方向為長邊方向的與XZ平面平行的板狀構件所構成的本體部71a、以及在定盤12上支承本體部71a的多個例如三個支承臺71b(參照圖1)。本體部71a的Z軸方向的位置設定成其上面位于多個空氣懸浮單元50各自的支承部52下方。
[0072]于本體部71a的+Y側側面、一Y側側面、以及上面(+Z側的面)如圖1所示分別固定有與X軸平行延伸設置的X線性導件75。又，在本體部71a的+Y側、一 Y側各自的側面固定有磁石單元76，該磁石單元76包含沿X軸方向排列的多個磁石(參照圖3)。
[0073]X可動部72如圖1所示，由YZ剖面為倒U字形的構件構成，前述X導件71插入于該構件的一對對向面間。于X可動部72的內側面(頂面及彼此對向的一對對向面)分別固定有形成為剖面U字形的滑件77?；?7具有未圖示的滾動體(例如球體、滾子等)，以相對X線性導件75可滑動的狀態(tài)卡合(嵌合)于X線性導件75。又，于X可動部72的一對對向面分別固定有與固定在X導件71的磁石單元76對向的包含線圈的線圈單元7 8 ο 一對線圈單元7 8是構成通過與一對磁石單元76的電磁相互作用將X可動部72在X導件71上驅動于X軸方向的電磁力驅動方式的X線性馬達。供應至線圈單元78的線圈的電流大小、方向是受未圖示的主控制裝置控制。X可動部72在X軸方向的位置信息是通過未圖示的線性編碼器系統(tǒng)或光干涉儀系統(tǒng)高精度地測量。
[0074]于X可動部72的上面固定有與Z軸平行的軸79的一端(下端)。軸79如圖1所示，是通過構成第四列的空氣懸浮單元列的第四臺與第五臺空氣懸浮單元50之間而較各空氣懸浮單元50上面(氣體噴出面)更往+Z側延伸。軸79的另一端(上端)固定于Y導件73的下面中央(參照圖3)。因此，Y導件73配置于空氣懸浮單元50上面的上方。Y導件73是由以Y軸方向為長邊方向的板狀構件構成，于其內部具有未圖示的磁石單元，該磁石單元包含沿Y軸方向排列的多個磁石。此處，由于Y導件73配置于多個空氣懸浮單元50上方，因此其下面是被空氣懸浮單元50所噴出的空氣支承，藉此，可防止Y導件73因例如其Y軸方向兩端部的自身重量而下垂。因此，不需確保用以防止上述下垂的剛性，可謀求Y導件73的輕量化。
[0075]Y可動部74如圖3所示，是由在內部具有空間的高度方向尺寸較小(薄)的箱形構件構成，于其下面形成有容許軸79通過的開口部，又，Y可動部74于+Y側及一 Y側側面亦具有開口部，Y導件73經(jīng)由該開口部插入于Y可動部74內。又，Y可動部74，在對向于Y導件73的對向面具有未圖示的非接觸推力軸承、例如空氣軸承，并且可以非接觸狀態(tài)在Y導件73上移動于Y軸方向。由于保持基板P的基板保持框60固定于Y可動部74，因此對前述定點載臺40及多個空氣懸浮單元50分別為非接觸狀態(tài)。
[0076]再者，Y可動部74于其內部具有包含線圈的線圈單元(圖示省略)。該線圈單元是構成通過與Y導件73所具有的磁石單元的電磁相互作用將Y可動部74在Y導件73上驅動于Y軸方向的電磁力驅動方式的Y線性馬達。供應至線圈單元的線圈的電流大小、方向是受未圖示的主控制裝置控制。Y可動部74在Y軸方向的位置信息是通過未圖示的線性編碼器系統(tǒng)或光干涉儀系統(tǒng)高精度地測量。此外，上述X線性馬達、Y線性馬達可以是動磁式及動圈式的任一者，其驅動方式亦不限于勞倫茲力驅動方式，亦可以是可變磁阻驅動方式等其他方式。又，作為將上述X可動部驅動于X軸方向的驅動裝置、以及將上述Y可動部驅動于Y軸方向的驅動裝置，可視例如被要求的基板的定位精度、產能、基板的移動行程等，使用例如包含滾珠螺桿或齒條與小齒輪等的單軸驅動裝置，亦可使用采用例如金屬線或皮帶等牽引X可動部、Y可動部而將的分別驅動于X軸方向3軸方向的裝置。
[0077]除此之外，液晶曝光裝置10亦具有用以測量位于緊鄰投影光學系統(tǒng)PL下方的基板P表面(上面)的面位置信息(Z軸、ΘΧ、ΘΥ的各方向的位置信息)的面位置測量系統(tǒng)(圖示省略)。可使用例如美國發(fā)明專利第5，448，332號說明書等所揭示的斜入射方式者作為面位置測量系統(tǒng)。
[0078]如上述構成的液晶曝光裝置10(參照圖1)，是在未圖示的主控制裝置的控制下，通過未圖示的掩膜裝載器將掩膜M裝載于掩膜載臺MST，以及通過未圖示的基板裝載器將基板P裝載于基板載臺裝置PST。其后，通過主控制裝置使用未圖示的對準檢測系統(tǒng)進行對準測量，在對準測量結束后，即進行步進掃描方式的曝光動作。
[0079]圖6(A)?圖6(C)是顯示上述曝光動作時的基板載臺裝置PST的動作的一例。此外，以下是說明分別于基板P的+Y側、一 Y側區(qū)域各設定一個以X軸方向為長邊方向的矩形照射區(qū)域、即所謂單一基板雙顯示器的情形。如圖6(A)所示，曝光動作是從基板P的一 Y側且一 X側的區(qū)域朝向基板P的一 Y側且+X側的區(qū)域進行。此時，通過驅動單元70的X可動部72(參照圖1等)在X導件71上被驅動往一X方向，而將基板P相對曝光區(qū)域IA往一X方向(參照圖6(A)的黑箭頭)驅動，而對基板P的一 Y側區(qū)域進行掃描動作(曝光動作)。其次，基板載臺裝置PST是如圖6(B)所示，通過驅動單元70的Y可動部74在Y導件73上被驅動往一Y方向(參照圖6(B)的白箭頭)，以進行步進動作。此后，如圖6(C)所示，通過驅動單元70的X可動部72(參照圖1等)在X導件71上被往+X方向驅動，而將基板P相對曝光區(qū)域IA往+X方向(參照圖6(C)的黑箭頭)驅動，而對基板P的+Y側區(qū)域進行掃描動作(曝光動作)。
[0080]主控制裝置在進行如圖6(A)?圖6(C)所示的步進掃描方式的曝光動作中，是使用干涉儀系統(tǒng)及面位置測量系統(tǒng)持續(xù)測量基板P在XY平面內的位置信息及基板P表面的被曝光部位的面位置信息，根據(jù)其測量值適當控制四個Z—VCM，以調整(定位)成使基板P中被定點載臺40保持的部分、亦即使位于緊鄰投影光學系統(tǒng)PL下方的被曝光部位的面位置(Z軸方向、θχ及0y各方向的位置)位于投影光學系統(tǒng)PL的焦深內。藉此，本實施形態(tài)的液晶曝光裝置10所具有的基板載臺裝置PST中，即使例如假設于基板P表面產生起伏或基板P產生厚度的誤差，亦可確實地使基板P的被曝光部位的面位置位于投影光學系統(tǒng)PL的焦深內，而能使曝光精度提升。
[0081]又，在通過定點載臺40調整基板P的面位置時，基板保持框60的臂部66是追隨基板P的動作(往Z軸方向的移動或傾斜動作)而位移于Z軸方向。藉此，防止基板P的破損、或臂部66與基板P的偏移(吸附誤差)等。此外，多個空氣懸浮單元50由于能較空氣夾具單元80使基板P更高地懸浮，因此在該基板P與多個空氣懸浮單元50間的空氣剛性是較空氣夾具單元80與基板P間的空氣剛性低。是以，基板P可容易地在多個空氣懸浮單元50上變化其姿勢。又，由于固定有基板保持框60的Y可動部74是以非接觸方式支承于Y導件73，因此在基板P的姿勢變化量大、臂部66無法追隨基板P時，能通過基板保持框60本身的姿勢的變化，避免上述吸附誤差等。此外，亦可作成使X導件73與X可動部72的連結部剛性較低而使Y導件73整體的姿勢與基板保持框60—起變化的構成。
[0082]又，基板載臺裝置PST中，被多個空氣懸浮單元50懸浮支承成大致水平的基板P是被基板保持框60保持。又，基板載臺裝置PST中，是通過驅動單元70驅動基板保持框60，藉以使基板P沿水平面(XY二維平面)被導引，且基板P中被曝光部位(曝光區(qū)域IA內的基板P的一部分)的面位置是被定點載臺40精確控制。如上述，由于基板載臺裝置PST中，將基板P沿XY平面導引的裝置即驅動單元70(XY載臺裝置)、與將基板P保持成大致水平且進行Z軸方向的定位的裝置即多個空氣懸浮單元50、以及定點載臺40(Ζ/調平載臺裝置)是彼此獨立的不同裝置，因此與在XY 二維載臺裝置上將臺構件(基板保持具)(用以將基板P以良好平面度保持，具有與基板P大致相同程度的面積)分別驅動于Z軸方向及傾斜方向(Ζ/調平載臺亦與基板同時地被XY 二維驅動)的現(xiàn)有載臺裝置(參照例如PCT國際公開第2008/129762號(對應美國發(fā)明專利申請公開第2010/0018950號說明書))相較，可大幅減低其重量(特別是可動部分的重量)。具體而言，例如使用一邊超過3m的大型基板時，相較于現(xiàn)有的載臺裝置中可動部分的總重量為接近10t，本實施形態(tài)中的基板載臺裝置PST能使可動部分(基板保持框60、X可動部72、Y導件73、以及Y可動部74等)的總重量降為數(shù)百kg程度。因此，例如用以驅動X可動部72的X線性馬達、用以驅動Y可動部74的Y線性馬達可分別為輸出較小者，而能減低運轉成本。又，電源設備等的基礎整備亦較為容易設置。又，由于線性馬達的輸出較小即可，因此能減低初期成本。
[0083]又，驅動單元70中，由于保持基板保持框60的Y可動部74以非接觸方式被支承于Y導件73，而將基板P沿XY平面導引，因此幾乎沒有從設置于地面F上的定盤12側經(jīng)由空氣軸承傳達的Z軸方向的振動(干擾)對基板保持框60的控制帶來不良影響之虞。因此，基板P的姿勢穩(wěn)定，曝光精度提升。
[0084]又，由于驅動單元70的Y可動部74以非接觸狀態(tài)被支承于Y導件73而可防止產生灰塵，因此縱使Y導件73及Y可動部74配置于較多個空氣懸浮單元50的上面(氣體噴出面)更上方，亦不會對基板P的曝光處理帶來影響。另一方面，X導件71及X可動部72配置于較空氣懸浮單元50更下方，因此即使假設產生灰塵，對曝光處理帶來影響的可能性亦低。但，亦可使用例如空氣軸承等將X可動部72相對X導件71以非接觸狀態(tài)支承成可移動于X軸方向。
[0085]又，定點載臺40的重量抵銷器42及空氣夾具單元80，由于是搭載于與定盤12在振動上分離的Y柱33上，因此例如使用驅動單元70驅動基板保持框60(基板P)時產生的驅動力的反作用力或振動等不會傳達至重量抵銷器42及空氣夾具單元80。因此，能以高精度進行使用Z —VCM的空氣夾具單元80的位置(亦即基板P的被曝光部位的面位置)控制。又，驅動空氣夾具單元80的四個Z — VCM，由于是Z固定件47固定于與Y柱33成非接觸的底座框85，因此驅動空氣夾具單元80時的驅動力的反作用力不會傳至重量抵銷器42。是以，能以高精度控制空氣夾具單元80的位置。
[0086]又，由于通過使用了移動鏡62x及62y (固定于基板保持框60，亦即接近最終定位控制的對象物即基板P而配置)的干涉儀系統(tǒng)來測量基板保持框60的位置信息，因此能將控制對象(基板P)與測量點間的剛性維持得較高。亦即，由于能將應該知道最終位置的基板與測量點視為一體，因此可提升測量精度。又，由于直接測量基板保持框60的位置信息，因此即使假設于X可動部72及Y可動部74產生直線運動誤差，測量結果亦不易受其影響。
[0087]又，由于空氣夾具單元80的本體部81上面(基板保持面)在X軸方向的尺寸設定得較曝光區(qū)域IA在X軸方向的尺寸長，因此在基板P的被曝光部位(曝光預定部位)較曝光區(qū)域IA位于基板P移動方向的上游側的狀態(tài)、特別是掃描曝光開始前一刻，能在使基板P等速移動前的加速階段，預先調整該基板P的被曝光部位的面位置。是以，能從曝光開始確實地使基板P的被曝光部位的面位置位于投影光學系統(tǒng)PL的焦深內，而能提升曝光精度。
[0088]又，在基板載臺裝置PST中，由于是作成多個空氣懸浮單元50、定點載臺40、驅動單元70以平面排列配置于定盤12上的構成，因此組裝、調整、維護等均容易進行。又，由于構件的數(shù)目較少且各構件為輕量，因此輸送亦為容易。
[0089]此外，例如當基板P的+X側或一X側端部通過定點載臺40上方時等，是基板P僅重疊于空氣夾具單元80的一部分的狀態(tài)(空氣夾具單元80未完全被基板P覆蓋的狀態(tài))。此種情況下，由于作用于空氣夾具單元80上面的基板P的載重變小，因此失去空氣的平衡而空氣夾具單元80使基板P懸浮的力變弱，空氣夾具單元80與基板P的距離Da(參照圖5(B))變得較所欲的值(例如0.02_)小。此種情況下，主控制裝置是視基板P的位置(視基板P與保持面重疊的面積)將空氣夾具單元80與基板P下面間的空氣壓力及/或空氣流量(本體部81所噴出及吸引的空氣的壓力及/或流量)控制成空氣夾具單元80的上面與基板P的下面的距離Da隨時維持一定的所欲值。視基板P的位置將空氣壓力及/或流量設定為何種程度，較佳是預先通過實驗求出。又，可先沿X軸方向將空氣夾具單元80的上面分割成多個區(qū)域，并使依各區(qū)域被噴出及吸引的空氣流量、壓力設為可控制。又，亦可視基板P與空氣夾具單元80的位置關系(基板P與保持面重疊的面積)使空氣夾具單元80上下動，藉此適當調整空氣夾具單元80的上面與基板P的下面的距離。
[0090]第2實施形態(tài)
[0091]其次說明第2實施形態(tài)的液晶曝光裝置。由于本第2實施形態(tài)的液晶曝光裝置具有除了保持基板P的基板載臺裝置的構成不同這點以外，其余則與前述第I實施形態(tài)的液晶曝光裝置10類似的構成，因此以下僅說明基板載臺裝置的構成。此處，為了避免重復說明，對具有與上述第I實施形態(tài)同等功能的構件，賦予與上述第I實施形態(tài)相同的符號，省略其說明。
[0092]如圖7(A)所示，與第2實施形態(tài)相關的基板載臺裝置PST2中，基板保持框260的構成與第I實施形態(tài)不同。以下說明相異點?；灞３挚?60與第I實施形態(tài)類似地形成為包圍基板P的矩形框狀，具有一對X框構件261x與一對Y框構件261y。此外，圖7(A)中是省略了 X移動鏡及Y移動鏡的圖示(分別參照圖2)。
[0093]第I實施形態(tài)的基板保持框60(參照圖5(A))是通過剖面L字形的臂部從下方吸附來保持基板P，相較于此，第2實施形態(tài)的基板保持框260中，是由通過壓縮線圈彈簧263安裝于一X側的Y框構件261y的一對按壓構件264、以及通過壓縮線圈彈簧263安裝于+Y側的X框構件261x的一個按壓構件264，分別將基板P(通過使平行于XY平面的按壓力作用于基板P)按壓于固定在+X側的Y框構件26 Iy的一對基準構件266及固定在一 Y側的X框構件26 Ix的一個基準構件266而加以保持。是以，與第I實施形態(tài)不同，基板P是收容于框狀構件即基板保持框260的開口內(參照圖7(B))?；錚如圖7(B)所示，其下面配置于與基板保持框260下面大致同一平面上。此外，按壓構件及基準構件的數(shù)目，可視例如基板的大小等適當變更。又，按壓基板的按壓構件不限于壓縮線圈彈簧，亦可是例如汽缸或使用馬達的滑動單元。
[0094]又，與第2實施形態(tài)相關的基板載臺裝置PST2中，如圖7(B)所示，在通過軸79固定于X可動部72的平板狀構件即Y導件273上面，固定有在X軸方向相隔既定間隔配置的一對Y線性導件90。又，在一對Y線性導件90之間固定有包含沿Y軸方向排列的多個磁石的磁石單元91。另一方面，Y可動部274是由與XY平面平行的平板狀構件構成，于Y可動部274下面固定有形成為剖面倒U字形的多個、例如四個滑件92(參照圖7(B)，四個滑件92中的+Y側的兩個的圖示省略)。四個滑件92分別具有未圖示的滾動體(例如球體、滾子等)，各兩個滑件92以可滑動的狀態(tài)分別卡合于+X側、一 X側的Y線性導件90。又，于Y可動部274的下面，與固定于Y導件273的磁石單元91對向固定有包含線圈的線圈單元93(參照圖7(B))。線圈單元93與磁石單元91構成通過電磁相互作用將Y可動部274在Y導件273上驅動于Y軸方向的電磁力驅動方式的Y線性馬達。此外，構成Y線性馬達的線圈單元及磁石單元的配置亦可與上述情形相反。
[0095]又，第2實施形態(tài)中，Y可動部274與基板保持框260是通過鉸鏈裝置299連接。鉸鏈裝置299是限制Y可動部274與基板保持框260沿水平面(XY平面)的相對移動，另一方面，亦容許與在包含θχ方向、0y方向的XY平面平行的繞著既定軸線的方向的相對移動。因此，Y可動部274與基板保持框260是沿XY平面一體移動，相對于此，例如通過定點載臺40使基板P相對XY平面傾斜時，由于僅基板保持框260追隨于基板P的傾斜而相對XY平面傾斜，因此不會有負荷施加于Y線性導件90及滑件92。
[0096]由于以上說明的第2實施形態(tài)相關的基板載臺裝置PST2的基板保持框260，包含基板P，都無較X框構件261X及Y框構件261y下面更往下方突出的突出物，因此能使基板保持框260的下面與多個空氣懸浮單元50的上面(氣體噴出面)較第I實施形態(tài)更為接近。藉此，能降低空氣懸浮單元50使基板P懸浮的懸浮高度，能減低自空氣懸浮單元50噴出的空氣的流量。因此能減低運轉成本。又，基板保持框260由于其下面無突出物，因此一對X框構件261x及一對Y框構件261y能分別通過空氣夾具單元80上。因此，可自由設定例如將基板P導引至未圖示的基板更換位置時使用的基板P的移動路徑、對準測量位置等。
[0097]第3實施形態(tài)
[0098]其次說明第3實施形態(tài)。由于第3實施形態(tài)的液晶曝光裝置具有除了保持基板P的基板載臺裝置的構成不同這點以外，其余則與前述第1、第2實施形態(tài)的液晶曝光裝置類似的構成，因此以下僅說明基板載臺裝置的構成。此外，對具有與上述第1、第2實施形態(tài)相同類似的構件，賦予與上述第1、第2實施形態(tài)相同的符號，省略其說明。
[0099]如圖8所示，本第3實施形態(tài)相關的基板載臺裝置PST3,驅動單元370與上述第I實施形態(tài)不同，具有一對X導件71。一對X導件71彼此平行地相隔既定間隔配置于Y軸方向。一對X導件71中的一方(一 Y側)配置于構成第三及第四列的空氣懸浮單元列的第二臺空氣懸浮單元50與第三臺空氣懸浮單元50之間，另一方(+Y側)配置于第六臺空氣懸浮單元50與第七臺空氣懸浮單元50之間。于一對X導件71上分別搭載有X可動部72(X可動部72在圖8中未圖示，參照圖1及圖3)。一對X可動部72是通過未圖示主控制裝置在對應的X導件71上被同步驅動。又，Y導件73是與第I實施形態(tài)類似地通過軸79(軸79在圖8中未圖示，參照圖1及圖3)支承于一對X可動部72上，藉此架設于一對X可動部72上。
[0100]第3實施形態(tài)相關的基板載臺裝置PST3中，由于Y導件73在分離于Y軸方向的兩處支承于X可動部72，因此例如Y可動部74位于Y導件73上的+Y側或一Y側的端部附近時，可抑制Y導件73端部的一方的下垂等，Y導件73的姿勢穩(wěn)定。因此，在例如加長Y導件73以于Y軸方向較長的行程導引基板P的情形等，特別有效。
[0101]此外，第3實施形態(tài)的基板載臺裝置PST3中，由于一方的X導件71配置于定點載臺40的一 Y側、另一方的X導件71配置于定點載臺40的+Y側，因此一對X導件71亦可均設置成延伸設置至定盤12的一X側的端部附近(其中，一對X導件71構成為不與Y柱33及定點載臺40的+Y側及一Y側的空氣懸浮單元50接觸)。此情形下，可將基板保持框60導引至超過定點載臺40的一X側(亦可導引至例如超過定盤12的一X側端部的一X側)。如上述，由于能擴展基板P在XY平面內的可移動范圍，因此能使用驅動單元370使基板P移動至與曝光位置不同的位置(例如基板更換位置或對準測量位置等)。此外，本第3實施形態(tài)中，雖設有一對(兩支)X導件71，但X導件的支數(shù)并不限于此，亦可為三支以上。
[0102]第4實施形態(tài)
[0103]其次，根據(jù)圖9及圖10說明第4實施形態(tài)。由于第4實施形態(tài)的液晶曝光裝置具有除了基板載臺裝置的構成不同這點以外，其余則與前述第I?第3實施形態(tài)的液晶曝光裝置類似的構成，因此以下僅說明基板載臺裝置的構成。此外，對具有與上述第I?第3實施形態(tài)類似功能的構件，賦予與上述第I?第3實施形態(tài)相同的符號，省略其說明。
[0104]如圖9所示，本第4實施形態(tài)相關的基板載臺裝置PST4的基板保持框460，形成為由一對X框構件61x(以X軸方向為長邊方向)與一對Y框構件61y(以Y軸方向為長邊方向)構成的框狀。又，于一X側的Y框構件61y的一X側側面(外側面)固定有X移動鏡462x，于一 Y側的X框構件61x的一 Y側側面(外側面)固定有Y移動鏡462y d移動鏡462x及Y移動鏡462y是用于通過干涉儀系統(tǒng)測量基板保持框460在XY平面內的位置信息時。此外，當將一對X框構件61x及一對Y框構件61y分別以例如陶瓷形成時，亦可分別對一X側的Y框構件61y的一X側側面(外側面)及一 Y側的X框構件61x的一 Y側側面(外側面)進行鏡面加工而作成反射面。
[0105]驅動單元470與上述第3實施形態(tài)的基板載臺裝置PST3(參照圖8)類似地，于一對X可動部72上架設有Y導件73。又，如圖9所示，于Y導件73上分別通過Y線性馬達(圖示省略)以可移動于Y軸方向的方式呈非接觸狀態(tài)支承有一對Y可動部474。一對Y可動部474在Y軸方向相隔既定間隔配置，被Y線性馬達同步驅動。此外，圖10中，+Y側的Y可動部474雖相對一 Y側的Y可動部474而隱藏于紙面深側，但一對Y可動部具有實質上相同的構成(參照圖9)?；灞３挚?60中，+X側的Y框構件6Iy固定于一對Y可動部474。
[0106]以上說明的第4實施形態(tài)相關的基板載臺裝置PST4中，基板保持框460由于在Y軸方向分離的兩處被一對Y可動部474支承，因此可抑制其自身重量導致的彎曲(特別是+Y側及一Y側端部的彎曲)。又，由于藉此可使基板保持框460在與水平面平行的方向的剛性提升，因此亦可提升基板保持框460所保持的基板P在與水平面平行的方向的剛性，使基板P的定位精度提升。
[0107]又，在構成基板保持框460的X框構件61x及Y框構件61y的側面，分別設有移動鏡462x及462y、亦即基板保持框460本身具有反射面，因此能使基板保持框460輕量化、小型化，而提升基板保持框460的位置可控制性。又，由于各移動鏡462x及462y的反射面在Z軸方向的位置接近基板P表面在Z軸方向的位置，因此能抑制所謂阿貝(Abbe)誤差的產生，使基板P的定位精度提升。
[0108]第5實施形態(tài)
[0109]其次，根據(jù)圖11及圖12說明第5實施形態(tài)。由于第5實施形態(tài)的液晶曝光裝置具有除了基板載臺裝置的構成不同這點以外，其余則與第I?第4實施形態(tài)的液晶曝光裝置類似的構成，因此以下僅說明基板載臺裝置的構成。此外，對具有與上述第I?第4實施形態(tài)相同類似的構件，賦予與上述第I?第4實施形態(tài)相同的符號，省略其說明。
[0110]如圖11所示，第5實施形態(tài)相關的基板載臺裝置PST5*，于Y導件73，以可通過Y線性馬達(圖示省略)移動于Y軸方向的方式呈非接觸狀態(tài)支承有一個Y可動部574。又，如圖12所示，Y可動部574是于一 X側側面具有由XZ剖面形成為U字形的構件構成的一對保持構件591 ο 一對保持構件591是沿Y軸方向相隔既定間隔配置。一對保持構件591分別在彼此對向的一對對向面具有例如空氣軸承等非接觸推力軸承。又，基板保持框560具有+X側的形成為XZ剖面為L字形的Y框構件561y，并且該Y框構件561y的+X側端部插入于一對保持構件591各自的一對對向面間，藉此非接觸保持于Y可動部574。此外，設于一對保持構件591的非接觸推力軸承可使用例如磁氣軸承等。
[0111]于Y可動部574的上面，如圖11所示通過固定構件575固定有一個Y固定件576y與一對X固定件576x3固定件576y在俯視下位于一對保持構件591之間。一對X固定件576x是在Y軸方向分離，在俯視下分別位于+Y側的保持構件591的+Y側及一 Y側的保持構件591的一 Y側。Y固定件576y及一對X固定件576x分別具有包含線圈的線圈單元(圖示省略)。供應至線圈單元的線圈的電流大小、方向是受未圖示的主控制裝置控制。
[0112]又，于基板保持框560的+X側的Y框構件571y的上面，與上述Y固定件576y及一對X固定件576x對應地分別通過固定構件578(參照圖12，分別支承一對X可動件577x的固定構件的圖示省略)固定有一個Y可動件577y及一對X可動件577x。一個Y可動件577y及一對X可動件577x分別形成為XZ剖面U字形，在彼此對向的一對對向面間插入有對應的Y固定件576y或X固定件576x(參照圖12)。一個Y可動件577y及一對X可動件577x，分別在彼此對向的一對對向面具有包含磁石的磁石單元579(參照圖12，一對X可動件的磁石單元的圖示省略)。￥可動件577y所具有的磁石單元579，構成通過與Y固定件576y所具有的線圈單元的電磁相互作用將基板保持框560微幅驅動于Y軸方向(參照圖11的箭頭)的電磁力驅動方式的Y音圈馬達(Y—VCM)。又，一對X可動件577x所具有的磁石單元，構成通過與分別對應的X固定件576x所具有的線圈單元的電磁相互作用將基板保持框560微幅驅動于X軸方向(參照圖11的箭頭)的一對電磁力驅動方式的X音圈馬達(X—VCM)?；灞３挚?60與Y可動部574是通過Y—VCM及一對X—VCM所產生的電磁力以電磁方式耦合成非接觸狀態(tài)，而一體沿XY平面移動。此外，基板保持框560與上述第4實施形態(tài)類似地，于其側面分別固定有X移動鏡462x及Y移動鏡462y0
[0113]第5實施形態(tài)相關的基板載臺裝置PST5*，主控制裝置在例如曝光動作時等，是根據(jù)未圖示線性編碼器系統(tǒng)的測量值，使用X線性馬達及Y線性馬達控制X可動部72及Y可動部574的位置，藉此進行基板保持框570(基板P)在XY平面的大致的定位，且根據(jù)干涉儀系統(tǒng)的測量值，適當控制Y—VCM及一對X—VCM將基板保持框570沿XY平面微幅驅動，藉此進行基板P在XY平面內的最終定位。此時，主控制裝置通過適當控制一對X—VCM的輸出將基板保持框560亦驅動于θζ方向。亦即，基板載臺裝置PST5中，由一對X導件71、X可動部72、Y導件73、以及Y可動部574構成的XY 二維載臺裝置發(fā)揮所謂粗略移動載臺裝置的功能，通過Y—VCM及一對X—VCM相對Y可動部574被微幅驅動的基板保持框560發(fā)揮所謂微動載臺裝置的功能。
[0114]如以上所說明，根據(jù)第5實施形態(tài)相關的基板載臺裝置PST5,由于能使用輕量的基板保持框570相對Y可動部574高精度地進行基板P在XY平面內的定位，因此提升基板P的定位精度及定位速度。相對于此，由于X線性馬達對X可動部72的定位精度及Y線性馬達對Y可動部574的定位精度未被要求奈米等級的精度，因此能使用廉價的線性馬達及廉價的線性編碼系統(tǒng)。又，由于基板保持框560與Y可動部574在振動上分離，因此水平方向的振動及X —VCM、Y—VCM的驅動力的反作用力不會傳達至基板保持框560。
[0115]第6實施形態(tài)
[0116]其次，根據(jù)圖13說明第6實施形態(tài)。由于第6實施形態(tài)的液晶曝光裝置具有除了基板載臺裝置的構成不同這點以外，其余則與第I?第5實施形態(tài)的液晶曝光裝置類似的構成，因此以下僅說明基板載臺裝置的構成。此外，對具有與上述第I?第5實施形態(tài)類似功能的構件，賦予與上述第I?第5實施形態(tài)相同的符號，省略其說明。
[0117]如圖13所示，第6實施形態(tài)相關的基板載臺裝置PST6的驅動單元670，于定點載臺40的+X側區(qū)域具有與上述第5實施形態(tài)類似構成的XY二維載臺裝置。亦即，由固定于定盤12上的一對X導件71、在X軸方向移動于該一對X導件71上的一對X可動部72(圖13中未圖示，參照圖12)、架設于一對X可動部72上的Y導件73、以及在該Y導件73上移動于Y軸方向的Y可動部574(為了說明方便，稱為第一 Y可動部574)構成的XY 二維載臺裝置，設于定點載臺40的+X側的區(qū)域。第一 Y可動部574具有以非接觸方式保持與上述第5實施形態(tài)類似構成的基板保持框660的一對保持構件591。又，基板保持框660通過三個音圈馬達(由與上述第5實施形態(tài)類似構成的固定于Y可動部574的Y固定件及一對X固定件及固定于基板保持框660的+X側的Y框構件661y的Y可動件及一對X可動件構成)(一個Y — VCM與一對X — VCM)，相對第一Y可動部574被微幅驅動于X軸方向、Y軸方向、以及θζ方向。
[0118]基板載臺裝置PST6進一步于定點載臺40的一X側區(qū)域，亦具有與上述XY 二維載臺裝置類似(但相對Y軸為對稱(在紙面上為左右對稱))的構成、亦即由一對X導件71、一對X可動部72(圖13中未圖示，參照圖12)、￥導件73、￥可動部574(為了說明方便，稱為第二￥可動部574)構成的另一XY二維載臺裝置?；灞３挚?60是具有一X側的Y框構件66 Iy，該Y框構件661y亦與+X側的Y框構件661y類似地，形成為剖面L字形(參照圖12)，并且在一 X側的Y框構件661y是以非接觸方式保持于第二 Y可動部574所具有的一對保持構件591。
[0119]又，基板保持框660通過三個音圈馬達(由固定于第二Y可動部574的Y固定件及一對X固定件及固定于基板保持框660的一 X側的Y框構件661y的Y可動件及一對X可動件構成)(一個Y—VCM與一對X—VCM)，相對第二Y可動部574被微幅驅動于X軸方向、Y軸方向、以及θζ方向。未圖示的主控制裝置根據(jù)未圖示的線性編碼器系統(tǒng)的測量值，同步控制定點載臺40的+X側、一 X側各自的X線性馬達、Y線性馬達以粗調整基板保持框660在XY平面內的位置，且通過根據(jù)干涉儀系統(tǒng)的測量值適當控制基板保持框660(基板P)的+X側、一X側各自的Y —VCM及一對X—VCM，將基板保持框微幅驅動于X軸、Y軸、以及ΘΖ的各方向，以微調整基板保持框660 (基板P)在XY平面內的位置。
[0120]第6實施形態(tài)相關的基板載臺裝置PST6中，由于基板保持框660在X軸方向的兩端部分別支承于XY二維載臺裝置，因此可抑制因基板保持框660的自身重量導致的彎曲(自由端側的下垂)。又，由于使音圈馬達的驅動力分別從+X側、一 X側的作用于基板保持框660，因此能使各音圈馬達的驅動力作用于由基板保持框660與基板P構成的系統(tǒng)的重心位置附近。是以，能抑制θζ方向的力矩作用于基板保持框660。此外，X—VCM亦能以驅動基板保持框660的重心位置的方式，僅于基板保持框660的一 X側與+X側各配置一個于對角位置(以對角線中心成為基板P的重心附近的方式)。
[0121]第7實施形態(tài)
[0122]其次，根據(jù)圖14、圖15說明第7實施形態(tài)。由于第7實施形態(tài)的液晶曝光裝置具有除了基板載臺裝置的構成不同這點以外，其余則與第I?第6實施形態(tài)的液晶曝光裝置類似的構成，因此以下僅說明基板載臺裝置的構成。此外，對具有與上述第I?第6實施形態(tài)類似功能的構件，賦予與上述第I?第6實施形態(tài)相同的符號，省略其說明。
[0123]如圖14所示，基板載臺裝置PST7將基板保持框760沿XY二維平面驅動的驅動單元770的構成是與上述第I?第6的各實施形態(tài)的基板載臺裝置不同?；遢d臺裝置PST7中，在第一列的空氣懸浮單元列與第二列的空氣懸浮單元列之間、以及第三列的空氣懸浮單元列與第四列的空氣懸浮單元列之間，于Y軸方向相隔既定間隔配置有均以Y軸方向為長邊方向的一對Y導件771。此等四個Y導件771具有與上述第I?第6的各實施形態(tài)的基板載臺裝置所具有的X導件71(參照圖3)類似的功能。又，如圖15所示，于四個Y導件771分別搭載有與上述第I?第6的各實施形態(tài)的基板載臺裝置所具有的X可動部72(參照圖3)類似功能的Y可動部772( — X側的兩個Y可動部772的圖示省略)。四個Y可動部772是通過各Y導件771所具有的Y固定件776 (參照圖15)與各Y可動件772所具有的Y可動件(圖示省略)所構成的電磁力驅動方式的Y線性馬達，被同步驅動于Y軸方向。
[0124]在+γ側的兩個Y可動部772間，如圖14所示，通過軸779(參照圖15)架設有以X軸方向為長邊方向的平板狀構件所構成的X導件773。又，在一 Y側的兩個Y可動部772間，亦架設有類似的X導件773。于一對X導件773上分別搭載有與例如上述第I實施形態(tài)的基板載臺裝置所具有的Y可動部74(參照圖2)相當?shù)臉嫾碭可動部774。一對X可動部774是通過各X導件773所具有的X固定件(圖示省略)與X可動部774所具有的X可動件(圖示省略)所構成的電磁力驅動方式的X線性馬達被同步驅動于X軸方向。一對X可動部774是分別與上述第6實施形態(tài)的基板載臺裝置(參照圖13)的Y可動部574所具有的保持構件591類似地，具有使用例如空氣軸承等非接觸推力軸承(圖示省略)以非接觸方式保持基板保持框760的保持構件791。通過以上構成，本第7實施形態(tài)的基板載臺裝置PST7，與上述第I?第6實施形態(tài)的各基板載臺裝置相較，能以較長行程使基板保持框760移動于X軸方向。
[0125]又，基板保持框760是通過配置于其+Y側的X — VCM及Y — VCM、以及配置于其一Y側的X—VCM及Y—VCM，適當?shù)乇晃⒎寗佑赬軸、￥軸、以及θζ的各方向。各X—VCM、Y—VCM的構成與上述第6實施形態(tài)的X — VCM、Y — VCM相同。此處，在基板保持框760的+Y側，X — VCM是配置于Y —VCM的一 X側，在基板保持框760的一 Y側，X —VCM是配置于Y —VCM的+X側。又，兩個X—VCM、兩個Y—VCM相對基板保持框760(以對角線中點成為基板P的重心附近的方式)配置于對角位置。因此，與上述第6實施形態(tài)類似地，能在重心對基板P進行驅動(使驅動力作用于其重心位置附近而加以驅動)。是以，在使用一對X — VCM及/或一對Y — VCM將基板保持框760微幅驅動于X軸方向、Y軸方向、以及θζ方向時，能使基板P以基板保持框760與基板P所構成的系統(tǒng)的重心位置附近為中心旋轉。
[0126]進而，X—VCM及Y—VCM雖均為較基板保持框760的上面更往+Z側突出的構成(參照圖15 )，但由于X — VCM及Y—VCM是位于投影光學系統(tǒng)PL (參照圖15)的+Y側及一 Y側，因此能在不干涉投影光學系統(tǒng)PL的情況下使基板保持框760通過投影光學系統(tǒng)PL下而移動于X軸方向。
[0127]又，基板載臺裝置PST7在定點載臺40的+X側區(qū)域且是第四列的空氣懸浮單元列的+X側，具有在Y軸方向相隔既定間隔排列的六臺空氣懸浮單元50所構成的第五列空氣懸浮單元列。又，第四列的空氣懸浮單元列的第三?六臺空氣懸浮單元50及第五列的空氣懸浮單元列的第二?四臺空氣懸浮單元50是如圖15所示，具有可移動(上下移動)于Z軸方向的本體部51(參照圖15)。以下，為了將上述具有能上下移動的本體部51的各空氣懸浮單元50與具有本體部51為固定的其他空氣懸浮單元50作出區(qū)別，就說明方便的觀點是將之稱為空氣懸浮單元750。多臺(在本實施形態(tài)中為例如八臺)空氣懸浮單元750各自的腳部752如圖15所示，包含:固定于定盤12上的筒狀盒752a;以及軸752b，一端收容于盒752a內部且于另一端固定于支承部52，通過例如汽缸裝置等未圖示的單軸致動器而相對盒752a被驅動于Z軸方向。
[0128]返回圖14，第7實施形態(tài)相關的基板載臺裝置PST7中，于第四及第五列的空氣懸浮單元列的+X側設定有基板更換位置。對基板P的曝光處理結束后，未圖示的主控制裝置是在第四及第五列空氣懸浮單元列的空氣懸浮單元750位于圖14所示的基板P下方(一 Z側)的狀態(tài)下，解除使用基板保持框760的保持單元65對基板P的吸附保持，在該狀態(tài)下同步控制八臺空氣懸浮單元750，使基板P從基板保持框760分離而往+Z方向移動(參照圖15)?；錚是在圖15所示的位置被一個未圖示的基板更換裝置從基板載臺裝置PST7搬出，其后一個未圖示的新基板被搬送至圖15所示的位置。新基板在從下方被以非接觸方式支承于八臺空氣懸浮單元750的狀態(tài)下，移動于一Z方向后，通過吸附而保持于基板保持框760。此外，在通過基板更換裝置搬出或搬入基板P時，或在將基板P移交至基板保持框760時，基板P與空氣懸浮單元750可為接觸狀態(tài)，而不是非接觸狀態(tài)。
[0129]以上說明的基板載臺裝置PST7中，由于構成為多個空氣懸浮單元750的本體部51能移動于Z軸方向，因此能使基板保持框760沿XY平面移動而位于基板更換位置下方，藉此能容易地從基板保持框760分離基板P，并且僅有基板P能移動至基板更換位置。
[0130]第8實施形態(tài)
[0131]其次，根據(jù)圖16說明第8實施形態(tài)。由于第8實施形態(tài)的液晶曝光裝置具有除了基板載臺裝置的構成不同這點以外，其余則與第I?第7實施形態(tài)的液晶曝光裝置類似的構成，因此以下僅說明基板載臺裝置的構成。此外，對具有與上述第I?第7實施形態(tài)類似功能的構件，賦予與上述第I?第7實施形態(tài)相同的符號，省略其說明。
[0132]如圖16所示，第8實施形態(tài)相關的基板載臺裝置PST8的基板保持框860，是具有在Y軸方向相隔既定間隔的一對由以X軸方向為長邊方向的板狀構件構成的X框構件861x，該對X框構件861x各自的一X側端部是連接于由以Y軸方向為長邊方向的板狀構件構成的Y框構件861y。藉此，基板保持框860具有在俯視下在一X側開口的U字形外形形狀(輪廓)。是以，在已解除基板保持框860的多個保持單元65的吸附保持的狀態(tài)下，通過基板P相對基板保持框860移動于+X方向，而能通過形成于基板保持框860的+X側端部的開口部。此外，在曝光動作時等將基板保持框860沿XY平面導引的驅動單元770(XY 二維載臺裝置)的構成是與上述第7實施形態(tài)相同。
[0133]又，第8實施形態(tài)的基板載臺裝置PST8,是在定點載臺40的+X側且是第四列空氣懸浮單元列的+X側的區(qū)域，具有在Y軸方向相隔既定間隔排列的六臺空氣懸浮單元50所構成的第五列空氣懸浮單元列。又，基板載臺裝置PST8于地面F(參照圖1及圖3)上定盤12的+X側區(qū)域，在X軸方向相隔既定間隔具有兩列于Y軸方向相隔既定間隔排列的四臺空氣懸浮單元50所構成的空氣懸浮單元列。構成該兩列空氣懸浮單元列的共計八臺的空氣懸浮單元50各自的上面(氣體噴出面)配置于與定盤12上的多個空氣懸浮單元50上面相同的平面上(同一面尚)。
[0134]第8實施形態(tài)相關的基板載臺裝置PST8中，是在已解除基板保持框860的多個保持單元65對基板P的保持的狀態(tài)下，將基板P從基板保持框860往+X方向引出，而能搬送至例如基板更換位置。作為將基板P搬送至基板更換位置的方法，例如可使多個空氣懸浮單元具有將基板P往水平方向搬送(運送)的空氣輸送帶功能，亦可使用機械式的搬送裝置。根據(jù)第8實施形態(tài)相關的基板載臺裝置PST8,由于能通過使基板P水平移動，而將基板P容易且迅速地搬送至基板更換位置，因此能提升產能。此外，亦可作成在將基板從基板保持框經(jīng)由開口部引出時，以及將基板通過開口部插入基板保持框內時，能將吸附保持基板的保持單元從基板的移動路徑退離的構成(例如能使保持單元移動于上下方向或能收容于構成基板保持框的各框構件內部的構成)。此情形下，能更可靠地進行基板的更換。
[0135]此外，上述第I?第8實施形態(tài)亦可適當?shù)亟M合。例如亦可將與前述第2實施形態(tài)的基板保持框類似構成的基板保持框使用于前述第3?第6實施形態(tài)的各基板載臺裝置。
[0136]第9實施形態(tài)
[0137]其次，說明第9實施形態(tài)。上述第I?第8實施形態(tài)的基板載臺裝置是設于液晶曝光裝置，相對于此，如圖17所示，本第9實施形態(tài)相關的基板載臺裝置PST9是設于基板檢查裝置900。
[0138]基板檢查裝置900中是具有支承于機體BD的攝影單元910。攝影單元910具有一包含例如均未圖示的CCD(電荷耦合元件)等影像感測器、透鏡等的攝影光學系統(tǒng)，并且是拍攝配置于緊鄰其下方(一 Z側)處的基板P表面。來自攝影單元910的輸出(基板P表面的影像數(shù)據(jù))輸出至外部，根據(jù)該影像數(shù)據(jù)進行基板P的檢查(例如圖案的缺陷或微粒等的檢測)。此夕卜，基板檢查裝置900所具有的基板載臺裝置PST9是與上述第I實施形態(tài)的基板載臺裝置PSTK參照圖1)的構成相同。主控制裝置在基板P的檢查時，是使用定點載臺40(參照圖2)將基板P的被檢查部位(緊鄰攝影單元910下方的部位)的面位置調整成位于攝影單元910所具有的攝影光學系統(tǒng)的焦深內。因此能取得基板P的鮮明影像數(shù)據(jù)。又，由于能高速且高精度地進行基板P的定位，因此能提升基板P的檢查效率。此外，亦可于基板檢查裝置的基板載臺裝置應用上述第2?第8實施形態(tài)的其他基板載臺裝置的任一者。此外，上述第9實施形態(tài)中，雖例示了檢查裝置900為攝影方式的情形，但檢查裝置不限于攝影方式，亦可是其他方式、繞射/散射檢測、或散射測量(scatterometry)等。
[0139]此外，上述各實施形態(tài)中，雖使用基板保持框高速且高精度地控制基板在XY平面內的位置，但當適用于無需以高精度控制基板位置的物體處理裝置時，則不一定要使用基板保持框，亦可使例如多個空氣懸浮單元具有使用空氣的基板水平搬送功能。
[0140]又，上述各實施形態(tài)中，基板雖是被用以驅動于X軸及Y軸的正交兩軸方向的驅動單元(XY二維載臺裝置)沿水平面導引，但只要例如基板上的曝光區(qū)域寬度與基板寬度相同，驅動單元僅于單軸方向導引基板即可。
[0141 ]又，上述各實施形態(tài)中，多個空氣懸浮單元雖懸浮支承成使基板與XY平面成平行，但依照作為支承對象的物體種類不同，使該物體懸浮的裝置的構成并不限于此，亦可通過例如磁氣或靜電使物體懸浮。又，定點載臺的空氣夾具單元亦類似地，依照作為支承對象的物體種類不同，亦可通過例如磁氣或靜電來支承作為支承對象的物體。
[0142]又，上述各實施形態(tài)中，基板保持框在XY平面內的位置信息雖通過激光干涉儀系統(tǒng)(包含對設于基板保持框的移動鏡照射測距光束的激光干涉儀)來求出，但基板保持框的位置測量裝置并不限于此，亦可使用例如二維編碼器系統(tǒng)。此情形下，可于例如基板保持框設置標尺，并通過固定于機體等的讀頭求出基板保持框的位置信息，或于基板保持框設置讀頭，而使用固定于例如機體等的標尺求出基板保持框的位置信息。
[0143]此外，上述各實施形態(tài)中，定點載臺可使基板的被曝光區(qū)域(或被攝影區(qū)域)僅位移于Z軸方向及θχ、θγ方向中的Z軸方向者。
[0144]又，上述各實施形態(tài)中，基板保持框雖具有俯視呈矩形的外形形狀(輪廓)與俯視呈矩形的開口部，但保持基板的構件的形狀并不限于此，亦可視例如保持對象即物體的形狀進行適當變更(例如物體若是圓板狀，則保持構件亦為圓形框狀)。
[0145]此外，上述各實施形態(tài)中，基板保持框無需完全包圍基板周圍，亦可有一部分缺口。又，為了搬送基板，例如基板保持框的用于保持基板的構件并不一定要使用。此情形下，需測量基板本身的位置，并且例如使基板側面為鏡面，通過對該鏡面照射測距光束的干涉儀來測量基板的位置?；蛘撸嗫捎诨灞砻?或背面)形成光柵，并通過具備對該光柵照射測量光并接收其繞射光的讀頭的編碼器來測量基板的位置。
[0146]又，照明光可以是例如ArF準分子激光光(波長193nm)、KrF準分子激光光(波長248nm)等的紫外光、或例如?2激光光(波長157nm)等的真空紫外光。另外，作為照明光，可使用例如諧波，其是以摻有鉺(或鉺及鐿兩者)的光纖放大器，將從DFB半導體激光或纖維激光振蕩出的紅外線區(qū)或可見區(qū)的單一波長激光光放大，并以非線形光學結晶將其轉換波長成紫外光。又，亦可使用固態(tài)激光(波長:355nm、266nm)等。
[0147]又，上述各實施形態(tài)中，雖已說明投影光學系統(tǒng)PL是具備多支投影光學系統(tǒng)的多透鏡方式的投影光學系統(tǒng)，但投影光學系統(tǒng)的支數(shù)不限于此，只要有一支以上即可。又，不限于多透鏡方式的投影光學系統(tǒng)，亦可是使用了歐浮納(OfTner)型的大型反射鏡的投影光學系統(tǒng)等。又，上述實施形態(tài)中，雖是說明使用投影倍率為等倍系統(tǒng)者來作為投影光學系統(tǒng)PL，但并不限于此，投影光學系統(tǒng)亦可是放大系統(tǒng)及縮小系統(tǒng)的任一者。
[0148]又，上述各實施形態(tài)中，雖已說明曝光裝置是掃描步進器的情形，但并不欲限于此，亦可將上述各實施形態(tài)適用于步進器等靜止型曝光裝置。又，亦可將上述各實施形態(tài)適用于合成照射區(qū)域與照射區(qū)域的步進接合方式的投影曝光裝置。又，上述各實施形態(tài)，亦可適用于不使用投影光學系統(tǒng)的近接方式的曝光裝置。
[0149]又，曝光裝置用途并不限定于將液晶顯示元件圖案轉印至矩形玻璃板的液晶顯示元件用曝光裝置，亦可廣泛適用于用來制造例如半導體用的曝光裝置、用于制造薄膜磁頭、微型機器及DNA晶片等的曝光裝置。又，除了用于制造半導體元件等的微型元件的曝光裝置以外，為了制造用于光曝光裝置、EUV曝光裝置、X射線曝光裝置及電子射線曝光裝置等的掩膜或標線片，亦能將上述各實施形態(tài)適用于用以將電路圖案轉印至玻璃基板或硅晶圓等的曝光裝置。此外，作為曝光對象的物體并不限玻璃板，亦可以是例如晶圓、陶瓷基板、膜構件、或者空白掩膜等其他物體。
[0150]此外，上述各實施形態(tài)相關的基板載臺裝置并不限適用于曝光裝置，亦可適用于具備例如噴墨式機能性液體沉積裝置的元件制造裝置。
[0151]又，于是用與至此為止的說明中所引用的曝光裝置等相關的所有公報、PCT國際公開、美國發(fā)明專利申請公開說明書及美國發(fā)明專利說明書的揭示是分別納入在此作為參考。
[0152]元件制造方法
[0153]接著，說明在光刻步驟使用上述各實施形態(tài)的曝光裝置的微型元件的制造方法。上述各實施形態(tài)的曝光裝置中，可通過在板體(玻璃基板)上形成既定圖案(電路圖案、電極圖案等)而制得作為微型元件的液晶顯示元件。
[0154]圖案形成步驟
[0155]首先，是進行使用上述各實施形態(tài)的曝光裝置將圖案像形成于感光性基板(涂布有光刻膠的玻璃基板等)的所謂光光刻步驟。通過此光光刻步驟，于感光性基板上形成包含多數(shù)個電極等的既定圖案。其后，經(jīng)曝光的基板，通過經(jīng)過顯影步驟、刻蝕步驟、光刻膠剝離步驟等各步驟而于基板上形成既定圖案。
[0156]彩色濾光片形成步驟
[0157]其次，形成與R(紅)、G(綠)、B(藍)對應的三個點的組多數(shù)個排列成矩陣狀、或將R、G、B的三條條紋的濾光器組多個排列于水平掃描線方向的彩色濾光片。
[0158]單元組裝步驟
[0159]接著，使用在圖案形成步驟制得的具有既定圖案的基板、以及在彩色濾光片形成步驟制得的彩色濾光片等來組裝液晶面板(液晶單元)。例如于在圖案形成步驟制得的具有既定圖案的基板與在彩色濾光片形成步驟制得的彩色濾光片之間注入液晶，而制造液晶面板(液晶單元)。
[0160]模組組裝步驟
[0161]其后，安裝用以進行已組裝完成的液晶面板(液晶單元)的顯示動作的電路、背光等各零件，而完成液晶顯不兀件。
[0162]此時，在圖案形成步驟中，由于是使用上述各實施形態(tài)的曝光裝置而能以高產能且高精度進行板體的曝光，其結果能提升液晶顯示元件的生產性。
[0163]工業(yè)實用性
[0164]如以上所說明，本發(fā)明的物體處理裝置適于對平板狀物體進行既定處理。又，本發(fā)明的曝光裝置及曝光方法適于使用能量束使平板狀物體曝光。又，本發(fā)明的元件制造方法適于生產微型元件。
【主權項】
1.一種物體處理裝置，其是對一平板狀物體進行既定處理，該平板狀物體沿包含彼此正交的第I及第2軸的一既定二維平面配置，該物體處理裝置具備: 一執(zhí)行裝置，其是對前述物體的一面?zhèn)鹊囊徊糠謪^(qū)域執(zhí)行既定動作； 一調整裝置，其具有從前述物體下方以非接觸狀態(tài)保持前述物體中包含前述部分區(qū)域的部分的保持面，并且調整前述部分在與前述二維平面交叉的方向的位置;以及 一非接觸支承裝置，其是使其支承面對向于前述物體的被前述調整裝置保持的部分以外的其他區(qū)域，以從下方以非接觸方式支承前述物體。2.如權利要求1所述的物體處理裝置，其中，前述調整裝置通過從前述保持面對前述物體噴出一氣體，且吸引前述保持面與前述物體之間的氣體而以非接觸方式保持前述物體。3.如權利要求2所述的物體處理裝置，其中，前述調整裝置是使前述物體與前述保持面之間的氣體的氣壓及流量的至少一方為可變的，以使前述物體與前述保持面的距離為一定的。4.如權利要求1至3中任一項所述的物體處理裝置，其中，前述調整裝置具有將一具有前述保持面的構件驅動于與前述二維平面交叉的方向的一致動器。5.如權利要求4所述的物體處理裝置，其中，前述致動器包含:一可動件，其設于具有前述保持面的構件；以及一固定件，其設于一與用以測量具有前述保持面的構件的位置信息的測量構件在振動上分離的構件。6.如權利要求1至5中任一項所述的物體處理裝置，其中，前述調整裝置具有一用以抵銷前述物體的重量的重量抵銷裝置。7.如權利要求1至6中任一項所述的物體處理裝置，其中，前述非接觸支承裝置是通過從前述支承面對前述物體噴出一氣體而以非接觸方式支承前述物體。8.如權利要求1至7中任一項所述的物體處理裝置，其中，前述調整裝置的前述保持面與前述物體間的距離較前述非接觸支承裝置的前述支承面與前述物體間的距離短。9.如權利要求1至8中任一項所述的物體處理裝置，其進一步具備: 一移動體，其保持前述物體的一端部并可沿前述二維平面移動；以及 一驅動裝置，其是將前述移動體驅動于前述二維平面內的至少一軸方向。10.如權利要求9所述的物體處理裝置，其中，前述調整裝置的具有前述保持面的構件與前述驅動裝置在振動上分離。11.如權利要求9或10所述的物體處理裝置，其中，前述非接觸支承裝置的支承面涵蓋在被前述驅動裝置驅動時的前述物體的移動范圍。12.如權利要求9至11中任一項所述的物體處理裝置，其中，前述非接觸支承裝置的前述支承面的至少一部分被設成可移動于與前述二維平面交叉的方向，并且通過該支承面的至少一部分在與前述二維平面交叉的方向的移動，使前述物體從前述移動體分離而移動于與前述二維平面交叉的方向。13.如權利要求9至12中任一項所述的物體處理裝置，其中，前述移動體具有一沿前述物體的端部延伸設置的一框狀構件所構成的本體部。14.如權利要求13所述的物體處理裝置，其中，前述移動體具有一從下方通過吸附以保持前述物體外周緣部的至少一部分的保持構件； 前述保持構件，可相對前述本體部在保持有前述物體的狀態(tài)下位移于與前述二維平面正交的方向。15.如權利要求14所述的物體處理裝置，其中，前述保持構件是較前述物體下面更往下方突出設置，該突出量較前述非接觸支承裝置的支承面與前述物體的下面的距離小。16.如權利要求13至15中任一項所述的物體處理裝置，其中，前述本體部具有一開口部，該開口部通過相對前述物體的在與前述二維平面平行的方向的相對移動而容許該物體通過。17.如權利要求13所述的物體處理裝置，其中，前述移動體具有一按壓裝置，該按壓裝置是通過從前述本體部的內壁面中彼此對向的一對對向面的一面往另一面按壓前述物體，以使該物體保持于前述本體部。18.如權利要求13至17中任一項所述的物體處理裝置，其進一步具備一光干涉儀系統(tǒng)，該光干涉儀系統(tǒng)是通過分別對前述本體部的與前述第I軸正交的第I外側面、以及與前述第2軸正交的第2外側面照射測距光束且接收其反射光，以求出前述本體部在前述二維平面內的位置信息。19.如權利要求13至18中任一項所述的物體處理裝置，其中，前述驅動裝置包含與前述第I軸平行延伸設置的第I導引構件、在前述第I導引構件上移動于與前述第I軸平行的方向的第I移動構件、與前述第2軸平行延伸設置且連接于前述第I移動構件的第2導引構件、以及保持前述移動體并在前述第2導引構件上移動于與前述第2軸平行的方向的第2移動構件； 前述第I導引構件及前述第I移動構件配置于較前述既定二維平面更下方。20.如權利要求19所述的物體處理裝置，其中，多個前述第I導引構件是在與前述第2軸平行的方向以一既定間隔設置； 多個前述第I移動構件是與前述多個第I導引構件對應地設置； 前述第2導引構件架設于前述多個第I移動構件之上。21.如權利要求19或20所述的物體處理裝置，其中，前述第2導引構件配置于較前述非接觸支承裝置的支承面更上方，該第2導引構件的下面被前述非接觸支承裝置以非接觸狀態(tài)支承。22.如權利要求19至21中任一項所述的物體處理裝置，其中，前述第2移動構件是以非接觸方式支承于前述第2導引構件。23.如權利要求19至22中任一項所述的物體處理裝置，其中，多個前述第2移動構件是在與前述第2軸平行的方向以一相隔既定間隔設置； 前述移動體的多個部位是被前述多個第2移動構件保持。24.如權利要求19至23中任一項所述的物體處理裝置，其中，前述移動體是以非接觸方式保持于前述第2移動構件。25.如權利要求24所述的物體處理裝置，其中，前述驅動裝置具備一將前述移動體相對前述第2移動構件微幅驅動于與前述二維平面平行的方向的微幅驅動裝置。26.如權利要求19至25中任一項所述的物體處理裝置，其中，前述第I移動構件在前述二維平面內的一軸方向分別設于前述移動體的一側及另一側； 前述第2導引構件及前述第2移動構件是分別與前述一側及前述另一側的第I移動構件對應設置； 前述移動體在前述一軸方向的一側及另一側是分別保持于前述一側及前述另一側的第2移動構件。27.如權利要求19至26中任一項所述的物體處理裝置，其中，前述移動體是通過一鉸鏈裝置連接于前述第2移動構件，該鉸鏈裝置一邊限制該移動體與該第2移動構件在與前述二維平面平行的方向的相對移動，一邊容許該移動體與該第2移動構件繞著與前述二維平面平行的軸線的旋轉。28.如權利要求9至27中任一項所述的物體處理裝置，其進一步具備一光干涉儀系統(tǒng)，該光干涉儀系統(tǒng)是通過對設于前述移動體的反射面照射一測距光束且接收其反射光，以求出前述移動體在前述二維平面內的位置信息。29.如權利要求1至28中任一項所述的物體處理裝置，其中，前述執(zhí)行裝置包含一為了檢查前述物體而拍攝該物體的一表面的影像的攝影裝置。30.如權利要求1至29中任一項所述的物體處理裝置，其中，前述物體是一用于一顯示器裝置的顯示面板的基板。31.如權利要求1至28中任一項所述的物體處理裝置，其中，前述執(zhí)行裝置是通過使用一能量束使前述物體曝光而據(jù)以將一既定圖案形成于該物體上的圖案形成裝置。32.一種元件制造方法，其包含: 使用如權利要求31所述的物體處理裝置使前述物體曝光的動作；以及 使前述已曝光的物體顯影的動作。33.—種曝光裝置，其是通過照射一能量束使一物體曝光而據(jù)以將一既定圖案形成于前述物體上，其具備: 一定點載臺，其包含一從前述物體下方以非接觸狀態(tài)保持前述物體的包含被照射前述能量束的一部分區(qū)域的部分的構件，以調整前述部分在與前述二維平面交叉的方向的位置，該物體是沿包含彼此正交的第I及第2軸的一既定二維平面配置；以及 一非接觸支承裝置，其是使其支承面對向于前述物體的被前述保持面保持的部分以外的其他區(qū)域，以從下方以非接觸方式支承前述物體。34.如權利要求33所述的曝光裝置，其進一步具備:一物體保持構件，其保持前述物體的一端部并可沿前述二維平面移動； 一驅動裝置，其是將前述物體保持構件驅動于前述二維平面內的至少一軸方向。35.如權利要求34所述的曝光裝置，其進一步具備一光干涉儀系統(tǒng)，該光干涉儀系統(tǒng)是通過對設于前述物體保持構件的反射面照射一測距光束且接收其反射光，以求出前述物體保持構件在前述二維平面內的位置信息。36.如權利要求33至35中任一項所述的曝光裝置，其中，前述定點載臺具有將一具有前述保持面的構件驅動于與前述二維平面交叉的方向的一致動器。37.如權利要求36所述的曝光裝置，其中，前述致動器包含:一可動件，其設于具有前述保持面的構件；以及一固定件，其設于一與用以測量具有前述保持面的構件的位置信息的測量構件在振動上分離的構件。38.如權利要求33至37中任一項所述的曝光裝置，其中，前述定點載臺具有一用以抵銷前述物體的重量的重量抵銷裝置。39.如權利要求33至38中任一項所述的曝光裝置，其中，前述物體是尺寸不小于500mm的基板。40.一種元件制造方法，其包含: 使用如權利要求33至39中任一項所述的曝光裝置使前述物體曝光的動作；以及 使前述已曝光的物體顯影的動作。41.一種平面面板顯示器的制造方法，其包含: 使用如權利要求33至39中任一項所述的曝光裝置使一平面面板顯示器用的基板曝光的動作；以及 使前述已曝光的基板顯影的動作。42.—種曝光方法，其是通過照射一能量束使一物體曝光而據(jù)以將一既定圖案形成于前述物體上，其包含: 通過在二維平面內的位置為固定的一保持構件，從前述物體下方以非接觸狀態(tài)保持前述物體的包含被照射前述能量束的一部分區(qū)域的部分，以調整前述部分在與二維平面交叉的方向的位置的動作，該物體是沿包含彼此正交的第I及第2軸的既定二維平面配置;以及 使一支承構件的一支承面對向于前述物體的被前述保持構件保持的部分以外的其他區(qū)域，以從下方以非接觸方式支承前述物體的動作。43.如權利要求42所述的曝光方法，其進一步包含:通過一可沿前述二維平面移動的物體保持構件保持前述物體的一端部的動作；以及 將前述物體保持構件驅動于前述二維平面內的至少一軸方向的動作。44.一種元件制造方法，其包含: 使用如權利要求42或43所述的曝光方法使前述物體曝光的動作；以及使前述已曝光的物體顯影的動作。
【文檔編號】G03F7/20GK105954976SQ201610282687
【公開日】2016年9月21日
【申請日】2010年8月17日
【發(fā)明人】青木保夫, 濱田智秀, 白數(shù)廣, 戶口學
【申請人】株式會社尼康