液晶顯示面板的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種液晶顯示面板的制作方法，基于COA技術(shù)上，將隔墊物與黑色矩陣集合于同一材料，并利用一多段式調(diào)整光罩通過(guò)一道光刻工藝一同制于TFT陣列基板側(cè)，減少了生產(chǎn)周期并降低了生產(chǎn)成本，從而提高了產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力，另外，將平坦層上對(duì)應(yīng)黑色矩陣的區(qū)域設(shè)計(jì)為溝道，后續(xù)所形成的黑色矩陣伸入于該溝道中，從而降低了相鄰子像素之間的壁壘，有利于面板內(nèi)液晶的均勻擴(kuò)散。
【專利說(shuō)明】
液晶顯示面板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種液晶顯示面板的制作方法。
【背景技術(shù)】
[0002]液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)是目前市場(chǎng)上應(yīng)用最為廣泛的顯示產(chǎn)品，其生產(chǎn)工藝技術(shù)十分成熟，產(chǎn)品良率高，生產(chǎn)成本相對(duì)較低，市場(chǎng)接受度高。現(xiàn)有市場(chǎng)上的液晶顯示器大部分為背光型液晶顯示裝置，其包括液晶顯示面板及背光模組。通常液晶顯示面板由彩膜(Color Filter，CF)基板、陣列(Array)基板、夾于彩膜基板與陣列基板之間的液晶及密封框膠(Sealant)組成，其中，CF基板主要包括通過(guò)色阻單元(R/G/B)形成有色光的彩色濾光層、防止像素邊緣漏光的黑色矩陣(Black Matrix，BM)、以及維持盒厚的隔墊物(Photo SpaCer，PS)。液晶顯示器是通過(guò)電場(chǎng)對(duì)液晶分子取向的控制，改變光的偏振狀態(tài)，并藉由偏光板實(shí)現(xiàn)光路的穿透與阻擋，實(shí)現(xiàn)顯示的目的。
[0003]COA (Co I or Filter on Array)技術(shù)是將彩色濾光層制備在陣列基板上的技術(shù)。由于COA結(jié)構(gòu)的顯示面板不存在彩膜基板與陣列基板的對(duì)位問(wèn)題，因此可以降低顯示面板制備過(guò)程中對(duì)盒制程的難度，避免了對(duì)盒時(shí)的誤差，因此黑色矩陣可以設(shè)計(jì)為窄線寬，提高了開(kāi)口率。
[0004]但是追求更好觀影效果如曲面顯示器，并且更低成本的顯示面板已成為技術(shù)開(kāi)發(fā)人員持之以恒的研究課題。黑色隔墊物(Black Photo Spacer，BPS)材料是一種新型材料，它既具有傳統(tǒng)技術(shù)中隔墊物材料的特性，如較優(yōu)秀的彈性回復(fù)力及對(duì)液晶較低的污染等，而且還具有較高的光學(xué)密度(optical density，0D)值，可以起到遮光作用而達(dá)到黑色矩陣的效果；一種新型的BM-Less技術(shù)是基于COA技術(shù)將BM與PS集合于同一材料黑色隔墊物(Black Photo Spacer，BPS)且同一制程完成并設(shè)計(jì)在Array基板上的一種技術(shù)，與傳統(tǒng)的液晶顯示技術(shù)比較，如圖1所示，將黑色矩陣110、主要隔墊物121、輔助隔墊物122、及彩色濾光膜130全部設(shè)計(jì)在陣列基板側(cè)，這樣不僅可以避免對(duì)組制程中由于對(duì)組精度的誤差、或者曲面顯示技術(shù)中由于面板彎曲造成的平移帶來(lái)的露光，更重要的是節(jié)省一道材料及制程，縮短生產(chǎn)時(shí)間(tact time)，降低了產(chǎn)品成本。
[0005]其中，目前通常采用一多段式調(diào)整光罩(Mult1-Tone Mask，MTM)對(duì)所述BPS材料進(jìn)行光刻工藝，該多段式調(diào)整光罩上具有不同透光率的第一圖案部、第二圖案部、及第三圖案部，用于在同一制程同時(shí)在所述BPS材料上對(duì)應(yīng)形成具有斷差的主隔墊物121、輔助副隔墊物122、及黑色矩陣110，然而由于斷差較低，以主要隔墊物121為3.3-3.5μπι的高度而言，黑色矩陣110的膜厚就達(dá)到了2.3-2.5μπι，即如圖2-3所示，在陣列基板側(cè)柵極線(Gate line)與數(shù)據(jù)線(Data line)上的黑色矩陣110的膜厚高達(dá)2.3-2.5μπι，從而導(dǎo)致在相鄰兩個(gè)子像素(Sub Pixel)之間產(chǎn)生2.3-2.5μηι高的壁皇，而就一般的垂直配向模式(VA Mode)而言，液晶盒厚(Ce 11 Gap) H通常在3.0-3.8μπι之間，因而可能導(dǎo)致液晶擴(kuò)散不均勻而造成顯示不良出現(xiàn)亮度不均(Mura)的風(fēng)險(xiǎn)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的目的在于提供一種液晶顯示面板的制作方法，將平坦層上對(duì)應(yīng)黑色矩陣的區(qū)域設(shè)計(jì)為溝道，后續(xù)形成的黑色矩陣伸入于該溝道中，從而降低相鄰子像素之間的壁皇，利于液晶均勻擴(kuò)散。
[0007]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種液晶顯示面板的制作方法，包括如下步驟:
[0008]步驟1、提供TFT陣列基板，所述TFT陣列基板具有數(shù)條掃描線、及數(shù)條數(shù)據(jù)線，所述數(shù)條掃描線與數(shù)條數(shù)據(jù)線相互垂直交叉將所述TFT陣列基板劃分成數(shù)個(gè)子像素區(qū)域；
[0009]步驟2、在所述TFT陣列基板上形成彩色濾光膜層；
[0010]步驟3、在所述彩色濾光膜層上涂布一層透明光阻材料，并進(jìn)行圖案化處理，將對(duì)應(yīng)于所述數(shù)條掃描線上方的透明光阻材料部分去除，形成數(shù)條與所述掃描線相對(duì)應(yīng)的第一溝道、及位于所述數(shù)條第一溝道內(nèi)的數(shù)個(gè)凸臺(tái)，將對(duì)應(yīng)于所述數(shù)條數(shù)據(jù)線上方的透明光阻材料去除，形成數(shù)條第二溝道，剩下的透明光阻材料形成平坦層；
[0011]步驟4、提供一多段式調(diào)整光罩，在所述平坦層、及彩色濾光膜層上涂布一層黑色光阻材料，并利用所述多段式調(diào)整光罩對(duì)黑色光阻材料進(jìn)行圖案化處理，對(duì)應(yīng)所述數(shù)條第一溝道及數(shù)條第二溝道得到部分伸入所述數(shù)條第一溝道及數(shù)條第二溝道的黑色矩陣，同時(shí)對(duì)應(yīng)所述數(shù)個(gè)凸臺(tái)得到位于所述黑色矩陣上的主隔墊物與輔助隔墊物，從而得到下基板；
[0012]步驟5、提供上基板，在上基板或下基板上滴注液晶材料，并將上基板與下基板對(duì)組貼合，得到液晶顯示面板。
[0013]所述步驟4中提供的多段式調(diào)整光罩包括用于分別形成黑色矩陣、輔助隔墊物、及主隔墊物的第一圖案部、第二圖案部、及第三圖案部；
[0014]所述黑色光阻材料為負(fù)性光阻材料，所述多段式調(diào)整光罩上第一圖案部、第二圖案部、及第三圖案部的透光率依次增大。
[0015]所述步驟2中所形成的彩色濾光膜層包括并列排布的紅色色阻膜、綠色色阻膜、及藍(lán)色色阻膜。
[0016]所述紅色色阻膜、及綠色色阻膜的膜厚為2.0-4.Ομπι，所述藍(lán)色色阻膜的膜厚為
2.2-4.2μπι，所述藍(lán)色色阻膜的膜厚大于所述紅色色阻膜與綠色色阻膜的膜厚。
[0017]所述主隔墊物形成于所述藍(lán)色色阻膜的上方，所述輔助隔墊物位于所述紅色色阻膜與綠色色阻膜的上方。
[0018]所述步驟3中，在所述彩色濾光膜層上涂布的透明光阻材料的厚度為2_3μπι，所述透明光阻材料為正性光阻材料、或負(fù)性光阻材料。
[0019]所述步驟I中TFT陣列基板的具體制作步驟包括:
[0020]步驟11、提供第一襯底基板，在所述第一襯底基板上形成TFT陣列層;所述TFT陣列層包括數(shù)個(gè)陣列排布的與所述數(shù)個(gè)子像素區(qū)域相對(duì)應(yīng)的TFT;
[0021]步驟12、在所述TFT陣列層上形成鈍化層，得到TFT陣列基板；
[0022 ]所述步驟3中形成的凸臺(tái)對(duì)應(yīng)于所述TFT的上方設(shè)置。
[0023]所述步驟3還包括，對(duì)所述鈍化層進(jìn)行干法蝕刻形成過(guò)孔，在所述平坦層上沉積并圖案化導(dǎo)電薄膜，形成像素電極，所述像素電極通過(guò)所述鈍化層的過(guò)孔與所述TFT相連接。
[0024]所述步驟5中上基板的具體制作步驟包括:提供第二襯底基板，在所述第二襯底基板上形成公共電極。
[0025]所述步驟5中上基板的具體制作步驟還包括，在上基板的公共電極上制作標(biāo)記，用于對(duì)所述上基板與所述下基板進(jìn)行對(duì)位。
[0026]本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明提供一種液晶顯示面板的制作方法，基于⑶A技術(shù)上，將隔墊物與黑色矩陣集合于同一材料，并利用一多段式調(diào)整光罩通過(guò)一道光刻工藝一同制于TFT陣列基板側(cè)，減少了生產(chǎn)周期并降低了生產(chǎn)成本，從而提高了產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力，另外，將平坦層上對(duì)應(yīng)黑色矩陣的區(qū)域設(shè)計(jì)為溝道，后續(xù)所形成的黑色矩陣伸入于該溝道中，從而降低了相鄰子像素之間的壁皇，有利于面板內(nèi)液晶的均勻擴(kuò)散。
[0027]為了能更進(jìn)一步了解本發(fā)明的特征以及技術(shù)內(nèi)容，請(qǐng)參閱以下有關(guān)本發(fā)明的詳細(xì)說(shuō)明與附圖，然而附圖僅提供參考與說(shuō)明用，并非用來(lái)對(duì)本發(fā)明加以限制。
【附圖說(shuō)明】
[0028]下面結(jié)合附圖，通過(guò)對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】詳細(xì)描述，將使本發(fā)明的技術(shù)方案及其它有益效果顯而易見(jiàn)。
[0029]附圖中，
[0030]圖1為按照傳統(tǒng)的PBS技術(shù)制得的BM-Less液晶面板中陣列基板的俯視圖；
[0031]圖2為按照傳統(tǒng)的PBS技術(shù)制得的BM-Less液晶面板沿圖1中CC’線的截面示意圖；
[0032]圖3為按照傳統(tǒng)的PBS技術(shù)制得的BM-Less液晶面板沿圖1中DD’線的截面示意圖；
[0033]圖4為本發(fā)明的液晶顯示面板的制作方法的流程示意圖；
[0034]圖5為本發(fā)明的液晶顯示面板的制作方法的步驟3中所形成的平坦層的俯視圖；
[0035]圖6為本發(fā)明的液晶顯示面板的制作方法的步驟3中TFT陣列基板上形成平坦層后沿圖5中EE’線的截面示意圖；
[0036]圖7為本發(fā)明的液晶顯示面板的制作方法的步驟3中TFT陣列基板上形成平坦層后沿圖5中FF’線的截面示意圖；
[0037]圖8為本發(fā)明的液晶顯示面板的制作方法的步驟4中所形成的下基板沿圖5中EE’線的截面示意圖；
[0038]圖9為本發(fā)明的液晶顯示面板的制作方法的步驟4中所形成的下基板沿圖5中FF’線的截面示意圖；
[0039]圖10為本發(fā)明的液晶顯示面板的制作方法的步驟5中所形成的液晶顯示面板沿圖5中EE’線的截面示意圖；
[0040]圖11為本發(fā)明的液晶顯示面板的制作方法的步驟5中所形成的液晶顯示面板沿圖5中FF’線的截面示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0041]為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明所采取的技術(shù)手段及其效果，以下結(jié)合本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例及其附圖進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0042]請(qǐng)參閱圖4，本發(fā)明提供一種液晶顯示面板的制作方法，包括如下步驟:
[0043]步驟1、提供TFT陣列基板11，所述TFT陣列基板11具有數(shù)條掃描線、及數(shù)條數(shù)據(jù)線，所述數(shù)條掃描線與數(shù)條數(shù)據(jù)線相互垂直交叉將所述TFT陣列基板11劃分成數(shù)個(gè)子像素區(qū)域。
[0044]具體地，所述步驟I中TFT陣列基板11的具體制作步驟包括:
[0045]步驟11、提供第一襯底基板，對(duì)應(yīng)于每一子像素區(qū)域，在所述第一襯底基板上沉積并圖案化第一金屬層，得到柵極(Gate)，在第一襯底基板、及柵極上沉積柵極絕緣層(GI)、在柵極絕緣層(GI)上沉積并圖案化半導(dǎo)體層，得到有源層，在有源層兩端形成歐姆接觸層，然后沉積并圖案化第二金屬層，得到源極(Source)與漏極(Drain)，其中，柵極、有源層、源極、及漏極共同構(gòu)成TFT，從而形成位于所述第一襯底基板上TFT陣列層，該TFT陣列層包括數(shù)個(gè)陣列排布的與所述數(shù)個(gè)子像素區(qū)域相對(duì)應(yīng)的TFT。
[0046]具體地，所述第一襯底基板為玻璃基板。
[0047]步驟12、在所述TFT陣列層上形成鈍化層，得到TFT陣列基板11。
[0048]步驟2、在所述TFT陣列基板11上形成彩色濾光膜層12。
[0049]具體地，所述步驟2中所形成的彩色濾光膜層12包括并列排布的紅色色阻膜121、綠色色阻膜122、及藍(lán)色色阻膜123;其中，所述紅色色阻膜121、及綠色色阻膜122的膜厚為2.0-4.Ομπι，所述藍(lán)色色阻膜123的膜厚為2.2-4.2μπι，所述藍(lán)色色阻膜123比所述紅色色阻膜121與綠色色阻膜122高約0.2μπι。
[0050]步驟3、如圖5-7所示，在所述彩色濾光膜層12上涂布一層透明光阻材料，并進(jìn)行圖案化處理，將對(duì)應(yīng)于所述數(shù)條掃描線上方的透明光阻材料部分去除，形成數(shù)條與所述掃描線相對(duì)應(yīng)的第一溝道131、及位于所述數(shù)條第一溝道131內(nèi)的數(shù)個(gè)凸臺(tái)132，將對(duì)應(yīng)于所述數(shù)條數(shù)據(jù)線上方的透明光阻材料去除，形成數(shù)條第二溝道133，剩下的透明光阻材料形成平坦層13。
[0051]具體地，所述步驟3中，在所述彩色濾光膜層12上涂布的透明光阻材料的厚度為2-3ym，所述透明光阻材料可以為正性光阻材料，也可以為負(fù)性光阻材料。
[0052]具體地，所述步驟3中形成的凸臺(tái)132對(duì)應(yīng)于所述TFT的上方設(shè)置。
[0053]具體地，所述步驟3還包括，對(duì)應(yīng)于每一子像素區(qū)域，對(duì)所述鈍化層進(jìn)行干法蝕刻形成過(guò)孔，在所述平坦層13上沉積并圖案化導(dǎo)電薄膜，形成像素電極，所述像素電極通過(guò)所述鈍化層的過(guò)孔與所述TFT的漏極相連接。
[0054]步驟4、如圖8-9所示，提供一多段式調(diào)整光罩，在所述平坦層13、及彩色濾光膜層12上涂布一層黑色光阻材料，并利用所述多段式調(diào)整光罩對(duì)黑色光阻材料進(jìn)行圖案化處理，對(duì)應(yīng)所述數(shù)條第一溝道131及數(shù)條第二溝道133得到部分伸入所述數(shù)條第一溝道131及數(shù)條第二溝道133的黑色矩陣141，同時(shí)對(duì)應(yīng)所述數(shù)個(gè)凸臺(tái)132得到位于所述黑色矩陣141上的主隔墊物142與輔助隔墊物143，從而得到下基板1。
[0055]需要說(shuō)明的是，由于在步驟3中，在平坦層13上形成了對(duì)應(yīng)于所述數(shù)條掃描線、及數(shù)條數(shù)據(jù)線的第一溝道131與第二溝道133，因此，在該步驟4中用于形成黑色矩陣141的黑色光阻材料會(huì)填入于該第一溝道131與第二溝道133，從而得到伸入于該第一溝道131與第二溝道133的黑色矩陣141，降低了每一子像素區(qū)域周邊的黑色矩陣141的高度，降低了相鄰子像素之間的壁皇，提高了平坦性，避免了面板內(nèi)形成“小池塘”，從而有利于液晶在面板內(nèi)均勻擴(kuò)散。另外，所述步驟3中，在平坦層13上形成的位于數(shù)條第一溝道131內(nèi)的數(shù)個(gè)凸臺(tái)132，用于該步驟4中所形成的主隔墊物142與輔助隔墊物143的站立，從而在降低黑色矩陣141高度的前提下，保持主隔墊物142與輔助隔墊物143應(yīng)有的高度。
[0056]具體地，所述步驟4中提供的多段式調(diào)整光罩包括用于分別形成黑色矩陣141、輔助隔墊物143、及主隔墊物142的第一圖案部、第二圖案部、及第三圖案部;所述黑色光阻材料為負(fù)性光阻材料，所述多段式調(diào)整光罩上第一圖案部、第二圖案部、及第三圖案部的透光率依次增大，從而使得所形成的主隔墊物142高于所述輔助隔墊物143的高度，所述輔助隔墊物143高于黑色矩陣141的高度。
[0057]具體地，所述主隔墊物142形成于所述藍(lán)色色阻膜123的上方，所述輔助隔墊物143形成于所述紅色色阻膜121與綠色色阻膜122的上方。將主隔墊物142設(shè)計(jì)站立在較高膜厚的藍(lán)色色阻膜123上方，輔助隔墊物143設(shè)計(jì)站立在較低膜厚的紅色色阻膜121與綠色色阻膜122上方，這樣亦可以增加主隔墊物142與輔助隔墊物143的高度差，從而提高了產(chǎn)品的液晶壓縮裕量(LC Margin) ο
[0058]步驟5、如圖10-11所示，提供上基板20，在上基板20或下基板10上滴注液晶材料，并將上基板20與下基板10對(duì)組貼合，得到液晶顯示面板。
[0059]具體地，所述步驟5中制作上基板20的具體步驟包括:提供第二襯底基板，在所述第二襯底基板上形成公共電極，并在上基板的公共電極上制作標(biāo)記(mask)，用于對(duì)所述上基板20與所述下基板10進(jìn)行對(duì)位。
[0060]具體地，所述第二襯底基板為玻璃基板，所述公共電極為氧化銦錫(ITO)。
[0061]綜上所述，本發(fā)明提供一種液晶顯示面板的制作方法，基于COA技術(shù)上，將隔墊物與黑色矩陣集合于同一材料，并利用一多段式調(diào)整光罩通過(guò)一道光刻工藝一同制于TFT陣列基板側(cè)，減少了生產(chǎn)周期并降低了生產(chǎn)成本，從而提高了產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力，另外，將平坦層上對(duì)應(yīng)黑色矩陣的區(qū)域設(shè)計(jì)為溝道，后續(xù)所形成的黑色矩陣伸入于該溝道中，從而降低了相鄰子像素之間的壁皇，有利于面板內(nèi)液晶的均勻擴(kuò)散。
[0062]以上所述，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思作出其他各種相應(yīng)的改變和變形，而所有這些改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種液晶顯示面板的制作方法，其特征在于，包括如下步驟: 步驟1、提供TFT陣列基板(11)，所述TFT陣列基板(11)具有數(shù)條掃描線、及數(shù)條數(shù)據(jù)線，所述數(shù)條掃描線與數(shù)條數(shù)據(jù)線相互垂直交叉將所述TFT陣列基板(11)劃分成數(shù)個(gè)子像素區(qū)域； 步驟2、在所述TFT陣列基板(11)上形成彩色濾光膜層(12); 步驟3、在所述彩色濾光膜層(12)上涂布一層透明光阻材料，并進(jìn)行圖案化處理，將對(duì)應(yīng)于所述數(shù)條掃描線上方的透明光阻材料部分去除，形成數(shù)條與所述掃描線相對(duì)應(yīng)的第一溝道(131 )、及位于所述數(shù)條第一溝道(131)內(nèi)的數(shù)個(gè)凸臺(tái)(132)，將對(duì)應(yīng)于所述數(shù)條數(shù)據(jù)線上方的透明光阻材料去除，形成數(shù)條第二溝道(133)，剩下的透明光阻材料形成平坦層(13)； 步驟4、提供一多段式調(diào)整光罩，在所述平坦層(13)、及彩色濾光膜層(12)上涂布一層黑色光阻材料，并利用所述多段式調(diào)整光罩對(duì)黑色光阻材料進(jìn)行圖案化處理，對(duì)應(yīng)所述數(shù)條第一溝道(131)及數(shù)條第二溝道(133)得到部分伸入所述數(shù)條第一溝道(131)及數(shù)條第二溝道(133)的黑色矩陣(141)，同時(shí)對(duì)應(yīng)所述數(shù)個(gè)凸臺(tái)(132)得到位于所述黑色矩陣(141)上的主隔墊物(142)與輔助隔墊物(143)，從而得到下基板(10); 步驟5、提供上基板(20)，在上基板(20)或下基板(1)上滴注液晶材料，并將上基板(20)與下基板(10)對(duì)組貼合，得到液晶顯示面板。2.如權(quán)利要求1所述的液晶顯示面板的制作方法，其特征在于，所述步驟4中提供的多段式調(diào)整光罩包括用于分別形成黑色矩陣(141)、輔助隔墊物(143)、及主隔墊物(142)的第一圖案部、第二圖案部、及第三圖案部； 所述黑色光阻材料為負(fù)性光阻材料，所述多段式調(diào)整光罩上第一圖案部、第二圖案部、及第三圖案部的透光率依次增大。3.如權(quán)利要求1所述的液晶顯示面板的制作方法，其特征在于，所述步驟2中所形成的彩色濾光膜層(12)包括并列排布的紅色色阻膜(121)、綠色色阻膜(122)、及藍(lán)色色阻膜(123)04.如權(quán)利要求3所述的液晶顯示面板的制作方法，其特征在于，所述紅色色阻膜(121)、及綠色色阻膜(122)的膜厚為2.0-4.Ομπι，所述藍(lán)色色阻膜(123)的膜厚為2.2-4.2μπι，所述藍(lán)色色阻膜(123)的膜厚大于所述紅色色阻膜(121)與綠色色阻膜(122)的膜厚。5.如權(quán)利要求4所述的液晶顯示面板的制作方法，其特征在于，所述主隔墊物(142)形成于所述藍(lán)色色阻膜(123)的上方，所述輔助隔墊物(143)位于所述紅色色阻膜(121)與綠色色阻膜(122)的上方。6.如權(quán)利要求1所述的液晶顯示面板的制作方法，其特征在于，所述步驟3中，在所述彩色濾光膜層(12)上涂布的透明光阻材料的厚度為2-3μπι，所述透明光阻材料為正性光阻材料、或負(fù)性光阻材料。7.如權(quán)利要求1所述的液晶顯示面板的制作方法，其特征在于，所述步驟I中TFT陣列基板(11)的具體制作步驟包括: 步驟11、提供第一襯底基板，在所述第一襯底基板上形成TFT陣列層;所述TFT陣列層包括數(shù)個(gè)陣列排布的與所述數(shù)個(gè)子像素區(qū)域相對(duì)應(yīng)的TFT; 步驟12、在所述TFT陣列層上形成鈍化層，得到TFT陣列基板(11); 所述步驟3中形成的凸臺(tái)(132)對(duì)應(yīng)于所述TFT的上方設(shè)置。8.如權(quán)利要求7所述的液晶顯示面板的制作方法，其特征在于，所述步驟3還包括，對(duì)所述鈍化層進(jìn)行干法蝕刻形成過(guò)孔，在所述平坦層(13)上沉積并圖案化導(dǎo)電薄膜，形成像素電極，所述像素電極通過(guò)所述鈍化層的過(guò)孔與所述TFT相連接。9.如權(quán)利要求1所述的液晶顯示面板的制作方法，其特征在于，所述步驟5中上基板(20)的具體制作步驟包括:提供第二襯底基板，在所述第二襯底基板上形成公共電極。10.如權(quán)利要求9所述的液晶顯示面板的制作方法，其特征在于，所述步驟5中上基板(20)的具體制作步驟還包括，在公共電極上制作標(biāo)記，用于對(duì)所述上基板(20)與所述下基板(10)進(jìn)行對(duì)位。
【文檔編號(hào)】G02F1/1335GK105974636SQ201610570637
【公開(kāi)日】2016年9月28日
【申請(qǐng)日】2016年7月18日
【發(fā)明人】于承忠
【申請(qǐng)人】深圳市華星光電技術(shù)有限公司