一種彩膜基板及其制備方法、顯示面板的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種彩膜基板及其制備方法、顯示面板，以實現(xiàn)薄型化的所述彩膜基板，應用于顯示面板后，能夠減少顯示面板的響應時間，提高產(chǎn)品性能。所述彩膜基板，包括襯底基板，所述襯底基板具有相對的第一面和第二面，所述襯底基板的第一面上形成有多個像素凹槽，所述像素凹槽內(nèi)填充有色阻材料。本發(fā)明實施例中，將所述色阻材料填充于所述像素凹槽內(nèi)，不需要占用所述襯底基板自身之外的空間，能夠減小所述彩膜基板的整體厚度，應用于顯示面板后，能夠減少所述顯示面板的響應時間，提高產(chǎn)品性能。
【專利說明】
一種彩膜基板及其制備方法、顯示面板
技術(shù)領域
[0001]本發(fā)明涉及顯示領域，尤其涉及一種彩膜基板及其制備方法、顯示面板。
【背景技術(shù)】
[0002]薄膜晶體管液晶顯不器(ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display,TFT-LCD)以其圖像顯示品質(zhì)好、能耗低、環(huán)保等優(yōu)勢被廣泛應用，占據(jù)了顯示器領域的重要位置。目前，TFT-LCD的顯示面板主要由陣列基板和彩膜基板對盒形成，陣列基板和彩膜基板之間填充有液晶?，F(xiàn)有的彩膜基板是基于紅、綠、藍三原色的，顯示面板通過調(diào)節(jié)提供給陣列基板的驅(qū)動電壓來控制液晶分子的排列狀態(tài)，液晶分子的排列狀態(tài)的改變形成開關的動作，從而能夠控制入射光是否穿透，再經(jīng)彩膜基板上設置的紅、綠、藍色阻，形成亮麗、鮮艷的畫面。
[0003]但是，現(xiàn)有技術(shù)中的TFT-LCD產(chǎn)品，彩膜基板均是在襯底基板的表面形成黑矩陣，再形成紅、綠、藍色阻，之后再設置隔墊物。如圖1所示，現(xiàn)有技術(shù)的彩膜基板，包括:襯底基板I，依次形成于所述襯底基板I表面的黑矩陣2和色阻3，以及形成于色阻3之上的保護層4和隔墊物5。因此，現(xiàn)有技術(shù)的彩膜基板的整體厚度較大，增加顯示面板的響應時間，使得產(chǎn)品性能下降。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的是提供一種彩膜基板及其制備方法、顯示面板，以實現(xiàn)薄型化的所述彩膜基板，應用于顯示面板后，能夠減少顯示面板的響應時間，提高產(chǎn)品性能。
[0005]本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的:
[0006]本發(fā)明實施例提供一種彩膜基板，包括襯底基板，所述襯底基板具有相對的第一面和第二面，所述襯底基板的第一面上形成有多個像素凹槽，所述像素凹槽內(nèi)填充有色阻材料。
[0007]本實施例中，將所述色阻材料填充于所述像素凹槽內(nèi)，不需要占用所述襯底基板自身之外的空間，能夠減小所述彩膜基板的整體厚度，應用于顯示面板后，能夠減少所述顯不面板的響應時間，提尚廣品性能。
[0008]優(yōu)選的，所述色阻材料的填充厚度小于或等于所述像素凹槽的深度。本實施例中，由于所述色阻材料的填充厚度不超過所述像素凹槽的深度，因此所述色阻材料不會超所述襯底基板的第一面，能夠減小所述彩膜基板的整體厚度；同時，當所述色阻材料的填充厚度小于所述像素凹槽的深度時，還可以在所述像素凹槽再填充其它必須的物質(zhì)(例如樹脂層)，可以進一步減小所述彩膜基板的整體厚度。
[0009]優(yōu)選的，所述像素凹槽的深度為I?3微米。
[0010]優(yōu)選的，所述色阻材料之上還形成有樹脂層。本實施例中，由所述樹脂層對所述色阻材料進行保護和封蓋。
[0011 ]優(yōu)選的，所述色阻材料為液態(tài)。本實施例中，在具有所述樹脂層進行封蓋和保護的情況下，所述色阻材料可以是液態(tài)的，不需要在摻雜其它物質(zhì)進行固化。
[0012]優(yōu)選的，所述樹脂層的外表面與所述像素凹槽之外的所述襯底基板的第一面在同一平面。本實施例中，所述色阻材料和所述樹脂層的整體與所述襯底基板的第一面在同一平面，使得所述彩膜基板的整體厚度減小。
[0013]優(yōu)選的，所述彩膜基板還包括黑矩陣和多個隔墊物，所述黑矩陣形成于所述像素凹槽之外的所述襯底基板的第一面上，所述隔墊物形成于所述黑矩陣上。
[0014]本發(fā)明實施例有益效果如下:將所述色阻材料填充于所述像素凹槽內(nèi)，不需要占用所述襯底基板自身之外的空間，能夠減小所述彩膜基板的整體厚度，應用于顯示面板后，減少了盒厚，減小了液晶的用量，能夠減少所述顯示面板的響應時間，提高產(chǎn)品性能。
[0015]本發(fā)明實施例還提供一種顯示面板，包括如上實施例提供的所述彩膜基板。
[0016]本發(fā)明實施例有益效果如下:將所述色阻材料填充于所述像素凹槽內(nèi)，不需要占用所述襯底基板自身之外的空間，能夠減小所述彩膜基板的整體厚度，應用于顯示面板后，能夠減少所述顯不面板的響應時間，提尚廣品性能。
[0017]基于同樣的發(fā)明思想，本發(fā)明實施例還提供一種彩膜基板制備方法，包括:
[0018]提供具有相對的第一面和第二面的襯底基板，在所述襯底基板的第一面上形成像素凹槽；
[0019]在所述像素凹槽內(nèi)填充色阻材料。
[0020]優(yōu)選的，在所述襯底基板的第一面上形成所述像素凹槽，包括:
[0021]在所述襯底基板的第一面上形成保護層，所述保護層暴露要形成所述像素凹槽的區(qū)域；
[0022]將所述襯底基板經(jīng)刻蝕液浸泡后，清洗所述襯底基板并去除所述保護層并形成所述像素凹槽。
[0023]優(yōu)選的，所述襯底基板的材料為二氧化硅，所述刻蝕液為濃度1.4mol/L的氫氟酸，浸泡溫度為25°C，浸泡時長為2?5min;或者，
[0024]所述襯底基板的材料為聚甲基丙烯酸甲酯，所述刻蝕液為濃度40%的堿性溶液，浸泡溫度為50°C，浸泡時長為2?5min。
[0025]優(yōu)選的，在所述像素凹槽內(nèi)填充所述色阻材料，包括:
[0026]采用滴注法將液態(tài)的所述色阻材料滴入所述像素凹槽，直接在色阻材料上形成樹脂層;或者，
[0027]采用滴注法將液態(tài)的所述色阻材料滴入所述像素凹槽，對所述色阻材料進行固化成形;或者，
[0028]采用滴注法將液態(tài)的所述色阻材料滴入所述像素凹槽，對所述色阻材料進行固化成形，在固化成形后的所述色阻材料上形成樹脂層。
[0029]優(yōu)選的，還包括在所述像素凹槽之外的所述襯底基板的第一面上形成黑矩陣，在所述黑矩陣上形成多個隔墊物。
[0030]本發(fā)明實施例有益效果如下:將所述色阻材料填充于所述像素凹槽內(nèi)，不需要占用所述襯底基板自身之外的空間，能夠減小所述彩膜基板的整體厚度，應用于顯示面板后，能夠減少所述顯不面板的響應時間，提尚廣品性能。
【附圖說明】
[0031 ]圖1為現(xiàn)有技術(shù)的第一種彩膜基板結(jié)構(gòu)示意圖；
[0032]圖2為本發(fā)明實施例提供的第一種彩膜基板結(jié)構(gòu)示意圖；
[0033]圖3為本發(fā)明實施例中襯底基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0034]圖4為本發(fā)明實施例提供的第二種彩膜基板結(jié)構(gòu)示意圖；
[0035]圖5為本發(fā)明實施例提供的第三種彩膜基板結(jié)構(gòu)示意圖；
[0036]圖6為本發(fā)明實施例提供的第四種彩膜基板結(jié)構(gòu)示意圖；
[0037]圖7為本發(fā)明實施例提供的顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0038]圖8為本發(fā)明實施例提供彩膜基板的制備方法的流程圖。
【具體實施方式】
[0039]下面結(jié)合說明書附圖對本發(fā)明實施例的實現(xiàn)過程進行詳細說明。需要注意的是，自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的，僅用于解釋本發(fā)明，而不能理解為對本發(fā)明的限制。
[0040]參見圖2，本發(fā)明實施例提供第一種彩膜基板100，包括襯底基板10，襯底基板10具有相對的第一面和第二面，襯底基板10的第一面上形成有多個像素凹槽11，像素凹槽11內(nèi)填充有色阻材料12。
[0041]參見圖3，提供了襯底基板10的示意圖，其中襯底基板10的第一面上形成有多個像素凹槽11。而該彩膜基板100應用于顯示面板時，該些像素凹槽11是與彩膜基板100所匹配的陣列基板上的像素單元一一對應的，在此不再贅述。
[0042]本實施例中，將色阻材料12填充于像素凹槽11內(nèi)，不需要占用襯底基板10自身之外的空間，能夠減小彩膜基板100的整體厚度，應用于顯示面板后，能夠減少顯示面板的響應時間，提尚廣品性能。
[0043]基于圖2提供的彩膜基板100，可以進行多種變型，詳細說明如下:
[0044]例如，如圖4所示，本發(fā)明實施例提供第二種彩膜基板100，包括襯底基板10，襯底基板10具有相對的第一面和第二面，襯底基板10的第一面上形成有多個像素凹槽U?？梢栽谙袼匕疾?1內(nèi)填充固態(tài)的色阻材料12，該色阻材料12的填充厚度可以根據(jù)需要進行設計，優(yōu)選的該色阻材料12的填充厚度小于或等于像素凹槽11的深度。在各像素凹槽11之間的區(qū)域形成黑矩陣14，在黑矩陣14之上形成隔墊物15。但是該種彩膜基板100，色阻材料12未被保護。
[0045]又例如，如圖5所示，本發(fā)明實施例提供第三種彩膜基板100，包括襯底基板10，襯底基板10具有相對的第一面和第二面，襯底基板10的第一面上形成有多個像素凹槽U。可以在像素凹槽11內(nèi)填充固態(tài)或液態(tài)的色阻材料12，該色阻材料12的填充厚度可以根據(jù)需要進行設計，優(yōu)選的該色阻材料12的填充厚度小于或等于像素凹槽11的深度。在各像素凹槽11之間的區(qū)域形成黑矩陣14，在黑矩陣14之上形成隔墊物15，在黑矩陣14覆蓋范圍外的區(qū)域形成樹脂層13，以封蓋像素凹槽11內(nèi)填充的色阻材料12，并對色阻材料12進行保護。由于由樹脂層13對色阻材料12進行封蓋，因此色阻材料12為液態(tài)時也不會影響彩膜基板100的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性，且液態(tài)的色阻材料12中不需要添加固化材料，具有更好的性能，同時液態(tài)的色阻材料具有更廣闊的色度范圍，具有更好的顯示效果。
[0046]又例如，如圖6所示，本發(fā)明實施例提供第四種彩膜基板100，包括襯底基板10，襯底基板10具有相對的第一面和第二面，襯底基板10的第一面上形成有多個像素凹槽U。可以在像素凹槽11內(nèi)填充固態(tài)或液態(tài)的色阻材料12，該色阻材料12的填充厚度可小于像素凹槽11的深度，僅在色阻材料12之上形成樹脂層13，以封蓋像素凹槽11內(nèi)填充的色阻材料12，并對色阻材料12進行保護。當然，樹脂層13與色阻材料12的整體厚度可以大于像素凹槽11的深度，也可以小于或等于像素凹槽11的深度。優(yōu)選的，樹脂層13與色阻材料12的整體厚度等于像素凹槽11的深度，即樹脂層13與襯底基板10的第一面所在平面平齊。在各像素凹槽11之間的區(qū)域形成黑矩陣14，在黑矩陣14之上形成隔墊物15。由于由樹脂層13對色阻材料12進行封蓋，因此色阻材料12為液態(tài)時也不會影響彩膜基板100的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性，且液態(tài)的色阻材料12中不需要添加固化材料，具有更好的性能。
[0047]在色阻材料12的填充厚度小于或等于像素凹槽11的深度情況下，由于色阻材料12的填充厚度不超過像素凹槽11的深度，因此色阻材料12不會超襯底基板10的第一面，能夠減小彩膜基板100的整體厚度；同時，當色阻材料12的填充厚度小于像素凹槽11的深度時，還可以在像素凹槽11再填充其它必須的物質(zhì)(例如樹脂層13)，使樹脂層13不必占用彩膜基板100的縱向空間，可以進一步減小彩膜基板100的整體厚度。
[0048]像素凹槽11的深度是基于襯底基板10的強度和厚度進行調(diào)整的，而基于目前常用的襯底基板10的強度和厚度，優(yōu)選的，像素凹槽11的深度為I?3微米。當然，該像素凹槽11的深度僅是為了對本發(fā)明進行說明，本發(fā)明并不以此為限。
[0049]本發(fā)明實施例有益效果如下:將色阻材料填充于像素凹槽內(nèi)，不需要占用襯底基板自身之外的空間，能夠減小彩膜基板的整體厚度，應用于顯示面板后，能夠減少顯示面板的響應時間，提尚廣品性能。
[0050]參見圖7，本發(fā)明實施例還提供一種顯示面板，包括如上實施例提供的彩膜基板100，還包括與彩膜基板100相對設置的陣列基板200，陣列基板200上設置像素單兀陣列，彩膜基板100和陣列基板200之間還可以設置液晶300，在此不再贅述。
[0051]本發(fā)明實施例有益效果如下:將色阻材料填充于像素凹槽內(nèi)，不需要占用襯底基板自身之外的空間，能夠減小彩膜基板的整體厚度，應用于顯示面板后，能夠減少顯示面板的響應時間，提尚廣品性能。
[0052]參見圖8，基于同樣的發(fā)明思想，本發(fā)明實施例還提供一種彩膜基板制備方法，包括:
[0053]801、提供具有相對的第一面和第二面的襯底基板，在襯底基板的第一面上形成像素凹槽。
[0054]802、在像素凹槽內(nèi)填充色阻材料。
[0055]優(yōu)選的，步驟801中，在襯底基板的第一面上形成像素凹槽，包括:
[0056]在襯底基板的第一面上形成保護層，保護層暴露要形成像素凹槽的區(qū)域；
[0057]將襯底基板經(jīng)刻蝕液浸泡后，清洗襯底基板并去除保護層并形成像素凹槽。
[0058]優(yōu)選的，襯底基板的材料為二氧化硅，刻蝕液為濃度1.4mol/L的氫氟酸，浸泡溫度為25°C，浸泡時長為2?5min ；或者，
[0059]襯底基板的材料為聚甲基丙烯酸甲酯，刻蝕液為濃度40%的堿性溶液，浸泡溫度為50°C，浸泡時長為2?5min。
[0060]優(yōu)選的，步驟802中，在像素凹槽內(nèi)填充色阻材料，包括:
[0061]采用滴注法將液態(tài)的色阻材料滴入像素凹槽，直接在色阻材料上形成樹脂層;或者，
[0062]采用滴注法將液態(tài)的色阻材料滴入像素凹槽，對色阻材料進行固化成形;或者，
[0063]采用滴注法將液態(tài)的色阻材料滴入像素凹槽，對色阻材料進行固化成形，在固化成形后的色阻材料上形成樹脂層。
[0064]優(yōu)選的，還包括在像素凹槽之外的襯底基板的第一面上形成黑矩陣，在黑矩陣上形成多個隔墊物。
[0065]需要說明的是，根據(jù)發(fā)明提供的方法，經(jīng)過調(diào)整在像素凹槽內(nèi)填充的色阻材料的厚度，以及調(diào)整制備樹脂層的厚度，可以制備如圖2、圖4至圖6任意一種彩膜基板100，在此不再贅述。
[0066]本發(fā)明實施例有益效果如下:將色阻材料填充于像素凹槽內(nèi)，不需要占用襯底基板自身之外的空間，能夠減小彩膜基板的整體厚度，應用于顯示面板后，能夠減少顯示面板的響應時間，提尚廣品性能。
[0067]顯然，本領域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種彩膜基板，包括襯底基板，所述襯底基板具有相對的第一面和第二面，其特征在于，所述襯底基板的第一面上形成有多個像素凹槽，所述像素凹槽內(nèi)填充有色阻材料。2.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻材料的填充厚度小于或等于所述像素凹槽的深度。3.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述像素凹槽的深度為I?3微米。4.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻材料之上還形成有樹脂層。5.如權(quán)利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻材料為液態(tài)。6.如權(quán)利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述樹脂層的外表面與所述像素凹槽之外的所述襯底基板的第一面在同一平面。7.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板還包括黑矩陣和多個隔墊物，所述黑矩陣形成于所述像素凹槽之外的所述襯底基板的第一面上，所述隔墊物形成于所述黑矩陣上。8.—種顯示面板，其特征在于，包括如權(quán)利要求1至7任一項所述的彩膜基板。9.一種彩膜基板制備方法，其特征在于，包括: 提供具有相對的第一面和第二面的襯底基板，在所述襯底基板的第一面上形成像素凹槽； 在所述像素凹槽內(nèi)填充色阻材料。10.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，在所述襯底基板的第一面上形成所述像素凹槽，包括: 在所述襯底基板的第一面上形成保護層，所述保護層暴露要形成所述像素凹槽的區(qū)域； 將所述襯底基板經(jīng)刻蝕液浸泡后，清洗所述襯底基板并去除所述保護層并形成所述像素凹槽。11.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，所述襯底基板的材料為二氧化硅，所述刻蝕液為濃度1.4mol/L的氫氟酸，浸泡溫度為25°C，浸泡時長為2?5min;或者， 所述襯底基板的材料為聚甲基丙烯酸甲酯，所述刻蝕液為濃度40%的堿性溶液，浸泡溫度為50°C，浸泡時長為2?5min。12.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，在所述像素凹槽內(nèi)填充所述色阻材料，包括: 采用滴注法將液態(tài)的所述色阻材料滴入所述像素凹槽，直接在色阻材料上形成樹脂層;或者， 采用滴注法將液態(tài)的所述色阻材料滴入所述像素凹槽，對所述色阻材料進行固化成形;或者， 采用滴注法將液態(tài)的所述色阻材料滴入所述像素凹槽，對所述色阻材料進行固化成形，在固化成形后的所述色阻材料上形成樹脂層。13.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，還包括在所述像素凹槽之外的所述襯底基板的第一面上形成黑矩陣，在所述黑矩陣上形成多個隔墊物。
【文檔編號】G02F1/1335GK105974642SQ201610480424
【公開日】2016年9月28日
【申請日】2016年6月27日
【發(fā)明人】宋雪超, 王建, 王春雷
【申請人】京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方光電科技有限公司