一種顯示面板及制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種顯示面板及制作方法，用以通過在出光區(qū)域與背光源之間增設(shè)波導(dǎo)結(jié)構(gòu)，從而將背光源發(fā)出的光經(jīng)波導(dǎo)結(jié)構(gòu)反射整合，集中導(dǎo)入出光區(qū)域，從而在不改變背光源的功耗的前提下，提升了顯示面板的亮度，提高背光源發(fā)出光的利用效率。所述顯示面板包括：背光源以及陣列基板；其中，所述陣列基板包括：出光區(qū)域以及用于將所述背光源發(fā)出光反射至所述出光區(qū)域的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)，其中，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)與所述出光區(qū)域和所述背光源相連。
【專利說明】
一種顯示面板及制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示面板及制作方法。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，隨著顯示技術(shù)的不斷進步。小到手機、平板Pad、虛擬現(xiàn)實面板(VirtualReality，VR)，大道顯示器Monitor面板、電視(Televis1n，TV)面板，人們越來越癡迷于高分辨率(Pixels Per Inch，PPI)顯示效果的追求。然而，由于要保證數(shù)據(jù)信號的有效傳輸，顯示面板中的源漏極線以及柵線的寬度不能設(shè)置的太細，因此，參見圖1，在傳統(tǒng)的薄膜晶體管(Thin Film Transistor，TFT)液晶顯不器(Liquid Crystal Display，LCD)的顯不面板(Panel)中，背光源101是對出光區(qū)域102和非出光區(qū)域103進行均勻照射的，因此隨著顯示面板PPI即像素數(shù)的提高，顯示面板的開口率也不斷下降。為保證顯示面板的顯示亮度，只能提高背光源的亮度。
[0003]綜上所述，隨著顯示面板像素數(shù)量的提高，顯示面板的開口率將不斷下降，為保證顯示面板的顯示亮度，只能提高背光源的亮度，將導(dǎo)致背光源的功耗的提高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明實施例提供了一種顯示面板及制作方法，用以通過在出光區(qū)域與背光源之間增設(shè)波導(dǎo)結(jié)構(gòu)，從而將背光源發(fā)出的光經(jīng)波導(dǎo)結(jié)構(gòu)反射整合，集中導(dǎo)入出光區(qū)域，從而在不改變背光源的功耗的前提下，提升了顯示面板的亮度，提高背光源發(fā)出光的利用效率。
[0005]本發(fā)明實施例提供的一種顯示面板，包括:背光源以及陣列基板;其中，所述陣列基板包括:出光區(qū)域以及用于將所述背光源發(fā)出光反射至所述出光區(qū)域的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)，其中，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)位于所述出光區(qū)域和所述背光源之間。
[0006]本發(fā)明實施例中，通過在出光區(qū)域與背光源之間增設(shè)波導(dǎo)結(jié)構(gòu)，從而將背光源發(fā)出的光經(jīng)波導(dǎo)結(jié)構(gòu)反射整合，集中導(dǎo)入出光區(qū)域，從而在不改變背光源的功耗的前提下，提升了顯示面板的亮度，提高背光源發(fā)出光的利用效率。
[0007]較佳地，所述陣列基板還包括:源漏極以及黑矩陣;若所述源漏極位于所述黑矩陣之下，則所述出光區(qū)域為與所述源漏極同層的像素電極;若所述源漏極位于所述黑矩陣之上，則所述出光區(qū)域為與所述黑矩陣同層的彩膜。
[0008]較佳地，所述陣列基板還包括:偏光片；
[0009]所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)位于所述出光區(qū)域和所述背光源之間，包括:
[0010]所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)位于所述出光區(qū)域和所述偏光片之間，或者所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)位于所述偏光片和所述背光源之間。
[0011]較佳地，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)在所述陣列基板上的投影與所述背光源在所述陣列基板上的投影完全重合。
[0012]本發(fā)明實施例中，波導(dǎo)結(jié)構(gòu)在陣列基板上的投影與背光源在陣列基板上的投影完全重合，即波導(dǎo)結(jié)構(gòu)在背光源上的投影與背光源完全重合，將使得背光源發(fā)出的光經(jīng)波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的反射全都射向出光區(qū)域，提升了顯示面板的亮度，提高背光源發(fā)出光的利用效率，也提升了該顯示面板的開口率。
[0013]較佳地，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)與所述出光區(qū)域的接觸面積小于所述出光區(qū)域的面積。
[0014]較佳地，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的側(cè)面為曲面，其中，所述曲面的曲率為根據(jù)所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的折射率以及所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的高度確定的。
[0015]本發(fā)明實施例中，通過波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的側(cè)面為曲面，從而實現(xiàn)背光源發(fā)出的光全部射向出光區(qū)域，避免漏光，降低了背光源發(fā)出光的利用效率。
[0016]較佳地，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的側(cè)面為平面，其中，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的側(cè)面與底面的夾角大于或等于60度，且小于等于80度。
[0017]較佳地，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)包括:透明介質(zhì)微波導(dǎo)陣列結(jié)構(gòu)或金屬空腔反射型微波導(dǎo)陣列結(jié)構(gòu)。
[0018]較佳地，所述金屬空腔反射型微波導(dǎo)陣列結(jié)構(gòu)的內(nèi)壁為光滑內(nèi)壁。
[0019]本發(fā)明實施例中，透明介質(zhì)微波導(dǎo)陣列結(jié)構(gòu)防止波導(dǎo)結(jié)構(gòu)吸光。
[0020]較佳地，所述陣列基板包括多個波導(dǎo)結(jié)構(gòu)，在相鄰所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)之間，所述陣列基板還包括:空氣或折射率小于所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的填充物。
[0021 ]較佳地，所述填充物為透明的填充物。
[0022]本發(fā)明實施例中，在相鄰波導(dǎo)結(jié)構(gòu)之間填充空氣或折射率小于所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的填充物，進一步避免了背光板發(fā)出的光由于折射導(dǎo)致的光損耗。
[0023]較佳地，所述背光源為有機發(fā)光二極管OLED背板，或者為發(fā)光二極管與導(dǎo)光板的組成的背光源，或者為冷陰極熒光燈管CCFL背板。
[0024]本發(fā)明實施例提供的一種所述顯示面板的制作方法，該方法包括:
[0025]在背光源的基礎(chǔ)上，形成用于將所述背光源發(fā)出光反射至所述出光區(qū)域的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)；
[0026]在形成的所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)之上，形成所述出光區(qū)域。
[0027]本發(fā)明實施例中，通過在彩膜層與背光源之間增設(shè)波導(dǎo)結(jié)構(gòu)，從而將背光源發(fā)出的光經(jīng)波導(dǎo)結(jié)構(gòu)進行反射，實現(xiàn)將背光源發(fā)出的光進行整合，集中導(dǎo)入像素區(qū)，從而提高背光源發(fā)出光的利用效率，在不改變背光源的功耗的前提下，提升了顯示面板的亮度。
[0028]較佳地，若所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的側(cè)面為平面，則所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的側(cè)面與底面的夾角大于或等于60度，且小于或等于80度。
[0029]較佳地，若所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的側(cè)面為曲面，則所述曲面的曲率為根據(jù)所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的折射率以及所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的高度確定的。
[0030]較佳地，形成所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的方法包括:光刻顯影工藝或納米壓印工藝或激光干涉工藝。
[0031]較佳地，若所述出光區(qū)域為與源漏極同層的像素電極，形成所述出光區(qū)域，包括:形成像素電極以及源漏極；
[0032]若所述出光區(qū)域為與黑矩陣同層的彩膜，形成所述出光區(qū)域，包括:形成彩膜以及黑矩陣。
[0033]較佳地，在形成用于將所述背光源發(fā)出光反射至所述出光區(qū)域的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)之后，在形成所述出光區(qū)域之前，該方法還包括:
[0034]在形成的相鄰的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)之間，填充空氣或折射率小于所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的填充物。
[0035]較佳地，所述填充物為透明的填充物。
【附圖說明】
[0036]圖1為現(xiàn)有的顯示面板發(fā)光的原理示意圖；
[0037]圖2a為本發(fā)明實施例提供的一種顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0038]圖2b為本發(fā)明實施例提供的一種顯示面板發(fā)光的原理示意圖；
[0039]圖3a為本發(fā)明實施例提供的一種顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0040]圖3b為本發(fā)明實施例提供的一種顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0041 ]圖3c為本發(fā)明實施例提供的一種顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0042]圖3d為本發(fā)明實施例提供的一種顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0043]圖4為本發(fā)明實施例提供的一種顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0044]圖5為本發(fā)明實施例提供的一種顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0045]圖6為本發(fā)明實施例提供的一種顯示面板的流程示意圖。
【具體實施方式】
[0046]本發(fā)明實施例提供了一種顯示面板及制作方法，用以通過在出光區(qū)域與背光源之間增設(shè)波導(dǎo)結(jié)構(gòu)，從而將背光源發(fā)出的光經(jīng)波導(dǎo)結(jié)構(gòu)反射整合，集中導(dǎo)入出光區(qū)域，從而在不改變背光源的功耗的前提下，提升了顯示面板的亮度，提高背光源發(fā)出光的利用效率。
[0047]下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。
[0048]參見圖2a，本發(fā)明實施例提供了一種顯示面板，包括:背光源101以及陣列基板201;其中，所述陣列基板包括:出光區(qū)域202以及用于將所述背光源101發(fā)出光反射至所述出光區(qū)域的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)203，其中，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)203位于所述出光區(qū)域202和所述背光源101之間。
[0049]參見圖2b，通過在彩膜層與背光源之間增設(shè)波導(dǎo)結(jié)構(gòu)，將背光源101發(fā)出的光經(jīng)波導(dǎo)結(jié)構(gòu)203進行整合，集中導(dǎo)入到陣列基板的出光區(qū)域202，從而在不改變背光源的消耗功率的前提下，提升了顯示面板的亮度，提高了背光源發(fā)出光的利用效率。
[0050]具體地，參見圖3a和圖3b，所述陣列基板還包括:源漏極301以及黑矩陣302;若所述源漏極301位于所述黑矩陣302之下，則所述出光區(qū)域202為與所述源漏極301同層的像素電極303;若所述源漏極301位于所述黑矩陣302之上，則所述出光區(qū)域202為與所述黑矩陣302同層的彩膜304。
[0051 ]具體地，參見圖3c和圖3d，所述陣列基板還包括:偏光片305;
[0052]波導(dǎo)結(jié)構(gòu)203位于出光區(qū)域202和背光源101之間，包括:
[0053]波導(dǎo)結(jié)構(gòu)203位于出光區(qū)域202和偏光片305之間，或者波導(dǎo)結(jié)構(gòu)203位于偏光片305和背光源101之間。
[0054]具體地，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)203在所述陣列基板201上的投影與所述背光源101在所述陣列基板201上的投影完全重合。
[0055]本發(fā)明實施例中，波導(dǎo)結(jié)構(gòu)在陣列基板上的投影與背光源在陣列基板上的投影完全重合，即波導(dǎo)結(jié)構(gòu)在背光源上的投影與背光源完全重合，背光源發(fā)出的光將完全射入波導(dǎo)結(jié)構(gòu)，通過波導(dǎo)結(jié)構(gòu)將射入的光進行整合，集中射入陣列基板的出光區(qū)域。
[0056]具體地，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)203與所述出光區(qū)域202的接觸面積小于所述出光區(qū)域202的面積。具體參見圖4中圓圈401中所示。假設(shè)所述出光區(qū)域202的開口寬度M為23微米，所述黑矩陣302的截面寬度N為5微米，則所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)203的下端寬度B為28微米，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)203的上端寬度A為18微米，即波導(dǎo)結(jié)構(gòu)203與出光區(qū)域202的接觸面積小于出光區(qū)域202的面積，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)203的高度H為8.7微米。
[0057]具體地，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)203的側(cè)面為曲面，其中，所述曲面的曲率為根據(jù)所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的折射率以及所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的高度確定的。
[0058]具體地，參見圖5，參見圖所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)203的側(cè)面為平面，其中，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的側(cè)面與底面的夾角β大于或等于60度，且大于或等于80度。
[0059]具體地，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)包括:透明介質(zhì)微波導(dǎo)陣列結(jié)構(gòu)或金屬空腔反射型微波導(dǎo)陣列結(jié)構(gòu)。
[0060]具體地，所述陣列基板包括多個波導(dǎo)結(jié)構(gòu)，在相鄰所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)之間，所述陣列基板還包括:空氣或折射率小于所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的填充物。
[0061]具體地，所述背光源為有機發(fā)光二極管(Organic Light-Emitting D1de,OLED)背板，或者為發(fā)光二極管與導(dǎo)光板的組成的背光源，或者為冷陰極熒光燈管(Cold CathodeFluorescent Lamp，CCFL)背板。
[0062]參見圖6，本發(fā)明實施例提供的一種上述顯示面板的制作方法，包括:
[0063]S601、在背光源的基礎(chǔ)上，形成用于將所述背光源發(fā)出光反射至所述出光區(qū)域的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)；
[0064]S602、在形成的所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)之上，形成所述出光區(qū)域。
[0065]具體地，步驟S601中形成所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的方法包括:光刻顯影工藝或納米壓印工藝或激光干涉工藝。
[0066]具體地，若所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的側(cè)面為平面，則形成所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)一般為光刻顯影工藝。其中，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的側(cè)面與底面的夾角大于或等于60度，且小于或等于80度。
[0067]具體地，若所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的側(cè)面為曲面，則形成所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)一般為納米壓印工藝或激光干涉工藝。其中，所述曲面的曲率為根據(jù)所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的折射率以及所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的高度確定的。
[0068]其中，所述納米壓印工藝，包括:
[0069]采用激光干涉工藝制備一維或二維的正弦光柵陣列，用作壓印母模板;采用負光刻膠，對正面進行曝光;采用納米壓印工藝，在涂布好壓印膠的襯底基板上壓出預(yù)設(shè)圖案；脫模，在所述襯底基板上形成所需的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)。其中，所述襯底基板為在所述背光源的基礎(chǔ)上形成的。
[0070]其中，所述激光干涉工藝，包括:
[0071]采用激光干涉工藝制備一維或二維的波導(dǎo)結(jié)構(gòu);采用負光刻膠，對正面進行曝光；通過顯影工藝在襯底基板上形成所需的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)。其中，所述襯底基板為在所述背光源的基礎(chǔ)上形成的。
[0072]具體地，若所述出光區(qū)域為與源漏極同層的像素電極，則步驟S602包括:
[0073]在形成的所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)之上，形成像素電極以及源漏極；
[0074]若所述出光區(qū)域為與黑矩陣同層的彩膜，則步驟S602包括:
[0075]在形成的所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)之上，形成彩膜以及黑矩陣。
[0076]具體地，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)在所述陣列基板上的投影與所述背光源在所述陣列基板上的投影完全重合。
[0077]具體地，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)與所述出光區(qū)域的接觸面積小于所述出光區(qū)域的面積。
[0078]具體地，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)包括:透明介質(zhì)微波導(dǎo)陣列結(jié)構(gòu)或金屬空腔反射型微波導(dǎo)陣列結(jié)構(gòu)。
[0079]具體地，在步驟S601之后，在步驟S602之前，該方法還包括:
[0080]在形成的相鄰的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)之間，填充空氣或折射率小于所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的填充物。其中，所述填充物為透明的填充物。
[0081]具體地，所述背光源為有機發(fā)光二極管OLED背板，或者為發(fā)光二極管與導(dǎo)光板的組成的背光源，或者為冷陰極熒光燈管CCFL背板。
[0082]綜上所述，本發(fā)明實施例提供了一種顯示面板及制作方法，用以通過在出光區(qū)域與背光源之間增設(shè)波導(dǎo)結(jié)構(gòu)，從而將背光源發(fā)出的光經(jīng)波導(dǎo)結(jié)構(gòu)反射整合，集中導(dǎo)入出光區(qū)域，從而在不改變背光源的功耗的前提下，提升了顯示面板的亮度，提高背光源發(fā)出光的利用效率。
[0083]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種顯示面板，其特征在于，所述顯示面板中的陣列基板包括:出光區(qū)域以及用于將所述顯示面板中的背光源發(fā)出光反射至所述出光區(qū)域的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)，其中，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)位于所述出光區(qū)域和所述背光源之間。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，若所述陣列基板中的源漏極位于所述陣列基板中的黑矩陣之下，則所述出光區(qū)域為與所述源漏極同層的像素電極;若所述源漏極位于所述黑矩陣之上，則所述出光區(qū)域為與所述黑矩陣同層的彩膜。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)位于所述出光區(qū)域和所述背光源之間，包括: 所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)位于所述出光區(qū)域和所述陣列基板中的偏光片之間，或者所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)位于所述偏光片和所述背光源之間。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)在所述陣列基板上的投影與所述背光源在所述陣列基板上的投影完全重合。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示面板，其特征在于，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)與所述出光區(qū)域的接觸面積小于所述出光區(qū)域的面積。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的側(cè)面為曲面，其中，所述曲面的曲率為根據(jù)所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的折射率以及所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的高度確定的。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的側(cè)面為平面，其中，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的側(cè)面與底面的夾角大于或等于60度，且小于或等于80度。8.根據(jù)權(quán)利要求1?7任一項所述的顯示面板，其特征在于，所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)包括:透明介質(zhì)微波導(dǎo)陣列結(jié)構(gòu)或金屬空腔反射型微波導(dǎo)陣列結(jié)構(gòu)。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述陣列基板包括多個波導(dǎo)結(jié)構(gòu)，在相鄰所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)之間，所述陣列基板還包括:空氣或折射率小于所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的填充物。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示面板，其特征在于，所述填充物為透明的填充物。11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述背光源為有機發(fā)光二極管OLED背板，或者為發(fā)光二極管與導(dǎo)光板的組成的背光源，或者為冷陰極熒光燈管CCFL背板。12.—種權(quán)利要求1?11任一項所述顯示面板的制作方法，其特征在于，該方法包括: 在背光源的基礎(chǔ)上，形成用于將所述背光源發(fā)出光反射至所述出光區(qū)域的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)； 在形成的所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)之上，形成所述出光區(qū)域。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制作方法，其特征在于，若所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的側(cè)面為平面，則所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的側(cè)面與底面的夾角大于或等于60度，且小于或等于80度。14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制作方法，其特征在于，若所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的側(cè)面為曲面，則所述曲面的曲率為根據(jù)所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的折射率以及所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的高度確定的。15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制作方法，其特征在于，形成所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的方法包括:光刻顯影工藝或納米壓印工藝或激光干涉工藝。16.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制作方法，其特征在于，若所述出光區(qū)域為與源漏極同層的像素電極，則形成所述出光區(qū)域包括:形成像素電極以及源漏極； 若所述出光區(qū)域為與黑矩陣同層的彩膜，則形成所述出光區(qū)域包括:形成彩膜以及黑矩陣。17.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制作方法，其特征在于，在形成用于將所述背光源發(fā)出光反射至所述出光區(qū)域的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)之后，在形成所述出光區(qū)域之前，該方法還包括: 在形成的相鄰的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)之間，填充空氣或折射率小于所述波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的填充物。18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的制作方法，其特征在于，所述填充物為透明的填充物。
【文檔編號】G02F1/13357GK105974671SQ201610592897
【公開日】2016年9月28日
【申請日】2016年7月25日
【發(fā)明人】王維, 楊亞鋒, 陳小川, 譚紀風, 高健, 馬新利, 黃應(yīng)龍, 董學(xué)
【申請人】京東方科技集團股份有限公司