光刻版、互連線圖形的光刻方法及互連線的制備方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種光刻版、互連線圖形的光刻方法及互連線的制備方法，通過(guò)將第一互連線圖形的一端設(shè)計(jì)為具有多級(jí)臺(tái)階狀邊緣的圖形，通過(guò)調(diào)節(jié)臺(tái)階的高度與臺(tái)階的寬度的大小及比例來(lái)控制多級(jí)臺(tái)階狀邊緣經(jīng)OPC修正后的傾斜角，解決了現(xiàn)有工藝中由于設(shè)計(jì)規(guī)則限制，只能制備45°或90°傾斜角的互連線的問(wèn)題，實(shí)現(xiàn)了互連線傾斜角的自由可調(diào)，為提高器件的性能提供了一種可行性途徑。
【專利說(shuō)明】
光刻版、互連線圖形的光刻方法及互連線的制備方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明設(shè)及半導(dǎo)體工藝技術(shù)領(lǐng)域，具體設(shè)及一種用于制備互連線的光刻版、互連 線圖形的光刻方法及互連線的制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 在半導(dǎo)體設(shè)計(jì)制造中，版圖圖形由于受到設(shè)計(jì)規(guī)則的限制，圖形邊界的傾角只能 為0°，45°或90%其它角度不被允許，因此無(wú)法直接設(shè)計(jì)除0°、45°和90°角度之外的圖形結(jié) 構(gòu)。影響器件性能的參數(shù)很多，例如多晶娃電烙絲器件，其電遷移性能受到包括工作電流聚 焦，焦耳熱，溫度梯度，晶粒結(jié)構(gòu)，晶粒取向，接口組織，應(yīng)力梯度，合金成分，互連尺寸及形 狀等參數(shù)的影響。其中，互連形狀會(huì)嚴(yán)重影響多晶娃電烙絲器件的性能。
[0003] 在實(shí)際工藝制程中，互連角度不宜太大，因?yàn)楣饪虝r(shí)存在轉(zhuǎn)角圓化效應(yīng)，會(huì)導(dǎo)致互 連尺寸的均勻性變差，因此一般不選用90°，而折中選用45°的互連角度。然而，由于設(shè)計(jì)規(guī) 則的限制，器件的互連角度設(shè)計(jì)僅有45°和90°兩種選擇，不僅大大限制了器件的設(shè)計(jì)空間， 也制約了對(duì)器件性能的提升手段。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004] 為了克服W上問(wèn)題，本發(fā)明旨在提供一種用于制備互連線的光刻版，在互連線的 連接處設(shè)計(jì)臺(tái)階，使得互連線連接處可W任意角度傾斜。
[0005] 為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供了用于制備互連線的光刻版，光刻版中包括第一 互連線圖形W及與第一互連線圖形相連接的第二互連線圖形;第一互連線圖形的一端為具 有多級(jí)臺(tái)階狀邊緣的圖形，具有多級(jí)臺(tái)階狀邊緣的圖形與第二互連線圖形連接;通過(guò)調(diào)節(jié) 多級(jí)臺(tái)階狀邊緣中臺(tái)階的高度和寬度的大小及比例來(lái)控制所述多級(jí)臺(tái)階狀邊緣經(jīng)OPC修正 后的傾斜角，使得多級(jí)臺(tái)階狀邊緣經(jīng)OPC修正后的傾斜角的正切值等于臺(tái)階的高度與臺(tái)階 的寬度的比值。
[0006] 優(yōu)選地，所述臺(tái)階的高度為10~150nm。
[0007] 優(yōu)選地，所述臺(tái)階的寬度為10~150nm。
[000引優(yōu)選地，第一互連線圖形的具有多級(jí)臺(tái)階狀邊緣的一端為紡鍵型。
[0009] 優(yōu)選地，所述傾斜角為0~90°。
[0010] 為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明還提供了一種采用上述的光刻版進(jìn)行的互連線圖形的 光刻方法，其包括:首先，在一襯底上形成光刻膠;然后，采用所述光刻版，在所述光刻膠中 曝光具有多級(jí)臺(tái)階狀邊緣的第一互連線圖形，W及與第一互連線圖形相連接的第二互連線 圖形。
[0011] 優(yōu)選地，所述第一互連線圖形的多級(jí)臺(tái)階狀邊緣在光刻后形成的傾斜角為0~90° 的直線圖形邊緣。
[0012] 為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明還提供了一種采用上述的光刻版來(lái)制備互連線的方 法，其包括：
[oou]提供一娃襯底；
[0014] 采用所述光刻版，經(jīng)光刻和刻蝕工藝在所述娃襯底中形成第一互連線、W及與第 一互連線相連接的第二互連線；
[0015] 優(yōu)選地，所述第一互連線的多級(jí)臺(tái)階狀邊緣經(jīng)光刻和刻蝕后形成的傾斜角為0~ 90°的直線圖形邊緣。
[0016] 本發(fā)明的用于制備互連線的光刻版、互連線圖形的光刻方法及互連線的制備方 法，通過(guò)將第一互連線圖形的一端設(shè)計(jì)為具有多級(jí)臺(tái)階狀邊緣的圖形，通過(guò)調(diào)節(jié)臺(tái)階的高 度與臺(tái)階的寬度的大小及比例來(lái)控制多級(jí)臺(tái)階狀邊緣經(jīng)OPC修正后的傾斜角，解決了現(xiàn)有 工藝中只能制備45°或90°的傾斜角的互連線的問(wèn)題，實(shí)現(xiàn)了互連線傾斜角的自由可調(diào)，為 提高器件的性能提供了一種可行性途徑。
【附圖說(shuō)明】
[0017] 圖1為本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例的呈45°傾斜的互連線的圖形示意圖
[0018] 圖2為本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例的呈30°傾斜的互連線的圖形示意圖
[0019] 圖3為本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例的呈60°傾斜的互連線的圖形示意圖
【具體實(shí)施方式】
[0020] 為使本發(fā)明的內(nèi)容更加清楚易懂，W下結(jié)合說(shuō)明書(shū)附圖，對(duì)本發(fā)明的內(nèi)容作進(jìn)一 步說(shuō)明。當(dāng)然本發(fā)明并不局限于該具體實(shí)施例，本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員所熟知的一般替換也 涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
[0021] W下結(jié)合附圖1-3和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。需說(shuō)明的是，附圖均 采用非常簡(jiǎn)化的形式、使用非精準(zhǔn)的比例，且僅用W方便、清晰地達(dá)到輔助說(shuō)明本實(shí)施例的 目的。
[0022] 本實(shí)施例的用于制備互連線的光刻版，互連線為多晶娃電烙絲的互連線；需要說(shuō) 明的是，本發(fā)明中互連線不局限于為多晶娃電烙絲的互連線。請(qǐng)參閱1-3,其中，圖1中左邊 為具有多級(jí)臺(tái)階狀邊緣的互連線圖形的示意圖，圖1中右邊為圖1左邊的圖形經(jīng)OPC修正后 的具有45°傾斜邊的互連線圖形的示意圖；圖2中左邊為具有多級(jí)臺(tái)階狀邊緣的互連線圖形 的示意圖，圖2中右邊為圖2左邊的圖形經(jīng)OPC修正后的具有30°傾斜邊的互連線圖形的示意 圖；圖3中左邊為具有多級(jí)臺(tái)階狀邊緣的互連線圖形的示意圖，圖3中右邊為圖3左邊的圖形 經(jīng)OPC修正后的具有60°傾斜邊的互連線圖形的示意圖；光刻版中包括第一互連線圖形IW 及與第一互連線圖形1相連接的第二互連線圖形2,第一互連線圖形1的一端為具有多級(jí)臺(tái) 階狀邊緣的紡鍵型圖形;具有多級(jí)臺(tái)階狀邊緣的紡鍵型圖形與第二互連線圖形2連接;通過(guò) 調(diào)節(jié)具有多級(jí)臺(tái)階狀邊緣的紡鍵型圖形中臺(tái)階的高度H和寬度W的比例來(lái)控制多級(jí)臺(tái)階狀 邊緣經(jīng)OPC修正后的傾斜角，使得多級(jí)臺(tái)階狀邊緣經(jīng)OPC修正后的傾斜角的正切值等于臺(tái)階 的高度H與臺(tái)階的寬度W的比值，從而實(shí)現(xiàn)了多晶娃電烙絲互連線的傾斜角在0~90°內(nèi)任意 選擇。并且，傾斜角的正切值等于臺(tái)階的高度H與臺(tái)階的寬度W的比值，臺(tái)階的高度H為10~ 150nm，臺(tái)階的寬度W為10~150nm。
[0023] 如表一和附圖1-3所示，通過(guò)設(shè)計(jì)=組不同高度和寬度比例的臺(tái)階，分別實(shí)現(xiàn)了多 級(jí)臺(tái)階狀圖形傾角在30°、45°和60°的選擇。
[0024]
[0025] 由此可見(jiàn)，本發(fā)明攻克了現(xiàn)有技術(shù)中版圖設(shè)計(jì)時(shí)，互連線的連接處的傾斜角度只 能在45°和90°之間選擇的弊端。
[0026] 此外，本發(fā)明還提供了一種采用上述的光刻版進(jìn)行的互連線圖形的光刻方法，包 括:首先，在一襯底上形成光刻膠;然后，采用光刻版，在光刻膠中曝光一端具有多級(jí)臺(tái)階狀 邊緣的圖形的第一互連線圖形，W及與第一互連線圖形的具有多級(jí)臺(tái)階狀邊緣的一端相連 接的第二互連線圖形。第一互連線圖形具有多級(jí)臺(tái)階狀邊緣，光刻后形成的傾斜角為0~ 90°的直線圖形邊緣。
[0027] 本發(fā)明還提供了一種采用上述的光刻版來(lái)制備互連線的方法，包括：
[00巧]提供一娃襯底；
[0029] 采用光刻版，將一端具有多級(jí)臺(tái)階狀邊緣的第一互連線、W及與第一互連線中具 有多級(jí)臺(tái)階狀邊緣的一端相連接的第二互連線，經(jīng)光刻和刻蝕工藝形成在娃襯底中；
[0030] 其中，第一互連線具有多級(jí)臺(tái)階狀邊緣，經(jīng)光刻和刻蝕后形成的傾斜角為0~90° 的直線圖形邊緣。
[0031] 雖然本發(fā)明已W較佳實(shí)施例掲示如上，然所述實(shí)施例僅為了便于說(shuō)明而舉例而 已，并非用W限定本發(fā)明，本領(lǐng)域的技術(shù)人員在不脫離本發(fā)明精神和范圍的前提下可作若 干的更動(dòng)與潤(rùn)飾，本發(fā)明所主張的保護(hù)范圍應(yīng)W權(quán)利要求書(shū)所述為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種用于制備互連線的光刻版，光刻版中包括第一互連線圖形以及與第一互連線圖 形相連接的第二互連線圖形;其特征在于，第一互連線圖形的一端為具有多級(jí)臺(tái)階狀邊緣 的圖形，具有多級(jí)臺(tái)階狀邊緣的圖形與第二互連線圖形連接;通過(guò)調(diào)節(jié)多級(jí)臺(tái)階狀邊緣中 臺(tái)階的高度和寬度的大小及比例來(lái)控制所述多級(jí)臺(tái)階狀邊緣經(jīng)OPC修正后的傾斜角，使得 多級(jí)臺(tái)階狀邊緣經(jīng)OPC修正后的傾斜角的正切值等于臺(tái)階的高度與臺(tái)階的寬度的比值。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻版，其特征在于，所述臺(tái)階的高度為10~150nm。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻版，其特征在于，所述臺(tái)階的寬度為10~150nm。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻版，其特征在于，第一互連線圖形的具有多級(jí)臺(tái)階狀邊緣 的一端為紡錘型。5. 根據(jù)權(quán)利要求1-4任意一項(xiàng)所述的光刻版，其特征在于，所述傾斜角為0~90°。6. -種采用權(quán)利要求1所述的光刻版進(jìn)行的互連線圖形的光刻方法，其特征在于，包 括:首先，在一襯底上形成光刻膠;然后，采用所述光刻版，在所述光刻膠中曝光具有多級(jí)臺(tái) 階狀邊緣的第一互連線圖形，以及與第一互連線圖形相連接的第二互連線圖形。7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的光刻方法，其特征在于，所述第一互連線圖形的多級(jí)臺(tái)階狀邊 緣在光刻后形成的傾斜角為〇~90°的直線圖形邊緣。8. -種采用權(quán)利要求1所述的光刻版來(lái)制備互連線的方法，其特征在于，包括： 提供一娃襯底； 采用所述光刻版，經(jīng)光刻和刻蝕工藝在所述硅襯底中形成第一互連線、以及與第一互 連線相連接的第二互連線。9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述第一互連線的多級(jí)臺(tái)階狀邊緣經(jīng)光刻 和刻蝕后形成的傾斜角為0~90°的直線圖形邊緣。
【文檔編號(hào)】H01L21/027GK106019813SQ201610370155
【公開(kāi)日】2016年10月12日
【申請(qǐng)日】2016年5月30日
【發(fā)明人】張?jiān)掠? 于世瑞, 蔣斌杰, 張瑜
【申請(qǐng)人】上海華力微電子有限公司