一種具有防水照度計(jì)的浸潤式光刻機(jī)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于半導(dǎo)體集成電路工藝技術(shù)領(lǐng)域，更具體的，涉及一種具有防水照度計(jì)的浸潤式光刻機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]在半導(dǎo)體技術(shù)中，光刻的本質(zhì)是把臨時(shí)電路結(jié)構(gòu)復(fù)制到以后要進(jìn)行刻蝕和離子注入的硅片上。光刻使用光敏光刻膠材料和可控制的曝光，在硅片表面形成三維圖形。
[0003]光刻中一個(gè)重要的性能指標(biāo)是每個(gè)圖形的分辨率。為了提高分辨率，更先進(jìn)的浸潤式光刻得以發(fā)展。在傳統(tǒng)的光刻技術(shù)中，光刻機(jī)投影鏡頭與硅片上的光刻膠之間的介質(zhì)是空氣。
[0004]浸潤式光刻是指在光刻機(jī)投影鏡頭與硅片之間用一種液體充滿，從而獲得更好的分辨率及增大鏡頭的數(shù)值孔徑，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)更小曝光尺寸的一種新型光刻技術(shù)。浸潤式光刻技術(shù)利用了光通過液體介質(zhì)后光源波長縮短的原理來提高分辨率，其縮短的倍率即為液體介質(zhì)的折射率。目前，主流的液體介質(zhì)是超純水(Ultra pure water，UPW)，使用超純水作為浸潤介質(zhì)的浸潤式光刻，可將投影光源的波長縮短約1.4倍(水的折射率約為1.4)，分辨率比傳統(tǒng)的光刻技術(shù)得到明顯提高。
[0005]請(qǐng)參閱圖1，圖1為傳統(tǒng)光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖，光刻機(jī)從上往下依次包括光源、掩膜板以及投射物鏡，投射物鏡的下方設(shè)有待光刻的硅片。在光刻工藝中，需要采用照度計(jì)對(duì)投射到硅片表面的光量進(jìn)行測(cè)量，隨著浸潤式光刻的普及，由于光刻機(jī)投影鏡頭與硅片之間充滿了液體，傳統(tǒng)的照度計(jì)無法對(duì)浸潤式光刻機(jī)上的硅片進(jìn)行測(cè)量。因此，本領(lǐng)域技術(shù)人員亟需研發(fā)一種具有防水照度計(jì)的浸潤式光刻機(jī)，以避免傳統(tǒng)照度計(jì)受到浸潤介質(zhì)的干擾。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0006]本實(shí)用新型的目的是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在上述缺陷，提供了一種具有防水照度計(jì)的浸潤式光刻機(jī)，以避免傳統(tǒng)照度計(jì)受到浸潤介質(zhì)的干擾。
[0007]為解決上述問題，本實(shí)用新型提供一種具有防水照度計(jì)的浸潤式光刻機(jī)，用于對(duì)硅片進(jìn)曝光，其包括從上往下依次設(shè)置的光源、掩膜板以及投射物鏡，所述投射物鏡的下方設(shè)有待曝光的娃片，還包括:
[0008]照度計(jì)，用于采集硅片表面投射的光量，放置在所述硅片的表面，所述照度計(jì)的表面涂覆有防水涂層；
[0009]處理單元，與所述照度計(jì)連接，用于接收所述照度計(jì)采集的光量值，并對(duì)其進(jìn)行分析處理；
[0010]浸潤部件，用于提供浸潤介質(zhì)，設(shè)于所述投射物鏡下方的圓周方向上，所述浸潤部件包括液體供應(yīng)管道以及液體回收管道，所述液體供應(yīng)管道以及液體回收管道分別設(shè)于所述投射物鏡的兩側(cè)，其中，浸潤介質(zhì)從液體供應(yīng)管道流出，并從液體回收管道回收，形成浸潤介質(zhì)的循環(huán)供給。
[0011]優(yōu)選的，所述照度計(jì)包括依次連接的光量傳感器、A/D轉(zhuǎn)換模塊、微控制模塊以及通信模塊，所述光量傳感器將采集的光量數(shù)據(jù)經(jīng)過A/D轉(zhuǎn)換模塊轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號(hào)后傳輸至微控制模塊，微控制模塊讀取數(shù)據(jù)后傳輸至通信模塊，由所述通信模塊將光量數(shù)據(jù)通過無線網(wǎng)絡(luò)傳輸至所述處理單元。
[0012]優(yōu)選的，所述防水涂層的厚度為10 μπι?100 μπι。
[0013]優(yōu)選的，所述照度計(jì)具有顯示單元，所述顯示單元用于顯示硅片表面測(cè)量的光量值。
[0014]優(yōu)選的，所述處理單元設(shè)在所述照度計(jì)內(nèi)部。
[0015]優(yōu)選的，所述照度計(jì)通過無線網(wǎng)絡(luò)與計(jì)算機(jī)連接，所述計(jì)算機(jī)內(nèi)部設(shè)有處理單元。
[0016]優(yōu)選的，所述硅片被夾持在工件臺(tái)上。
[0017]從上述技術(shù)方案可以看出，本實(shí)用新型提供的具有防水照度計(jì)的浸潤式光刻機(jī)，通過在照度計(jì)的表面設(shè)置防水涂層，使照度計(jì)可接觸浸潤介質(zhì)，避免了傳統(tǒng)照度計(jì)受到浸潤液的干擾，從而提高了照度計(jì)檢測(cè)光量的準(zhǔn)確性。
【附圖說明】
[0018]結(jié)合附圖，并通過參考下面的詳細(xì)描述，將會(huì)更容易地對(duì)本實(shí)用新型有更完整的理解并且更容易地理解其伴隨的優(yōu)點(diǎn)和特征，其中:
[0019]圖1是傳統(tǒng)光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖2是本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例的浸潤式光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0021][圖中附圖標(biāo)記]:
[0022]10、光源；20、掩膜板；30、投射物鏡；40、硅片；50、液體供應(yīng)管道；60、液體回收管道；70、照度計(jì)；80、浸潤介質(zhì)。
【具體實(shí)施方式】
[0023]為使本實(shí)用新型的內(nèi)容更加清楚易懂，以下結(jié)合說明書附圖，對(duì)本實(shí)用新型的內(nèi)容作進(jìn)一步說明。當(dāng)然本實(shí)用新型并不局限于該具體實(shí)施例，本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員所熟知的一般替換也涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。其次，本實(shí)用新型利用示意圖進(jìn)行了詳細(xì)的表述，在詳述本實(shí)用新型實(shí)例時(shí)，為了便于說明，示意圖不依照一般比例局部放大，不應(yīng)以此作為對(duì)本實(shí)用新型的限定。
[0024]需要說明的是，在下述的實(shí)施例中，利用圖2的結(jié)構(gòu)示意圖對(duì)按本實(shí)用新型具有防水照度計(jì)的浸潤式光刻機(jī)進(jìn)行了詳細(xì)的表述。在詳述本實(shí)用新型的實(shí)施方式時(shí)，為了便于說明，各示意圖不依照一般比例繪制并進(jìn)行了局部放大及省略處理，因此，應(yīng)避免以此作為對(duì)本實(shí)用新型的限定。
[0025]請(qǐng)參閱圖2，圖2是本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例的浸潤式光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0026]如圖2所示，本實(shí)用新型提供了一種具有防水照度計(jì)的浸潤式光刻機(jī)，用于對(duì)硅片進(jìn)曝光，其包括從上往下依次設(shè)置的光源10、掩膜板20以及投射物鏡30，所述投射物鏡30的下方設(shè)有待曝光的硅片40，硅片40被夾持在工件臺(tái)上，光刻機(jī)還包括浸潤部件、照度計(jì)70以及處理單元。
[0027]具體的，浸潤部件用于提供浸潤介質(zhì)，設(shè)于投射物鏡30下方的圓周方向上，浸潤部件包括液體供應(yīng)管道50以及液體回收管道60，液體供應(yīng)管道50以及液體回收管道60分別設(shè)于投射物鏡30的兩側(cè)，其中，浸潤介質(zhì)從液體供應(yīng)管道50流出，并從液體回收管道60回收，形成浸潤介質(zhì)80的循環(huán)供給；浸潤部件將一層區(qū)域固定、但水流不斷的浸潤介質(zhì)80源源不斷的固定在投射物鏡30與硅片40之間，使所有的曝光光線從投射物鏡30射向浸潤介質(zhì)80，最終到達(dá)硅片40表面。本實(shí)施例中的浸潤介質(zhì)80優(yōu)選為超純水。
[0028]本實(shí)施例中的照度計(jì)70用于采集硅片40表面投射的光量，放置在硅片40的表面，照度計(jì)70包括依次連接的光量傳感器、A/D轉(zhuǎn)換模塊、微控制模塊以及通信模塊，光量傳感器將采集的光量數(shù)據(jù)經(jīng)過A/D轉(zhuǎn)換模塊轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號(hào)后傳輸至微控制模塊，微控制模塊讀取數(shù)據(jù)后傳輸至通信模塊，由通信模塊將光量數(shù)據(jù)通過無線網(wǎng)絡(luò)傳輸至處理單元。
[0029]為了使照度計(jì)70在具有浸潤介質(zhì)80的環(huán)境中使用，照度計(jì)70的表面具有防水涂層，防水涂層的厚度優(yōu)選為10 μ???100 μπι。此外，娃片40的表面也可涂覆有防水涂層，其中，防水涂層優(yōu)選為含氟基的材料，使用它疏水性接觸角達(dá)到107度，從而實(shí)現(xiàn)完全疏水。
[0030]本實(shí)施例中的照度計(jì)與處理單元連接，處理單元用于接收照度計(jì)70采集的光量值，并對(duì)其進(jìn)行分析處理，處理單元可設(shè)在照度計(jì)內(nèi)部，也可設(shè)在計(jì)算機(jī)的內(nèi)部，照度計(jì)通過無線網(wǎng)絡(luò)連接計(jì)算機(jī)，計(jì)算機(jī)內(nèi)的處理單元對(duì)采集的數(shù)據(jù)進(jìn)行分析處理。
[0031]為了更加便捷的查看照度計(jì)的檢測(cè)數(shù)據(jù)，照度計(jì)70可具有顯示單元，顯示單元用于顯示硅片40表面測(cè)量的光量值，此外，也可通過計(jì)算機(jī)屏幕查閱照度計(jì)檢測(cè)的光量值。
[0032]綜上所述，本實(shí)用新型提供的具有防水照度計(jì)的浸潤式光刻機(jī)，通過在照度計(jì)的表面設(shè)置防水涂層，使照度計(jì)可接觸浸潤介質(zhì)，避免了傳統(tǒng)照度計(jì)受到浸潤液的干擾，從而提高了照度計(jì)檢測(cè)光量的準(zhǔn)確性。
[0033]可以理解的是，雖然本實(shí)用新型已以較佳實(shí)施例披露如上，然而上述實(shí)施例并非用以限定本實(shí)用新型。對(duì)于任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言，在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案范圍情況下，都可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容對(duì)本實(shí)用新型技術(shù)方案作出許多可能的變動(dòng)和修飾，或修改為等同變化的等效實(shí)施例。因此，凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所做的任何簡單修改、等同變化及修飾，均仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種具有防水照度計(jì)的浸潤式光刻機(jī)，用于對(duì)硅片進(jìn)曝光，其包括從上往下依次設(shè)置的光源、掩膜板以及投射物鏡，所述投射物鏡的下方設(shè)有待曝光的硅片，其特征在于，還包括: 照度計(jì)，用于采集硅片表面投射的光量，放置在所述硅片的表面，所述照度計(jì)的表面涂覆有防水涂層； 處理單元，與所述照度計(jì)連接，用于接收所述照度計(jì)采集的光量值，并對(duì)其進(jìn)行分析處理； 浸潤部件，用于提供浸潤介質(zhì)，設(shè)于所述投射物鏡下方的圓周方向上，所述浸潤部件包括液體供應(yīng)管道以及液體回收管道，所述液體供應(yīng)管道以及液體回收管道分別設(shè)于所述投射物鏡的兩側(cè)，其中，浸潤介質(zhì)從液體供應(yīng)管道流出，并從液體回收管道回收，形成浸潤介質(zhì)的循環(huán)供給。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有防水照度計(jì)的浸潤式光刻機(jī)，其特征在于，所述照度計(jì)包括依次連接的光量傳感器、A/D轉(zhuǎn)換模塊、微控制模塊以及通信模塊，所述光量傳感器將采集的光量數(shù)據(jù)經(jīng)過A/D轉(zhuǎn)換模塊轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號(hào)后傳輸至微控制模塊，微控制模塊讀取數(shù)據(jù)后傳輸至通信模塊，由所述通信模塊將光量數(shù)據(jù)通過無線網(wǎng)絡(luò)傳輸至所述處理單元。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有防水照度計(jì)的浸潤式光刻機(jī)，其特征在于，所述防水涂層的厚度為10 μ m?100 μ m。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有防水照度計(jì)的浸潤式光刻機(jī)，其特征在于，所述硅片的表面涂覆有防水涂層。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有防水照度計(jì)的浸潤式光刻機(jī)，其特征在于，所述照度計(jì)具有顯示單元，所述顯示單元用于顯示娃片表面測(cè)量的光量值。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有防水照度計(jì)的浸潤式光刻機(jī)，其特征在于，所述處理單元設(shè)在所述照度計(jì)內(nèi)部。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有防水照度計(jì)的浸潤式光刻機(jī)，其特征在于，所述照度計(jì)通過無線網(wǎng)絡(luò)與計(jì)算機(jī)連接，所述計(jì)算機(jī)內(nèi)部設(shè)有處理單元。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有防水照度計(jì)的浸潤式光刻機(jī)，其特征在于，所述硅片被夾持在工件臺(tái)上。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種具有防水照度計(jì)的浸潤式光刻機(jī)，屬于半導(dǎo)體集成電路工藝技術(shù)領(lǐng)域，其包括從上往下依次設(shè)置的光源、掩膜板以及投射物鏡，投射物鏡的下方設(shè)有待曝光的硅片，還包括：用于提供浸潤介質(zhì)的浸潤部件、用于采集硅片表面投射的光量的照度計(jì)以及處理單元，照度計(jì)放置在硅片的表面，照度計(jì)的表面涂覆有防水涂層；處理單元與照度計(jì)連接，用于接收照度計(jì)采集的光量值，并對(duì)其進(jìn)行分析處理。本實(shí)用新型提供的具有防水照度計(jì)的浸潤式光刻機(jī)，通過在照度計(jì)的表面設(shè)置防水涂層，使照度計(jì)可接觸浸潤介質(zhì)，避免了傳統(tǒng)照度計(jì)受到浸潤液的干擾，從而提高了照度計(jì)檢測(cè)光量的準(zhǔn)確性。
【IPC分類】G03F7/20
【公開號(hào)】CN204807909
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520453913
【發(fā)明人】張 浩, 常歡
【申請(qǐng)人】上海華力微電子有限公司
【公開日】2015年11月25日
【申請(qǐng)日】2015年6月29日