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一種新型玻片載板的制作方法

文檔序號(hào):10406341閱讀:398來(lái)源:國(guó)知局
一種新型玻片載板的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本實(shí)用新型涉及一種新型玻片載板。
【背景技術(shù)】
[0002]顯微鏡已是常用儀器之一,通過(guò)顯微鏡完成樣品的檢驗(yàn),在現(xiàn)有技術(shù)中,樣品被擺放在玻片內(nèi),方便儲(chǔ)存,因此在檢驗(yàn)時(shí),是通過(guò)對(duì)玻片的觀察,顯微鏡在觀察時(shí),玻片被擺放在載物臺(tái)上,現(xiàn)有技術(shù)中的載物臺(tái)并沒(méi)有玻片的固定位置,因此玻片是靈活的,在觀察時(shí),需要通過(guò)手指調(diào)節(jié)玻片位置,以便于顯微鏡找準(zhǔn),但是該方式容易在玻片上留下指紋,影響觀察。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種新型玻片載板,該裝置可以有效的承載玻片,在調(diào)節(jié)玻片位置時(shí),只需要移動(dòng)載板本體即可,同時(shí)通過(guò)擦拭棉可以對(duì)玻片的上表面進(jìn)行擦拭,便于顯微鏡的觀察,避免誤下檢查結(jié)論。
[0004]為解決上述問(wèn)題,本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案:
[0005]—種新型玻片載板,包括載板本體,所述載板本體頂部的靠近右端位置處設(shè)置有玻片放置槽,所述載板本體的前、后端面上對(duì)稱(chēng)設(shè)置有滑槽,在兩側(cè)所述滑槽之間配合有擦拭模塊,所述擦拭模塊的底部的兩側(cè)位置處設(shè)置有配合所述滑槽的滑塊,所述擦拭模塊的底部設(shè)置有擦拭棉,所述載板本體的右端的底部位置處設(shè)置有玻片取出孔,所述玻片取出孔貫穿所述玻片放置槽,所述載板本體頂部的靠近左端位置處設(shè)置有施力槽。
[0006]優(yōu)選地,所述載板本體的左端位置處圓弧過(guò)渡。
[0007]優(yōu)選地,所述載板本體的頂部設(shè)置有第一限位顆粒和第二限位顆粒,所述第一限位顆粒靠近所述施力槽,所述第二限位顆粒靠近所述載板本體的右端,所述第一限位顆粒和所述第二限位顆粒與所述載板本體為一體式結(jié)構(gòu)。
[0008]優(yōu)選地,所述擦拭模塊的頂部設(shè)置有施力塊,所述施力塊與所述擦拭模塊為一體式結(jié)構(gòu)。
[0009]優(yōu)選地,所述施力槽貫穿所述載板本體。
[0010]本實(shí)用新型的有益效果是:該裝置可以有效的承載玻片,在調(diào)節(jié)玻片位置時(shí),只需要移動(dòng)載板本體即可,同時(shí)通過(guò)擦拭棉可以對(duì)玻片的上表面進(jìn)行擦拭,便于顯微鏡的觀察,避免誤下檢查結(jié)論,本裝置的結(jié)構(gòu)較為簡(jiǎn)單,成本較為低廉,適合推廣使用。
【附圖說(shuō)明】
[0011]為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見(jiàn)地,下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0012]圖1為本實(shí)用新型的俯視圖;
[0013]圖2為擦拭模塊的側(cè)視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0014]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)闡述,以使本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解,從而對(duì)本實(shí)用新型的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。
[0015]參閱圖1和圖2所示的一種新型玻片載板,包括載板本體I,所述載板本體I頂部的靠近右端位置處設(shè)置有玻片放置槽101,所述載板本體I的前、后端面上對(duì)稱(chēng)設(shè)置有滑槽(未圖示),在兩側(cè)所述滑槽之間配合有擦拭模塊2,所述擦拭模塊2的底部的兩側(cè)位置處設(shè)置有配合所述滑槽的滑塊201,所述擦拭模塊2的底部設(shè)置有擦拭棉202,所述載板本體I的右端的底部位置處設(shè)置有玻片取出孔211,所述玻片取出孔211貫穿所述玻片放置槽101,所述載板本體I頂部的靠近左端位置處設(shè)置有施力槽102。
[0016]本實(shí)用新型中一個(gè)較佳的實(shí)施例,所述載板本體I的左端位置處圓弧過(guò)渡。
[0017]本實(shí)用新型中一個(gè)較佳的實(shí)施例,所述載板本體I的頂部設(shè)置有第一限位顆粒111和第二限位顆粒112,所述第一限位顆粒111靠近所述施力槽102,所述第二限位顆粒112靠近所述載板本體I的右端,所述第一限位顆粒111和所述第二限位顆粒112與所述載板本體I為一體式結(jié)構(gòu)。
[0018]本實(shí)用新型中一個(gè)較佳的實(shí)施例,所述擦拭模塊2的頂部設(shè)置有施力塊222,所述施力塊222與所述擦拭模塊2為一體式結(jié)構(gòu)。
[0019]本實(shí)用新型中一個(gè)較佳的實(shí)施例,所述施力槽102貫穿所述載板本體I。
[0020]本實(shí)用新型的有益效果是:該裝置可以有效的承載玻片,在調(diào)節(jié)玻片位置時(shí),只需要移動(dòng)載板本體即可,同時(shí)通過(guò)擦拭棉可以對(duì)玻片的上表面進(jìn)行擦拭,便于顯微鏡的觀察,避免誤下檢查結(jié)論,本裝置的結(jié)構(gòu)較為簡(jiǎn)單,成本較為低廉,適合推廣使用。
[0021]以上顯示和描述了本實(shí)用新型的基本原理、主要特征和本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解,本實(shí)用新型不受上述實(shí)施例的限制,上述實(shí)施例和說(shuō)明書(shū)中描述的只是說(shuō)明本實(shí)用新型的原理,在不脫離本實(shí)用新型精神和范圍的前提下本實(shí)用新型還會(huì)有各種變化和改進(jìn),這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本實(shí)用新型范圍內(nèi)。本實(shí)用新型要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書(shū)及其等同物界定。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種新型玻片載板,其特征在于:包括載板本體,所述載板本體頂部的靠近右端位置處設(shè)置有玻片放置槽,所述載板本體的前、后端面上對(duì)稱(chēng)設(shè)置有滑槽,在兩側(cè)所述滑槽之間配合有擦拭模塊,所述擦拭模塊的底部的兩側(cè)位置處設(shè)置有配合所述滑槽的滑塊,所述擦拭模塊的底部設(shè)置有擦拭棉,所述載板本體的右端的底部位置處設(shè)置有玻片取出孔,所述玻片取出孔貫穿所述玻片放置槽,所述載板本體頂部的靠近左端位置處設(shè)置有施力槽。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型玻片載板,其特征在于:所述載板本體的左端位置處圓弧過(guò)渡。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型玻片載板,其特征在于:所述載板本體的頂部設(shè)置有第一限位顆粒和第二限位顆粒,所述第一限位顆粒靠近所述施力槽,所述第二限位顆??拷鲚d板本體的右端,所述第一限位顆粒和所述第二限位顆粒與所述載板本體為一體式結(jié)構(gòu)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型玻片載板,其特征在于:所述擦拭模塊的頂部設(shè)置有施力塊,所述施力塊與所述擦拭模塊為一體式結(jié)構(gòu)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型玻片載板,其特征在于:所述施力槽貫穿所述載板本體。
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種新型玻片載板,包括載板本體,所述載板本體頂部的靠近右端位置處設(shè)置有玻片放置槽,所述載板本體的前、后端面上對(duì)稱(chēng)設(shè)置有滑槽,在兩側(cè)所述滑槽之間配合有擦拭模塊,所述擦拭模塊的底部的兩側(cè)位置處設(shè)置有配合所述滑槽的滑塊,所述擦拭模塊的底部設(shè)置有擦拭棉,所述載板本體的右端的底部位置處設(shè)置有玻片取出孔,所述玻片取出孔貫穿所述玻片放置槽,所述載板本體頂部的靠近左端位置處設(shè)置有施力槽;該裝置可以有效的承載玻片,在調(diào)節(jié)玻片位置時(shí),只需要移動(dòng)載板本體即可,同時(shí)通過(guò)擦拭棉可以對(duì)玻片的上表面進(jìn)行擦拭,便于顯微鏡的觀察,避免誤下檢查結(jié)論。
【IPC分類(lèi)】G02B21/34
【公開(kāi)號(hào)】CN205318016
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201620034953
【發(fā)明人】黃公昌
【申請(qǐng)人】黃公昌
【公開(kāi)日】2016年6月15日
【申請(qǐng)日】2016年1月9日
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