納米壓印軟模板制備裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種軟模板制備裝置，具體涉及一種納米壓印軟模板制備裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]納米壓印技術(shù)，是微納米器件制作工藝中的一個(gè)重要技術(shù)，納米壓印技術(shù)最早由Stephen Y Chou教授在1995年率先提出，這是一種不同與傳統(tǒng)光刻技術(shù)的全新圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)。納米壓印技術(shù)的定義為:不使用光線或者輻照使光刻膠感光成形，而是直接在硅襯底或者其它襯底上利用物理學(xué)的機(jī)理構(gòu)造納米尺寸圖形。
[0003]圖形化藍(lán)寶石襯底(Patterned Sapphire Substrate，PSS)，也就是在藍(lán)寶石襯底上生長干法刻蝕用掩膜，用標(biāo)準(zhǔn)的光刻工藝將掩膜刻出圖形，利用ICP刻蝕技術(shù)刻蝕藍(lán)寶石，并去掉掩膜，再在其上生長GaN材料，使GaN材料的縱向外延變?yōu)闄M向外延。一方面可以有效減少GaN外延材料的位錯(cuò)密度，從而減小有源區(qū)的非輻射復(fù)合，減小反向漏電流，提高LED的壽命;另一方面有源區(qū)發(fā)出的光，經(jīng)GaN和藍(lán)寶石襯底界面多次散射，改變了全反射光的出射角，增加了倒裝LED的光從藍(lán)寶石襯底出射的幾率，從而提高了光的提取效率。綜合這兩方面的原因，使PSS上生長的LED的出射光亮度比傳統(tǒng)的LED大大提高，同時(shí)反向漏電流減小，LED的壽命也得到了延長。利用納米壓印技術(shù)取代傳統(tǒng)的光刻顯影技術(shù)制備PSS可以大大提高效率并降低成本。因此，用納米壓印技術(shù)制備PSS需要大量的壓印模板。
[0004]目前的壓印模板(即軟模板)制備裝置，容易造成液體態(tài)軟模板在裝置中的泄露，使得脫模時(shí)模板易粘住基座，增加了脫模時(shí)的難度。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供了一種可以防止流體態(tài)軟模板泄露，從而便于脫模的納米壓印軟模板制備裝置。
[0006]為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下:
[0007]納米壓印軟模板制備裝置，其包括:
[0008]基座，其上開設(shè)有作為內(nèi)圈的第一圓周槽，以及套于第一圓周槽外部的作為外圈的第二圓周槽；
[0009]模板，其放置于基座上并位于第一圓周槽內(nèi)；
[0010]密封圈，其嵌設(shè)于第一圓周槽內(nèi)且具有延伸至模板的表面的第一凸沿；
[0011]壓圈，其嵌設(shè)于第二圓周槽內(nèi)且具有延伸至密封圈的表面的第二凸沿，壓圈由驅(qū)動(dòng)單元驅(qū)動(dòng)沿著垂直方向進(jìn)行升降。
[0012]本實(shí)用新型通過在密封圈設(shè)置壓圈，并將該壓圈由驅(qū)動(dòng)單元驅(qū)動(dòng)沿著垂直方向進(jìn)行升降，從而可以使得密封圈可以更為緊密地結(jié)合在基座和模板部上，有效地防止液體態(tài)的軟模板流入到基座和密封圈的內(nèi)部，防止脫模時(shí)軟模板被粘住，脫模時(shí)，只需要啟動(dòng)驅(qū)動(dòng)單元驅(qū)動(dòng)壓圈升起，即可完成脫模，在脫模上更為方便。
[0013]因此，本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，可以有效地防止流體態(tài)軟模板泄露出來，從而可以更加便于脫模。
[0014]在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，本實(shí)用新型還可以作如下改進(jìn):
[0015]作為優(yōu)選的方案，上述的第一圓周槽的槽深小于第二圓周槽的槽深。
[0016]采用上述優(yōu)選的方案，可以使得壓圈的安裝更為穩(wěn)固，也可以更為緊密地壓住密封圈。
[0017]作為優(yōu)選的方案，上述的驅(qū)動(dòng)單元包括電機(jī)和導(dǎo)柱，電機(jī)的輸出軸連接壓圈，導(dǎo)柱穿設(shè)于壓圈內(nèi)。
[0018]采用上述優(yōu)選的方案，可以使得驅(qū)動(dòng)單元對壓圈的驅(qū)動(dòng)作用更為穩(wěn)定。
[0019]作為可選的方案，上述的驅(qū)動(dòng)單元包括氣缸和導(dǎo)柱，氣缸的輸出軸連接壓圈，導(dǎo)柱穿設(shè)于壓圈內(nèi)。
[0020]采用上述優(yōu)選的方案，可以使得驅(qū)動(dòng)單元對壓圈的驅(qū)動(dòng)作用更為穩(wěn)定。
[0021]作為優(yōu)選的方案，上述的壓圈與密封圈的接觸面為齒面配合。
[0022]采用上述優(yōu)選的方案，可以使得壓圈更為緊密地壓住密封圈。
【附圖說明】
[0023]圖1為本實(shí)用新型的納米壓印軟模板制備裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0024]圖2為本實(shí)用新型的納米壓印軟模板制備裝置在放入軟模板后的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0025]圖3為本實(shí)用新型的納米壓印軟模板制備裝置中的壓圈和密封圈的齒面配合示意圖。
[0026]其中，1.基座11.第一圓周槽12.第二圓周槽2.模板3.密封圈31.第一凸沿
4.壓圈41.第二凸沿42.驅(qū)動(dòng)單元43.導(dǎo)柱5.軟模板。
【具體實(shí)施方式】
[0027]下面結(jié)合附圖詳細(xì)說明本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式。
[0028]為了達(dá)到本實(shí)用新型的目的，如圖1-2所示，在本實(shí)用新型的納米壓印軟模板制備裝置的其中一些實(shí)施方式中，其包括:基座I，其上開設(shè)有作為內(nèi)圈的第一圓周槽11，以及套于第一圓周槽11外部的作為外圈的第二圓周槽12;模板2，其放置于基座I上并位于第一圓周槽11內(nèi)；密封圈3，其嵌設(shè)于第一圓周槽11內(nèi)且具有延伸至模板2的表面的第一凸沿31;壓圈4，其嵌設(shè)于第二圓周槽12內(nèi)且具有延伸至密封圈3的表面的第二凸沿41，壓圈4由驅(qū)動(dòng)單元42驅(qū)動(dòng)沿著垂直方向進(jìn)行升降。
[0029]本實(shí)施例通過在密封圈設(shè)置壓圈，并將該壓圈由驅(qū)動(dòng)單元驅(qū)動(dòng)沿著垂直方向進(jìn)行升降，從而可以使得密封圈可以更為緊密地結(jié)合在基座和模板部上，有效地防止液體態(tài)的軟模板流入到基座和密封圈的內(nèi)部，防止脫模時(shí)軟模板被粘住，脫模時(shí)，只需要啟動(dòng)驅(qū)動(dòng)單元驅(qū)動(dòng)壓圈升起，即可完成脫模，在脫模上更為方便。因此，與現(xiàn)有技術(shù)相比，可以有效地防止流體態(tài)軟模板泄露出來，從而可以更加便于脫模。
[0030]為了進(jìn)一步地優(yōu)化本實(shí)用新型的實(shí)施效果，如圖1-2所示，在本實(shí)用新型的旋轉(zhuǎn)式吹風(fēng)裝置的另一些實(shí)施方式中，在上述內(nèi)容的基礎(chǔ)上，上述的第一圓周槽11的槽深小于第二圓周槽12的槽深。采用該實(shí)施方式的方案，可以使得壓圈的安裝更為穩(wěn)固，也可以更為緊密地壓住密封圈。
[0031]為了進(jìn)一步地優(yōu)化本實(shí)用新型的實(shí)施效果，如圖1-2所示，在本實(shí)用新型的旋轉(zhuǎn)式吹風(fēng)裝置的另一些實(shí)施方式中，在上述內(nèi)容的基礎(chǔ)上，上述的驅(qū)動(dòng)單元42包括電機(jī)和導(dǎo)柱43，電機(jī)的輸出軸連接壓圈4，導(dǎo)柱43穿設(shè)于壓圈4內(nèi)，同時(shí)電機(jī)還可以替換為氣缸。采用該實(shí)施方式的方案，可以使得驅(qū)動(dòng)單元對壓圈的驅(qū)動(dòng)作用更為穩(wěn)定。
[0032]為了進(jìn)一步地優(yōu)化本實(shí)用新型的實(shí)施效果，如圖3所示，在本實(shí)用新型的旋轉(zhuǎn)式吹風(fēng)裝置的另一些實(shí)施方式中，在上述內(nèi)容的基礎(chǔ)上，上述的壓圈4與密封圈3的接觸面為齒面配合。采用該實(shí)施方式的方案，可以使得壓圈更為緊密地壓住密封圈。
[0033]以上所述的僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型創(chuàng)造構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.納米壓印軟模板制備裝置，其特征在于，包括: 基座，其上開設(shè)有作為內(nèi)圈的第一圓周槽，以及套于所述第一圓周槽外部的作為外圈的第二圓周槽； 模板，其放置于所述基座上并位于所述第一圓周槽內(nèi)； 密封圈，其嵌設(shè)于所述第一圓周槽內(nèi)且具有延伸至所述模板的表面的第一凸沿； 壓圈，其嵌設(shè)于所述第二圓周槽內(nèi)且具有延伸至所述密封圈的表面的第二凸沿，所述壓圈由驅(qū)動(dòng)單元驅(qū)動(dòng)沿著垂直方向進(jìn)行升降。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米壓印軟模板制備裝置，其特征在于，所述第一圓周槽的槽深小于所述第二圓周槽的槽深。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米壓印軟模板制備裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)單元包括電機(jī)和導(dǎo)柱，所述電機(jī)的輸出軸連接所述壓圈，所述導(dǎo)柱穿設(shè)于所述壓圈內(nèi)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米壓印軟模板制備裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)單元包括氣缸和導(dǎo)柱，所述氣缸的輸出軸連接所述壓圈，所述導(dǎo)柱穿設(shè)于所述壓圈內(nèi)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米壓印軟模板制備裝置，其特征在于，所述壓圈與所述密封圈的接觸面為齒面配合。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種納米壓印軟模板制備裝置，其包括：基座，其上開設(shè)有作為內(nèi)圈的第一圓周槽，以及套于第一圓周槽外部的作為外圈的第二圓周槽；模板，其放置于基座上并位于第一圓周槽內(nèi)；密封圈，其嵌設(shè)于第圓周槽內(nèi)且具有延伸至模板的表面的第一凸沿；壓圈，其嵌設(shè)于第二圓周槽內(nèi)且具有延伸至密封圈的表面的第二凸沿，壓圈由驅(qū)動(dòng)單元驅(qū)動(dòng)沿著垂直方向進(jìn)行升降。本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，可以有效地防止流體態(tài)軟模板泄露出來，從而可以更加便于脫模。
【IPC分類】G03F7/00
【公開號】CN205353570
【申請?zhí)枴緾N201620054145
【發(fā)明人】宋崇順, 史曉華
【申請人】蘇州光越微納科技有限公司
【公開日】2016年6月29日
【申請日】2016年1月20日