一種耐磨的透明材料的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本實(shí)用新型涉及一種耐磨的透明材料。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著社會(huì)的進(jìn)步和科技的發(fā)展，透明材料已經(jīng)被廣泛使用，比如窗戶玻璃、相框表面、展示柜透明面、手機(jī)屏幕，電腦顯示屏等，這些透明材料在使用過程中很容易被刮花或蹭花，影響美觀。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為了解決現(xiàn)有技術(shù)中的不足，本實(shí)用新型的目的在于提供一種表面帶高硬度膜層的耐磨的透明材料。
[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案:
[0005]—種耐磨的透明材料，包括透明基片，所述透明基片的至少一個(gè)表面設(shè)有厚度為10-50nm的高硬度層。
[0006]所述透明基片的兩個(gè)表面均設(shè)有厚度為10-50nm的高硬度層。
[0007]所述高硬度層為三氧化二鋁、氧化鋯、二氧化硅晶體或一氧化硅晶體電子槍蒸鍍成型。
[0008]所述透明基片為玻璃或樹脂成型。
[0009]本實(shí)用新型采用以上技術(shù)方案，高硬度層能夠有效提高觸摸顯示屏的耐磨性，可以防止其刮花。本實(shí)用新型耐磨的透明材料可以應(yīng)用作為窗戶玻璃、相框表面、眼鏡鏡片、手機(jī)屏幕、電腦顯示屏、儀表盤、照相機(jī)視窗等產(chǎn)品的透明面材，按照使用的需要在透明基片的一面或兩面設(shè)高硬度層，如此產(chǎn)品的透明面的表面具有高硬度性，防刮花效果好。本實(shí)用新型設(shè)計(jì)合理，實(shí)用性強(qiáng)。
【附圖說明】
[0010]以下結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步詳細(xì)說明:
[0011]圖1為本實(shí)用新型耐磨的透明材料的一種結(jié)構(gòu)分解示意圖；
[0012]圖2為本實(shí)用新型耐磨的透明材料的另一種結(jié)構(gòu)分解示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0013]如圖1-2之一所示，一種耐磨的透明材料，包括透明基片I，所述透明基片的至少一個(gè)表面設(shè)有厚度為10_5011111的高硬度層20
[0014]所述透明基片的兩個(gè)表面均設(shè)有厚度為10-50nm的高硬度層。
[0015]所述高硬度層為三氧化二鋁、氧化鋯、二氧化硅晶體或一氧化硅晶體電子槍蒸鍍成型。
[0016]所述透明基片I為玻璃或樹脂成型。
[0017]實(shí)施例1
[0018]如圖1所示，一種耐磨的透明材料，包括透明基片I，所述透明基片的一個(gè)表面設(shè)有厚度為10_50nm的三氧化二鋁層2。所述透明基片I為樹脂成型。
[0019]實(shí)施例2
[0020]如圖2所示，一種耐磨的透明材料，包括透明基片I，所述透明基片的兩個(gè)表面均設(shè)有厚度為10_50nm的高硬度層，分別為氧化鋯層2和二氧化硅晶體層3。所述透明基片I為玻璃成型。
[0021]實(shí)施例3
[0022]如圖1所示，一種耐磨的透明材料，包括透明基片I，所述透明基片的一個(gè)表面設(shè)有厚度為10_50nm的一氧化硅晶體層2。所述透明基片I為樹脂成型。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種耐磨的透明材料，包括透明基片，其特征在于:所述透明基片的至少一個(gè)表面設(shè)有厚度為10-50nm的高硬度層。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種耐磨的透明材料，其特征在于:所述透明基片的兩個(gè)表面均設(shè)有厚度為10_50nm的高硬度層。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種耐磨的透明材料，其特征在于:所述高硬度層為三氧化二鋁、氧化鋯、二氧化硅晶體或一氧化硅晶體電子槍蒸鍍成型。4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種耐磨的透明材料，其特征在于:所述透明基片為玻璃或樹脂成型。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種耐磨的透明材料，其包括透明基片，所述透明基片的至少一個(gè)表面設(shè)有厚度為10-50nm的高硬度層。所述高硬度層為三氧化二鋁、氧化鋯、二氧化硅晶體或一氧化硅晶體電子槍蒸鍍成型。所述透明基片為玻璃或樹脂成型。本實(shí)用新型采用以上技術(shù)方案，高硬度層能夠有效提高觸摸顯示屏的耐磨性，可以防止其刮花。本實(shí)用新型耐磨的透明材料可以應(yīng)用作為窗戶玻璃、眼鏡鏡片、手機(jī)屏幕、電腦顯示屏、儀表盤、照相機(jī)視窗等，按照使用的需要在透明基片的一面或兩面設(shè)高硬度層。本實(shí)用新型設(shè)計(jì)合理，實(shí)用性強(qiáng)。
【IPC分類】G02B1/14
【公開號(hào)】CN205374779
【申請?zhí)枴緾N201521140723
【發(fā)明人】吳曉彤, 方俊勇
【申請人】奧特路（漳州）光學(xué)科技有限公司
【公開日】2016年7月6日
【申請日】2015年12月31日