雙工件臺垂直曝光裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種雙工件臺垂直曝光裝置，包括至少一組曝光單元、分光鏡（3）、反射鏡（4），以及兩個用于固定工件的垂直工件臺Ⅰ（5）和工件臺Ⅱ（6）；所述曝光單元包括DMD微反射鏡陣列（1）和成像透鏡組（2）；所述分光鏡（3）置于曝光單元之后、工件臺之前；所述反射鏡（4）置于分光鏡（3）正下方。本雙工件臺垂直曝光裝置取消了單工件臺水平曝光的方式，取而代之的是垂直曝光雙工件臺，在不改變照明光路和曝光單元的基礎(chǔ)上，加入分光鏡及反光鏡，增加工件臺數(shù)量。本雙工件臺垂直曝光裝置在節(jié)約成本的同時大幅度提高了曝光效率。
【專利說明】
雙工件臺垂直曝光裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實用新型涉及一種曝光裝置，具體是一種雙工件臺垂直曝光裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前市場上主流的曝光機大多是單工件，水平放置曝光。曝光速度和曝光時間很難再有突破，導(dǎo)致效率低下。由于對曝光機高效率的要求，市場上都會通過提高曝光速度來減少曝光時間，這樣就要提高光源的能量，由此不僅成本會大幅度提高，還會影響曝光結(jié)果O
【實用新型內(nèi)容】
[0003]針對上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，本實用新型提供一種雙工件臺垂直曝光裝置，在不改變照明光路和曝光單元的基礎(chǔ)上，加入分光鏡及反光鏡，增加工件臺數(shù)量。本雙工件臺垂直曝光裝置在節(jié)約成本的同時大幅度提高曝光效率。
[0004]為了實現(xiàn)上述目的，本雙工件臺垂直曝光裝置包括至少一組曝光單元、分光鏡、反射鏡，以及兩個用于固定工件的垂直工件臺I和工件臺Π ;
[0005]所述曝光單元包括DMD微反射鏡陣列和成像透鏡組；
[0006]所述分光鏡置于曝光單元之后、工件臺之前；
[0007]所述反射鏡置于分光鏡正下方。
[0008]進一步，所述分光鏡為立體型分束鏡，對曝光單元所用的紫外光波段呈50%反射，50%透射。
[0009]進一步，所述反射鏡為45°直角三棱鏡，對分光鏡透射的50%紫外光全反。
[0010]進一步，所述工件臺I和工件臺Π分別位于所述分光鏡和反射鏡的正后方，對分光鏡和反射鏡出射的光進行曝光。
[0011]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本雙工件臺垂直曝光裝置取消了單工件臺水平曝光的方式，取而代之的是垂直曝光雙工件臺，在不改變照明光路和曝光單元的基礎(chǔ)上，加入分光鏡及反光鏡，增加工件臺數(shù)量。本雙工件臺垂直曝光裝置在節(jié)約成本的同時大幅度提高了曝光效率。
【附圖說明】
[0012]圖1是本實用新型的主體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013]圖2是圖1的側(cè)視圖；
[0014]圖中:1、DMD微反射鏡陣列，2、成像透鏡組，3、分光鏡，4、反射鏡，5、工件臺I，6、工件臺Π。
【具體實施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖對本實用新型做進一步說明。
[0016]如圖1和圖2所示，本雙工件臺垂直曝光裝置包括至少一組曝光單元、分光鏡3、反射鏡4，以及兩個用于固定工件的垂直工件臺15和工件臺Π 6;
[0017]所述曝光單元包括DMD微反射鏡陣列I和成像透鏡組2;
[0018]所述分光鏡3置于曝光單元之后、工件臺之前；
[0019]所述反射鏡4置于分光鏡3正下方。
[0020]進一步，所述分光鏡3為立體型分束鏡，對曝光單元所用的紫外光波段呈50%反射，50%透射。
[0021]進一步，所述反射鏡4為45°直角三棱鏡，對分光鏡3透射的50%紫外光全反。
[0022]進一步，所述工件臺15和工件臺Π6分別位于所述分光鏡3和反射鏡4的正后方，對分光鏡3和反射鏡4出射的光進行曝光。
[0023]本雙工件臺垂直曝光裝置的工作原理如下:
[0024]使用DMD微反射鏡陣列I進行翻轉(zhuǎn)，形成曝光圖像，通過成像透鏡組2的成像作用，將DMD微反射鏡陣列I的像成在相應(yīng)位置，在成像透鏡組2的出光口與所述DMD的像之間放置分光鏡3與反射鏡4，使所述DMD的像發(fā)生轉(zhuǎn)折，經(jīng)分光鏡3—半成在工件臺15上的工件上，另一半經(jīng)反射鏡4成在工件臺Π6上的工件上，工件臺15和工件臺Π6上的工件同時曝光相同的圖像。
[0025]綜上所述，本雙工件臺垂直曝光裝置取消了單工件臺水平曝光的方式，取而代之的是垂直曝光雙工件臺，在不改變照明光路和曝光單元的基礎(chǔ)上，加入分光鏡及反光鏡，增加工件臺數(shù)量。本雙工件臺垂直曝光裝置在節(jié)約成本的同時大幅度提高了曝光效率。
【主權(quán)項】
1.一種雙工件臺垂直曝光裝置，其特征在于， 包括至少一組曝光單元、分光鏡(3)、反射鏡(4)，以及兩個用于固定工件的垂直工件臺1(5)和工件臺Π (6); 所述曝光單元包括DMD微反射鏡陣列(I)和成像透鏡組(2); 所述分光鏡(3)置于曝光單元之后、工件臺之前； 所述反射鏡(4)置于分光鏡(3)正下方。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙工件臺垂直曝光裝置，其特征在于， 所述分光鏡(3)為立體型分束鏡，對曝光單元所用的紫外光波段呈50%反射，50%透射。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙工件臺垂直曝光裝置，其特征在于， 所述反射鏡(4)為45°直角三棱鏡，對分光鏡(3 )透射的50%紫外光全反。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙工件臺垂直曝光裝置，其特征在于， 所述工件臺1(5)和工件臺Π (6)分別位于所述分光鏡(3)和反射鏡(4)的正后方，對分光鏡(3)和反射鏡(4)出射的光進行曝光。
【文檔編號】G03F7/20GK205539932SQ201620208339
【公開日】2016年8月31日
【申請日】2016年3月18日
【發(fā)明人】平潔
【申請人】江蘇影速光電技術(shù)有限公司